本實用新型涉及白炭黑生產技術領域,尤其涉及一種高分散二氧化硅連續打漿裝置結構。
背景技術:
白炭黑是白色粉末狀硅酸鹽產品的總稱,主要是指沉淀二氧化硅、氣相二氧化硅和超細二氧化硅凝膠,也包括粉末狀合成硅酸鋁和硅酸鈣等。白炭黑是多孔性物質,其組成可用SiO2·nH2O表示,其中nH2O是以表面羥基的形式存在,能溶于苛性堿和氫氟酸,不溶于水、溶劑和酸(氫氟酸除外),白炭黑耐高溫、不燃、無味、無嗅、具有很好的電絕緣性。
在生產白炭黑的過程中,需要將水洗壓濾后的二氧化硅顆粒進行打漿、破碎制成顆粒度細微的二氧化硅微粒。現有技術中一般是采用單獨的打漿機或使用幾個打漿機進行單獨打漿,現有的這種打漿機一般只能通過控制打漿電機的轉速控制打漿效果,其總體打漿需要時間長,打漿效率較低;對于加工高分散性、且顆粒微小的高分散白炭黑,現有的打漿機較難滿足使用要求。
技術實現要素:
為克服現有技術的不足,本實用新型提供了一種組合應用靈活,打漿效率高、打漿效果好的高分散二氧化硅連續打漿裝置結構。
本實用新型為達到上述技術目的所采用的技術方案是:一種高分散二氧化硅連續打漿裝置結構,包括依次相聯的第一打漿機、第二打漿機和第三打漿機,所述第一打漿機、第二打漿機和第三打漿機中分別設有打漿攪拌機構和驅動打漿攪拌機構的變頻驅動電機,所述第一打漿機連接有原料進料口,所述第一打漿機中設有能夠加速打漿的初級循環打漿泵,所述第一打漿機和第二打漿機之間設有初級過濾裝置和第一高速剪切輸送泵,所述第二打漿機中設有二級循環打漿泵,所述第二打漿機和第三打漿機之間設有二級過濾裝置和第二高速剪切輸送泵,所述第三打漿機中設有能夠循環打漿的第三循環打漿泵和高剪切膠體磨,所述第三打漿機中設有出料泵與漿料儲罐相連,所述變頻驅動電機、初級循環打漿泵、第一高速剪切輸送泵、二級循環打漿泵、第二高速剪切輸送泵、第三循環打漿泵和高剪切膠體磨連接一個控制器。
所述第三循環打漿泵和高剪切膠體磨之間設有控制閥和與所述第三打漿機相連的旁通管道;能夠根據需要單獨起停控制高剪切膠體磨是否啟用。
所述第一打漿機、第二打漿機和第三打漿機中的打漿攪拌機構中的攪拌槳各不相同。
所述初級過濾裝置和二級過濾裝置中設有便于清洗更換的過濾網片。
本實用新型的有益效果是:
1、通過設置連續的第一打漿機、第二打漿機和第三打漿機,第一打漿機、第二打漿機和第三打漿機中都設置打漿攪拌機構和變頻驅動電機,能夠單獨控制打漿參數,第一、第二打漿機中設置循環打漿泵,能夠在打漿時使罐體中的漿料加速循環流動,具有更好的打漿效果,第三打漿機中設置第三循環打漿泵和高剪切膠體磨,高剪切膠體磨能夠根據需要單獨控制,確保打漿效果好,打漿效率又高,適合加工高分散的二氧化硅;
2、三個連續的打漿機中的變頻驅動電機、初級循環打漿泵、第一高速剪切輸送泵、二級循環打漿泵、第二高速剪切輸送泵、第三循環打漿泵和高剪切膠體磨都通過控制器,能夠控制不同的打漿速度和時間等參數,確保打漿效果好;在也能夠根據需要控制選擇使用全部三個打漿機,或使用兩級打漿機,或只使用單個打漿機,組合使用靈活。
綜上所述,本實用新型組合應用靈活,打漿效率高、打漿效果好。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。其中:
圖1是本實用新型高分散二氧化硅連續打漿裝置結構的結構示意圖。
具體實施方式
為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特征、所實現目的及效果,以下結合實施方式并配合附圖詳細說明。
請參閱圖1所示,本實用新型高分散二氧化硅連續打漿裝置結構包括依次相聯的第一打漿機1、第二打漿機2和第三打漿機3,所述第一打漿機1、第二打漿機2和第三打漿機3中分別設有打漿攪拌機構11、21、31和驅動打漿攪拌機構11、21、31的變頻驅動電機12、22、32,所述第一打漿機1連接有原料進料口13,所述第一打漿機1中設有能夠加速打漿的初級循環打漿泵14,所述第一打漿機1和第二打漿機2之間設有初級過濾裝置4和第一高速剪切輸送泵5,所述第二打漿機2中設有二級循環打漿泵23,所述第二打漿機2和第三打漿機3之間設有二級過濾裝置6和第二高速剪切輸送泵7,所述第三打漿機3中設有能夠循環打漿的第三循環打漿泵33和高剪切膠體磨34,所述第三打漿機3中設有出料泵8與漿料儲罐9相連,所述變頻驅動電機12、22、32、初級循環打漿泵14、第一高速剪切輸送泵5、二級循環打漿泵23、第二高速剪切輸送泵7、第三循環打漿泵33和高剪切膠體磨34連接一個控制器10。
所述第三循環打漿泵33和高剪切膠體磨34之間設有控制閥35和與所述第三打漿機3相連的旁通管道36。
所述第一打漿機1、第二打漿機2和第三打漿機3中的打漿攪拌機構11、21、31中的攪拌槳各不相同。
所述初級過濾裝置4和二級過濾裝置6中設有便于清洗更換的過濾網片41、61。
以上所述僅為本實用新型的實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。