一種基板清洗裝置的制作方法

本發明涉及顯示設備技術領域，特別涉及一種基板清洗裝置。

背景技術：

在液晶顯示裝置中，為了得到均勻的亮度和高的對比度,而必須使液晶板內的液晶分子按一定方向排列。在這個液晶顯示裝置的液晶盒制造技術中，pi(polyimide，聚酰亞胺)膜是由取向膜印刷機通過轉印版將取向膜印刷在tft(thinfilmtransistor，薄膜晶體管)和彩色濾光片基板上，然后固化成膜的。

假如在pi膜固化成膜、檢測及測量完成后，沒有及時的將積累的灰塵或異物清潔，后續生產出的產品將會在盒內產生異物，并且造成損失。因此，每次清潔時人員通過蘸有乙醇的無塵布，針對有異物的位置進行清潔，并通過肉眼觀測來判斷是否擦干凈。

總之，該檢測以及清潔方式存在諸多不足之處：1、清潔設備時，內部空間比較小，人員操作比較麻煩并且清潔效果不佳；2.基板進入設備進行檢測因為時間比較長，避免不了產生異物，現有設備無法解決并且人員難以發現；3.內部設備兩側沒有靜電消除器，檢測過程中會產生靜電；4.每次進入設備的基板一定會產生異物(在現場無法解決)，只有到檢測端進行檢測時才會發現并做出調查，在此期間生產的大量的產品極有可能不良；5.人員在宏觀和微觀檢測時設備震動比較大會產生異物。

技術實現要素：

本發明提供了一種基板清洗裝置，該基板清洗裝置可對基板表面的灰塵以及異物進行清潔，從而提高成品的合格率，提高生產效率。

為達到上述目的，本發明提供以下技術方案：

一種基板清洗裝置，包括：

基臺，所述基臺設有用于承載基板的承載面；

可相對于所述基臺沿與所述承載面平行的方向移動的清洗頭，所述清洗頭具有至少一個正壓腔室和至少一個負壓腔室，所述正壓腔室的開口朝向所述承載面以向放置于所述承載面的基板噴射清潔氣體；所述負壓腔室的開口朝向所述承載面以吸取進行清潔后的氣體；

連接所述正壓腔室和負壓腔室的管路組件，所述管路組件上設有風機和過濾組件。

本發明提供一種基板清洗裝置，上述基板清洗裝置包括基臺和可相對于基臺、沿與基臺的承載面平行的方向移動的清洗頭。由于連接正壓腔室與負壓腔室的管路組件上設有風機，當基板置于基臺的承載面，風機開啟后，正壓腔室向放置于承載面的基板噴射清潔氣體，負壓腔室吸取清洗頭與基板背離基臺承載面一側空間內的進行清潔后的氣體，該氣體以及基板上的部分灰塵以及異物在強吸力的作用下進入負壓腔室，并依次流經負壓腔室出風口、風機進風口、風機出風口、正壓腔室進風口進入正壓腔室，并再次經正壓腔室的開口排出。在該過程中位于正壓腔室與負壓腔室之間的過濾組件對負壓腔室吸入的氣體攜帶的灰塵以及異物進行過濾，去除基板背離基臺一側表面附著的灰塵及異物，提高清洗效率。上述基板清洗裝置，能夠有效的將基板上由于測量及檢測造成的異物去除，使得基板表面的潔凈度得到提高，從而有效地減少產品的次品率，提高生產效率。

因此，上述基板清洗裝置可對基板表面的灰塵以及異物進行清潔，從而提高成品的合格率，提高生產效率。

進一步地，所述正壓腔室的開口處設置有超聲波發生器。

進一步地，所述過濾組件包括設置于所述負壓腔室與所述風機的進風口之間的預過濾器和設置于所述風機的出風口與所述正壓腔室之間的高效過濾器。

進一步地，沿所述清洗頭的行進方向，每一個所述正壓腔室的前后均設置有一個負壓腔室。

進一步地，所述清洗頭包括一個清洗頭本體，所述清洗頭本體內設有沿與所述清洗頭行進方向垂直、且與所述承載面平行的方向排列的多個正壓腔，所述清洗頭本體內設置有第一管路、與所述第一管路連通且與所述正壓腔室一一對應的第一支管路，且所述第一管路與所述風機的出風口連接，且每一個所述正壓腔室與所述第一管路之間通過對應的第一支管路連接。

