一種履帶式x光檢測設備及物料分選裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于光電分選技術領域，尤其涉及一種X光檢測設備及使用該設備的物料分選裝置。
【背景技術】
[0002]檢測精度、產量與可靠性是X光機的三項關鍵指標。
[0003]檢測精度取決于探測器的分辨率、圖像處理器、識別算法和異物的剔除率(被剔除掉的異物個數/被識別的異物個數)。在不改變前三個條件的情況下，如果能提高剔除率(當然前提是不增加好料的帶出量)，則就提高了設備的實際檢測精度。
[0004]現有X光異物檢測設備的射源與探測器對立設置在履帶中部，剔除裝置位于傳送帶的尾端，物料由履帶傳輸，經過探測器位置時，探測器記錄信號。該信號由專門的處理器進行識別，控制剔除裝置進行動作，從物料中的將異物剔除。
[0005]待選物料需要經過履帶的一段加速之后，物料才能在履帶上穩定下來，從而在物料經過探測器的時候，才能夠形成一個清晰的圖像。當前普遍采用的X光異物結構是，履帶長度略大于處理器，射源設置在履帶中段上部。如果設備入口直接連接進料，則由于前端履帶不足夠長，待選物料在經過履帶加速到達探測器位置的時候還沒有穩定下來，就將導致拍攝的圖像不清楚，從而影響篩選的精度。而且物料在經過射源之后還要運動一段距離才能到執行機構的位置，在這段距離中物料可能轉動和/或平動，從而與前面拍攝下來的圖像不一致，再經過執行機構的動作，極大地增加了剔除物料的不準確性。
【發明內容】
[0006]本發明所要解決的技術問題之一在于提供一種能夠提高剔除物料的精度的履帶式X光檢測設備。
[0007]本發明所要解決的技術問題之二在于提供一種能夠提高剔除物料的精度的物料分選裝置。
[0008]本發明采用以下技術方案解決上述技術問題之一的:一種履帶式X光檢測設備，包括X光射源(1)、探測器(2)、處理器、履帶(10)以及剔除裝置(20)，所述X光射源(I)以及探測器(2)分別對立設置在履帶(10)的兩側，所述探測器(2)距履帶(10)的起始端的水平距離與探測器(2)距履帶(10)的末端的水平距離的比等于或者大于I。
[0009]作為優選的技術方案，所述剔除裝置(20)設置在緊靠近探測器(2)的位置，所述剔除裝置(20)與探測器(2)的水平距離介于5CM到50CM。
[0010]作為進一步優選的技術方案，所述剔除裝置(20)與探測器(2)之間的相對位置確定，共同固定在X光檢測設備的外殼內。
[0011]作為進一步優選的技術方案，所述X光射源(I)設置在物料分選裝置的履帶(10)的上方，探測器(2)對稱設置在履帶(10)的下方。
[0012]作為另一種優選的技術方案，所述X光射源(I)設置在物料分選裝置的履帶(10)的下方，探測器(2)對稱設置在履帶(10)的上方。
[0013]作為進一步優選的技術方案，X光射源(I)朝向履帶(10)的一側設置有限束器⑶。
[0014]作為進一步優選的技術方案，X光射源(I)的周向設置有防輻射的材料。
[0015]作為進一步優選的技術方案，所述剔除裝置(20)為噴閥。
[0016]作為進一步優選的技術方案，所述噴閥的噴氣口朝上或者朝下，所述噴閥噴氣的方向與物料運動的方向的夾角大于O度小于180度，優選的為90度。
[0017]本發明是采用以下技術方案解決上述技術問題之二的:一種物料分選裝置，包括供料器、滑道、履帶(10)、x光射源(1)、探測器(2)、處理器、以及剔除裝置(20)，所述X光射源⑴以及探測器⑵分別對立設置在履帶(10)的兩側，所述探測器(2)距履帶(10)的起始端的水平距離與探測器(2)距履帶(10)的末端的水平距離的比等于或者大于I。
[0018]本發明的優點在于:
[0019]1、增加了前端履帶加速長度，物料運動狀態趨于平穩后達到探測器的位置，物料平穩了，從檢測視點到剔除裝置這段距離內，不會發生偏移，或者是減少發生偏移，保證剔除異物的精準性，同時減少運動模糊現象，物料的平穩能保證圖像的清晰度，更利于識別，從而一定程度上改善了識別精度，最終反映到剔除精度的提高。
