核電站化學清洗去污設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于核工業領域，涉及一種去污設備，具體涉及一種核電站化學清洗去污設備。
【背景技術】
[0002]核電站在高溫高壓環境下運行，循環回路的金屬腐蝕產物隨著冷卻劑迀移到堆芯并活化，然后再隨著冷卻劑回到循環回路在系統部件表面沉積，這樣在主回路系統材料表面布滿了放射性核素。為了減少檢修過程中人員的受照射劑量，需要對這些部件進行去污操作。
[0003]理想的化學去污工藝及設備希望可以達到最大去污因子、最少二次廢物、最少受照劑量和環境影響，同時還需要考慮用于去污的設備本身被污染及其清洗。此外對于不同去污對象及去污目的，可選擇不同去污工藝，比如，對在役核電站去污，要求去污工藝及過程不會對系統設備基材的腐蝕造成不良影響，而對退役核電站去污，要求具有最大去污因子不造成二次污染。核電站應用較廣泛的化學去污工藝主要有HP/CORD、AP-CITR0X、CAN-DECON/DEREM、LOMI, EMMAC及其改進方法。對于不同的去污對象、去污目的、去污環境等因素需要采用不同的去污工藝，因此，核電站需要模塊化、能根據需求組裝的去污設備來滿足不同去污情況。
【發明內容】
[0004]本發明目的是為了克服現有技術的不足而提供一種核電站化學清洗去污設備。
[0005]為達到上述目的，本發明所采用的技術方案為:一種核電站化學清洗去污設備，它包括:
配藥系統，所述配藥系統包括至少一個去污溶液儲存箱、與所述去污溶液儲存箱相連接的至少一個加藥器、安裝在所述去污溶液儲存箱上用于檢測其內溶液PH值的pH計；表面去污組件，所述表面去污組件包括與所述去污溶液儲存箱相連通的表面去污箱、安裝在所述表面去污箱上的第一自循環管路以及安裝在所述第一自循環管路上的第一栗，所述配藥系統和所述表面去污組件之間設置有控制其通斷的第一閥門；
內部去污組件，所述內部去污組件包括與所述去污溶液儲存箱相連通的內部去污箱、安裝在所述內部去污箱上用于外接循環回路的第二自循環管路以及安裝在所述第二自循環管路上的第二栗，所述配藥系統和所述內部去污組件之間設置有控制其通斷的第二閥門；
控制模塊，所述控制模塊分別與所述配藥系統、所述表面去污組件和所述內部去污組件相連接，用于對其進行自動化控制。
[0006]優化地，所述去污溶液儲存箱內安裝有用于對其中盛有的溶液進行加熱的加熱模塊以及用于對其中盛有的溶液進行混合攪拌的攪拌模塊。
[0007]優化地，所述控制模塊分別與所述加藥器、所述pH計、所述加熱模塊以及所述攪拌模塊相連接。
[0008]優化地，它還包括與所述第一自循環管路和所述第二自循環管路相連通的廢液組件。
[0009]進一步地，所述廢液組件與所述表面去污組件之間設置有控制其通斷的第三閥門，所述廢液組件與所述內部去污組件之間設置有控制其通斷的第四閥門。
[0010]由于上述技術方案運用，本發明與現有技術相比具有下列優點:本發明核電站化學清洗去污設備，通過將配藥系統分別與表面去污組件、內部去污組件，并將其與控制模塊相連接，能夠實現對核電站循環回路的化學清洗，該去污設備不僅適用在役核電站也適用退役核電站，不僅適用于核電站系統設備內表面的去污，也適用于外表面的去污，可用于不同去污工藝，各個系統可根據現場需要進行模塊化組合，它的適應性更強，并減少了再次污染。
【附圖說明】
[0011]圖1為本發明核電站化學清洗去污設備的結構示意圖；
其中，1、配藥系統；11、加藥器；12、pH計；13、去污溶液儲存箱；131、加熱模塊；132、攪拌模塊；2、表面去污組件；21、表面去污箱；22、第一自循環管路；23、第一栗；3、內部去污組件；31、內部去污箱；32、第二自循環管路；33、第二栗；4、控制模塊；5、廢液組件；6、第一閥門；7、第二閥門；8、第三閥門；9、第四閥門。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合附圖對本發明優選實施方案進行詳細說明。
[0013]如圖1所示的核電站化學清洗去污設備，主要包括配藥系統1、表面去污組件2、內部去污組件3和控制模塊4 ;表面去污組件2和內部去污組件3均與配藥系統I相連通，用于承接配藥系統I中配置的清洗溶液；控制模塊4則與配藥系統1、表面去污組件2和內部去污組件3相連接，用于對它們進行自動化控制。
[0014]其中，配藥系統I包括加藥器11、pH計12和去污溶液儲存箱13，加藥器11至少有一個，它與去污溶液儲存箱13相連接，用于將各種化學藥劑加入對應的去污溶液儲存箱13中，進行混合；pH計12安裝在去污溶液儲存箱13上，用于檢測其內溶液的pH值。表面去污組件2包括與去污溶液儲存箱13相連通的表面去污箱21、可拆卸地安裝在表面去污箱21上的第一自循環管路22以及安裝在第一自循環管路22上的第一栗23，在使用時將核電站的部件浸于表面去污箱21中，啟動第一栗23使得表面去污箱21中的清洗溶液經第一自循環管路22后再進入表面去污箱21，實現清洗溶液的循環運動，從而對核電站部件外表面進行沖洗。配藥系統I和表面去污組件2之間設置有第一閥門6，在去污溶液儲存箱13中的溶液全部進入表面去污組件2中后，關閉第一閥門6，隔斷配藥系統I和表面去污組件2后再啟動第一栗23。
[0015]內部去污組件3包括與去污溶液儲存箱13相連通的內部去污箱31、可拆卸地安裝在內部去污箱31上的第二自循環管路32以及安裝在第二自循環管路32上的第二栗33，第二自循環管路32用于與核電站循環回路相接，啟動第二栗33使得內部去污箱31中的清洗溶液經第二自循環管路32、循環回路、第二自循環管路32后再進入內部去污箱31，實現清洗溶液的循環運動，從而對核電站循環回路內表面進行沖洗。配藥系統I和內部去污組件3之間設置有第二閥門7，在去污溶液儲存箱13中的