進一步地，所述管路組件中處于所述風機與所述清洗頭之間的部位包括與所述正壓腔室一一對應的管路，每一個所述正壓腔室之間通過對應的管路連接。

進一步地，所述基板清洗裝置還包括設置于所述基臺的承載面一側的防靜電裝置。

進一步地，所述基板清洗裝置還包括用于控制所述清洗頭動作的控制單元，所述控制單元控制所述清洗頭動作。

進一步地，所述控制單元包括設置于所述基臺的承載面一側、且用于檢測所述承載面上承載的基板表面的潔凈程度的顯微鏡機組。

進一步地，所述控制單元還包括設置于所述基臺的承載面一側的原點傳感器，所述原點傳感器用于確定所述基板清洗裝置的起始位置。

附圖說明

圖1為本發明實施例提供的基板清洗裝置結構示意圖；

圖2為本發明實施例提供的基板清洗裝置的清洗原理示意圖

圖3本發明實施例提供的基板清洗裝置循環主視圖；

圖4為本發明實施例提供的基板清洗裝置中清洗頭結構示意圖。

圖標：1-基臺；2-清洗頭；21-正壓腔室；22-負壓腔室；23-超聲波發生器；3-風機；4-防靜電裝置；5-傳動鏈；6-升降頂針；7-對位頂針；8-顯微鏡機組；9-原點傳感器。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

請參考圖1，本發明提供一種基板清洗裝置，包括：

基臺1，基臺1設有用于承載基板的承載面；

可相對于基臺1沿與承載面平行的方向移動的清洗頭2，清洗頭2具有至少一個正壓腔室21和至少一個負壓腔室22，正壓腔室21的開口朝向承載面以向放置于承載面的基板噴射清潔氣體；負壓腔室22的開口朝向承載面以吸取進行清潔后的氣體；

連接正壓腔室21和負壓腔室22的管路組件，管路組件上設有風機3和過濾組件。

本發明提供一種基板清洗裝置，上述基板清洗裝置包括基臺1和可相對于基臺1、沿與基臺1的承載面平行的方向移動的清洗頭2。由于連接正壓腔室21與負壓腔室22的管路組件上設有風機3，當基板置于基臺1的承載面，風機3開啟后，正壓腔室21向放置于承載面的基板噴射清潔氣體，負壓腔室22吸取清洗頭2與基板背離基臺1承載面一側空間內的進行清潔后的氣體，該氣體以及基板上的部分灰塵以及異物在強吸力的作用下進入負壓腔室22，并依次流經負壓腔室22出風口、風機3進風口、風機3出風口、正壓腔室21進風口進入正壓腔室21，并再次經正壓腔室21的開口排出。在該過程中位于正壓腔室21與負壓腔室22之間的過濾組件對負壓腔室22吸入的氣體攜帶的灰塵以及異物進行過濾，去除基板背離基臺1一側表面附著的灰塵及異物，提高清洗效率。上述基板清洗裝置，能夠有效的將基板上由于測量及檢測造成的異物去除，使得基板表面的潔凈度得到提高，從而有效地減少產品的次品率，提高生產效率。

因此，上述基板清洗裝置可對基板表面的灰塵以及異物進行清潔，從而提高成品的合格率，提高生產效率。

在上述技術方案的基礎上，作為一種優選實施方式，正壓腔室21的開口處設置有超聲波發生器23。

需要說明的是，負壓腔室22吸取基板清洗裝置與基板背離基臺1一側空間內的清潔后的氣體，該處氣體以及基板上的部分灰塵以及異物在強吸力的作用下進入負壓腔室22，并依次流經負壓強勢出風口、風機3進風口、風機3出風口、正壓腔室21進風口進入正壓腔室21，并再次經正壓腔室21的出口排出。在該過程中位于正壓腔室21內部的超聲波發生器23產生超聲波，由于超聲波發生器23具有掃頻功能，則通過在清洗過程中超聲波頻率在合理的范圍內往復掃動，可帶動從正壓腔室21的出口排出的清潔氣體形成細微回流，從而使基板背離基臺1一側表面附著的異物在被超聲剝離的同時迅速帶離工件表面，提高清洗效率。

在上述技術方案的基礎上，過濾組件包括設置于負壓腔室22與風機3的進風口之間的預過濾器和設置于風機3的出風口與正壓腔室21之間的高效過濾器。

需要說明的是，請參考圖2，負壓腔室22的開口吸取的清潔后的氣體攜帶灰塵以及異物，該氣體通過負壓腔室22與風機3進風口之間的預過濾器時，氣體攜帶的灰塵和異物被預過濾器過濾，預過濾器實現對氣體的初次過濾，減少氣體中所攜帶的灰塵以及異物含量，從而使得從風機3的出風口輸出的氣體相對潔凈。

之后，在正壓腔室21與風機3之間設置的高效過濾器使得經預過濾器進行初次過濾的氣體在進入正壓腔室21前被高效過濾器再次過濾，高效過濾器進一步提升氣體的清潔程度，從而使得經正壓腔室21出風口排出的用于清潔基板表面的氣體保持較高的清潔程度。

具體地，該結構使得整個氣體循環過程中，異物與灰塵始終處于被預過濾器以及高效過濾器過濾排除的狀態。該實施方式可加快本發明提供的基板清洗裝置的清潔速度。

需要說明的是，優選的，高效過濾器置于正壓腔室21的內部。

在上述技術方案的基礎上，請參考圖3，沿清洗頭2的行進方向，每一個正壓腔室21的前后均設置有一個負壓腔室22。

需要說明的是，在清洗頭2行進過程中，正壓腔室21噴出潔凈的氣體清潔基板，基板表面的異物以及灰塵被吸入負壓腔室22內部。沿清洗頭2的行進方向，正壓腔室21的前后均設置一個負壓腔室22的結構，使得正壓腔室21吹出的清潔基板表面后的攜帶灰塵以及異物的氣體盡可能的被負壓腔室22吸入，可加快基板清洗裝置對基板的清洗速度。