[0020]2、減小了檢測視點與剔除裝置間的距離，可靠地在相應的通道內剔除異物，極大程度地提高了異物的剔除率。
[0021]3、在X光射源的出射端增加一個X射線限束器，大大減少泄漏的輻射量。
[0022]4、探測器與剔除裝置一體化:不再是傳統的分離式結構，簡化了調試難度，提高了設備的可靠性，并且降低了整機輻射。
【附圖說明】
[0023]圖1是實施例一的履帶式X光檢測設備的應用結構示意圖。
[0024]圖2是實施例二的履帶式X光檢測設備的應用結構示意圖。
【具體實施方式】
[0025]以下結合附圖對本發明進行詳細的描述。文中的上、下、前端、末端等都是以附圖中的位置為基準的。
[0026]實施例一
[0027]請參照圖1，本實施例的履帶式X光檢測設備包括X光射源1、探測器2、處理器(圖未示)、履帶10，以及剔除裝置20，所述X光射源I設置在履帶10的上方，探測器2對立設置在履帶10的下方。當然，探測器2也可以設置在履帶10圍成的空間內。
[0028]作為優選的方式，為了防止X光射源I形成的X光的擴散，X光射源I朝向履帶10的一側設置有限束器3，為防止X光輻射，X光射源I的周向設置有防輻射的材料，如鉛，將X光射源I內置在防輻射材料中，剔除裝置20直接設置在X光檢測設備的外殼內，只要剔除裝置20，如噴閥設置靠近探測器I的位置，保證物料通過探測器2后在很短的時間內就完成剔除動作即可。
[0029]在本實施例中，X光射源1、探測器2和剔除裝置20均設置在履帶10的末端的附近，保證探測器I距履帶10的起始端(物料分選裝置的滑道30與履帶10的相接處)的水平距離a與探測器I距履帶10的末端的水平距離b的比等于或者大于I。
[0030]探測器2距離剔除裝置20的距離為5CM-50CM，優選距離為5CM-20CM，在一個最優選實施例中，其距離為10CM。
[0031]剔除裝置20可以是連接有供氣裝置的噴閥，噴閥可以根據實際需要控制其吹出氣體的方向及流量，其吹氣的方向與物料運動的方向之間有夾角，夾角為0-180°，也就是說噴閥可以向上或者向下吹氣，根據實際需要，噴閥可以設置在履帶10的上方也可以設置在履帶10的下方，在一個最優實施例，噴閥吹氣的方向與物料運動方向之間的夾角為90°左右。
[0032]該履帶式X光檢測設備的工作過程如下所述:物料從物料分選裝置的滑道30滑入履帶10上，經過履帶10的加速，物料到達探測器2的位置，探測器2采集物料的圖像信號，經由專門的處理器(圖未示)進行識別，最后處理器驅動剔除裝置20，剔除裝置20根據圖像信息剔除異物。
[0033]實施例二
[0034]請參照圖2，本實施例與實施例一的區別在于:所述X光射源I設置在履帶10的下方，探測器2對立設置在履帶10的上方。
[0035]作為優選的方式，為了防止X光射源I形成的X光的擴散，X光射源I朝向履帶10的一側設置有限束器3，當然為防止X光輻射，X光射源I的周向設置有防輻射的材料，如鉛，將X光射源I內置在防輻射材料中，剔除裝置20直接設置在X光檢測設備的外殼架上，只要剔除裝置20，如噴閥設置靠近X光射源I的位置，保證物料通過探測器2后在很短的時間內就完成剔除動作即可。
[0036]在本實施例中，X光射源1、探測器2和剔除裝置20均設置在履帶10的末端，保證探測器I距履帶10的起始端(物料分選裝置的滑道30與履帶10的相接處)的水平距離a與探測器I距履帶10的末端的水平距離b的比等于或者大于I。
[0037]優選的，所述剔除裝置(20)與探測器(2)之間的相對位置確定，共同固定在X光檢測設備的外殼內。探測器2距離剔除裝置20的距離為5CM-50CM，優選距離為5CM-20CM，在一個最優選實施例中，其距離為10CM。
[0038]剔除裝置20可以為連接有供氣裝置的噴閥，噴閥可以根據實際需要控制其吹出氣體的方向及流量，其吹氣的方向與物料運動的方向之間有夾角，夾角為0-180°，也就是說噴閥可以向上或者向下吹氣，根據實際需要，噴閥可以設置在履帶10的上方也可以設置在履帶10的