一種用于反應釜的加氫噴射器的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種真空設備領域，更具體地說，它涉及一種用于反應釜的加氫噴射器。
【背景技術】
[0002]目前，為了能夠讓反應釜內的反應更加完全，在反應釜的頂端經常需要增加一個噴射器，將位于反應釜頂部未反應完全的氫氣，抽吸到反應釜底部進行重復反應，現有的噴射器，大部分具有三個管口:動力源入口、吸入管口和排出管口，該結構的噴射器通過外吸口吸入氣體時，具有阻力大、吸氣量少等缺點，這樣的話，雖然在反應釜的頂端增加了一個噴射器，但是所起到效果仍然十分有限，為解決該問題，申請號為201220021373.3的實用新型專利公開了一種反應釜加氫噴射器，通過在接受室上開設若干小孔，減少了外吸時的吸氣阻力，使吸氣量更大，從而加速了反應速度，但是在使用時，有時候位于反應釜內的反應已經十分劇烈，此時則需要暫停加入氫氣，而且由于反應的時間段不同，所需要加入的氫氣的速度以及氫氣的量也是不同的，但是由于小孔的大小是不變的，無法起到相應的調節功能；同時，若不及時的實現孔的改變，則又無法實時的調整氫氣的通入量來配合反應釜內的反應。
【實用新型內容】
[0003]針對現有技術存在的不足，本實用新型的主要目的在于提供一種能逐個封住小孔、改變氫氣通入量的用于反應釜的加氫噴射器。
[0004]為實現上述主要目的，本實用新型采用如下技術方案:一種用于反應釜的加氫噴射器，包括依次同軸設置的接受室、混合室、喉管以及擴散室，所述接受室、混合室、喉管以及擴散室均相互連通，所述接受室位于反應釜內部的部分設有若干孔，所述孔沿所述接受室的深度方向延伸且處于同一直線上，所述接受室沿所述孔的分布方向上設有插槽，所述插槽內沿所述插槽的深度方向滑移連接有插條，所述插條上設有能逐個封住所述孔的封堵結構，所述插條上還設有用于讀取堵頭封住所述孔的個數的刻度線。
[0005]作為優選，所述封堵結構包括端面呈弧狀且與所述孔對應設置的堵頭，所述堵頭的中心處設有容納槽，所述容納槽的底壁與所述插條之間抵設有彈性件。
[0006]作為優選，所述封堵結構包括于所述孔對應設置的堵頭組，所述堵頭組包括端面均呈弧狀的正堵頭與反堵頭，所述正堵頭與反堵頭能相對滑移，所述正堵頭與反堵頭的接觸面的中心處均向內凹陷形成有安置腔，兩個所述安置腔的底壁上抵接有彈性件，所述正堵頭與反堵頭之間還設有用于防止所述正堵頭與反堵頭在相對滑移過程中脫離的限位結構。
[0007]作為優選，所述反堵頭上設有與所述安置腔同軸的環形槽，所述環形槽遠離所述安置腔的一側形成滑條，所述滑條上設有凸臺，所述正堵頭上設有與所述滑條相配合的滑槽，所述滑槽的側壁上設有與所述凸臺相配合的卡槽，所述滑條、凸臺、滑槽以及卡槽構成所述限位結構。
[0008]本實用新型相對現有技術相比具有:通過堵頭和彈簧的配合，可以方便的實現逐個封住小孔的目的，有效的改變了氫氣的通入量，快捷的實現了氫氣通入量的調節；而在實際的生產情況中，可以根據小孔來設置幾個通氫氣的檔位，進而通過堵頭和小孔的配合，再通過插條上刻度線的讀取，來實時的了解小孔被堵住多少，進而來實現檔位調節的氫氣通入量的功能，方便生產過程的控制，提高生產的效率；而堵頭組的設置，則能夠從插條的正、反兩個方向來進行對小孔的封堵，進一步減小了小孔和正堵頭、反堵頭之間的間隙，增強了小孔和堵頭組之間的密封性，減小了氫氣因間隙過大而依然較高量的持續進入接受室，來加快反應，致使達不到調節氫氣通入量的目的；卡槽和凸臺的配合，使得正堵頭和反堵頭并不能夠相互脫離，從而能夠有效避免堵頭組卡在小孔中的情況。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型用于反應釜的加氫噴射器實施例的結構示意圖；
[0010]圖2為圖1的內部結構示意圖；
[0011]圖3為圖2的剖面圖；
[0012]圖4為圖3中的A部放大結構示意圖；
[0013]圖5為圖3中的A部放大另一結構示意圖。
[0014]圖中:1、接受室；11、小孔；12、插槽；2、混合室；3、喉管；4、擴散室；5、插條；51、刻度線；6、堵頭；61、弧面；62、容納槽；7、彈簧；8、堵頭組；81、正堵頭；811、安置腔；812、滑槽；813、卡槽；82、反堵頭；821、環形槽；822、滑條；823、凸臺。
【具體實施方式】
[0015]參照圖1至圖5對本實用新型用于反應釜的加氫噴射器實施例作進一步說明。
[0016]一種用于反應釜的加氫噴射器，包括接受室1、混合室2、喉管3以及擴散室4，接受室1、混合室2、喉管3以及擴散室4均同軸，而且是依次設置的，接受室1、混合室2、喉管3以及擴散室4都是相互連通的，接受室I在反應釜內部的一部分開設有若干個小孔11，小孔11都是沿著接受室I的深度方向分布的，而且所有的小孔11都處于同一條直線上，接受室I在沿著小孔11的分布方向上開設有一個插槽12，在插槽12內插著一個插條5，插條5是可以在插槽12內沿著插槽12的深度方向滑動的，插條5上設置有若干個堵頭6，堵頭6和插槽12接觸的端面呈弧狀，即是一個弧面61，并且堵頭6的個數和小孔11 一一對應，在堵頭6的中心處開設有一個容納槽62，而容納槽62內則設置有一個彈簧7，彈簧7的一端固定在容納槽62的底壁上，而另一端則固定在插條5上，并且彈簧7是是在處于壓縮的狀態，插條5上還設置有刻度線51，刻度線51是用來讀取堵頭6封住小孔11的個數的。
[0017]初始狀態下，插條5上的堵頭6并未和小孔11配合(即堵頭6并不在小孔11內)，堵頭6在插槽12壁的作用下，會壓縮彈簧7，而當反應釜內的反應足夠劇烈，需要暫停或者