需要說明的是，正壓腔室21與風機3之間管路連接的結構形式存在多種可能，具體至少為以下幾種結構中的一種:

結構一：請參考圖4，清洗頭2包括一個清洗頭2本體，清洗頭2本體內設有沿與清洗頭2行進方向垂直、且與承載面平行的方向排列的多個正壓腔，清洗頭2本體內設置有第一管路、與第一管路連通且與正壓腔室21一一對應的第一支管路，且第一管路與風機3的出風口連接，且每一個正壓腔室21與第一管路之間通過對應的第一支管路連接。

需要說明的是，結構一中技術方案采用第一管路與風機3的出風口連接的形式，使得風機3的出風口輸出的風全部進入第一管路，第一管路通過與其連通的多根第一支管路將管路內部的風進一步輸出至與每根第一支管路一一對應連接的正壓腔室21內，從而實現管路內部氣體的分流。

上述結構減少了對管路的需求，從而減少了管路所占空間，使得整個裝置的結構更加緊湊，便于整個裝置的小型化設置。

結構二：管路組件中處于風機3與清洗頭2之間的部位包括與正壓腔室21一一對應的管路，每一個正壓腔室21之間通過對應的管路連接。

具體地，結構二中技術方案將風機3與每一個正壓腔室21之間通過管路連接，即風機3的出風口輸出的風在風機3的出風口處被分流至每根管路，每根管路將風輸送至與其一一對應的正壓腔室21內。

需要說明的是，結構二中技術方案使得風機3的出風口輸出至每根管路的風量均勻，即進入每個正壓腔室21內的風量均勻，利于多個正壓腔室21出風口輸出的風量大小及力度相近，使得本發明提供的基板清洗裝置在清洗基板表面的灰塵以及異物時，整個清洗頭2內的至少一個正壓腔室21出風口噴出的氣體對基板各處的清洗力度相同，從而使得清洗頭2在行進過程中均勻地清潔基板表面。

在上述技術方案的基礎上，請繼續參考圖1，本發明提供的基板清洗裝置還包括設置于基臺1的承載面一側的防靜電裝置4。

在上述技術方案的基礎上，請繼續參考圖1，本發明提供的基板清洗裝置還包括設在基臺1表面相對設置的傳動裝置，清洗頭2通過傳動裝置沿基臺1的延伸方向動作。

需要說明的是，清洗頭2通過傳動裝置在基臺1上移動、清洗基板表面。

優選的，傳動裝置為傳動鏈5。請繼續參考圖1，本發明提供的基板清洗裝置中的清洗頭2通過傳動鏈5沿基臺1的延伸方向動作，實現對基臺1表面基板的清潔。

需要說明的是，請繼續參考圖1，上述基臺1上設置有用于支撐基板的升降頂針6和用于校準基板放置位置的對位頂針7。

在上述技術方案的基礎上，作為一種優選實施方式，基板清洗裝置還包括用于控制清洗頭2動作的控制單元，控制單元控制清洗頭2動作。

當基板置于基臺1上，控制單元檢測基板背離基臺1一側表面清潔程度，當基板背離基臺1一側表面存在灰塵或者異物，控制單元開啟驅動裝置，驅動裝置驅動清洗頭2。

上述基板清洗裝置采用控制單元控制清洗頭2，使得整個裝置對基板表面的檢測與清潔工作連接緊密，提高了工序的連續性，可以提高生產效率。

在上述技術方案的基礎上，請繼續參考圖1，控制單元包括設置于基臺1的承載面一側、且用于檢測承載面上承載的基板表面的潔凈程度的顯微鏡機組8。

在上述技術方案的基礎上，請繼續參考圖1，本發明提供的控制單元還包括設置于基臺1的承載面一側的原點傳感器9，原點傳感器9用于確定基板清洗裝置的起始位置。

需要說明的是，控制單元還包括用于控制清洗頭2的編程程序。

上述基板清洗裝置在使用時的具體操作如下：

a.首先在正常測量及檢測完基板時，設備通過編程程序使清洗頭2在起始位置開始準備運行。

b.通過驅動裝置驅使清洗頭2由初始端移動到基板的另一端，同時清洗頭2進行清潔基板操作，使得基板上的異物與灰塵得到清除；同時在清潔過程的上方及基臺1邊緣安置有防靜電裝置4使基板表面的靜電得以消除。

c.設備清洗頭2運行到達基板的另一端時再返回重復剛才的動作，最終回到起始位置。

d.退出編程程序，設備清潔完成，基板正常排出。

顯然，本領域的技術人員可以對本發明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。