富氫水生成機的制作方法

本發明涉及的富氫水的制作設備技術領域，具體而言，涉及富氫水生成機。

背景技術：

富氫水，顧名思義就是富含氫氣的水。英文是hydrogenrichwater，日文是“水素水”。作為一種選擇性抗氧化物質，氫氣對很多疾病具有治療作用，具有十分廣泛的應用前景。

近年來，國內市場上富氫水、水素水產品漸多，富氫水、水素水的杯具也有所見，其中采用電解制氫的技術占有相當比例，包括相關的專利技術的涌現。在這些電解制氫杯具及其專利技術中，常見有水平布置的電極結構，如中國專利:申請號201510366113.8、申請號201510126957.5、201520051049.x等；也有上下布置的電極結構，如中國專利:申請號201520786526.7等。這兩種布置的電極結構其產品經實驗或實用，仍發現其不足現象。

現有技術中，富氫水生成機通常無法所制成的氫氣和氧氣均分散在水中，無法實現氫氣和氧氣的分離，如中國專利cn106115866a公開可一種分氣流的富氫水生成機及其使用方法。該富氫水生成機該水杯包括杯身、與杯身頂部可拆卸式連接的蓋體、與杯身底部密封固定連接的底座、安裝在杯身內的電解裝置，底座內安裝有供電模塊、pcb板；pcb板上設置有控制電路；底座的頂部設置有加熱環及溫度傳感器；蓋體包括儲水倉、設置在儲水倉底部的濾芯、與儲水倉頂部可拆卸式連接的瓶蓋；瓶蓋頂部設置有一泄氣閥；電解裝置包括一與底座底部連接的電極座、安裝在電極座頂部的集氣罩及從上至下安裝在電極座上的陰極板、第一隔離板、離子膜、第二隔離板、陽極片；陽極片下方的電極座上開設有通氣孔；供電模塊、溫度傳感器、加熱環、陰極板、陽極片分別與控制電路連接。然而，含有氧氣的水被飲用后對加速人體機體的老化，對人體產生一定的潛在危害。

技術實現要素：

有鑒于此，本發明實施例的目的在于提供一種富氫水生成機，該富氫水生成機在制氫時能實現氫氣和氧氣的分離。

一種富氫水生成機，包括支架和可拆卸地安裝于所述支架的氫氧分離膜組件；所述氫氧分離膜組件包括電解室，所述電解室內設有陰極片、陽極片和設置于所述陰極片和陽極片之間的透水隔氣膜，所述陰極片、陽極片圍成一電解區，所述透水隔氣膜用以將所述電解區分隔成氫產生區和氧產生區。

進一步地，所述透水隔氣膜為自增濕膜或微濾膜。

進一步地，所述陰極片和陽極片均為鈦片。

進一步地，所述電解室包括底座和上蓋，所述底座和上蓋蓋合以形成一容置所述陰極片、透水隔氣膜和陽極片的容置腔。

進一步地，所述電解室還包括用以安裝陽極片并且設置于所述電解區外的陽極安裝蓋。

進一步地，所述電解室還包括用以安裝陰極片并且設置于所述電解區外的陰極安裝蓋。

進一步地，所述陰極安裝蓋和陽極安裝蓋通蓋合以容置陰極片、透水隔氣膜和陽極片。

進一步地，還包括廢水收集裝置，所述廢水收集裝置包括廢水容置體和用以蓋合所述廢水容置體的開口的廢水蓋。

進一步地，所述廢水收集裝置還包括廢水柱、設置于廢水蓋并具有內腔的凸起柱、貫穿所述凸起柱的內腔的廢水柱、套設于所述廢水柱外周的彈簧、套設于廢水柱的頂端外周的用以密封凸起柱內腔頂端開口的密封帽，所述凸起柱的內腔設有限位凸緣，所述限位凸緣用以在當廢水柱被向頂端按壓時，使彈簧的一端抵接限位凸緣、另一端抵接廢水柱的底端并且使限位帽脫離蓋合凸起柱內腔頂端開口。

進一步地，所述廢水收集裝置還包括設置在廢水蓋和廢水容置體的開口之間的防水圈。

本發明的氫氧分離膜組件，在制氫時，陰極片產生的氫氣富集在氫產生區，陽極片產生的氧氣富集在氧產生區，透水隔氣膜阻隔了氫氣向氧產生區的擴散以及阻隔了氧氣向氫產生區的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離。

為使本發明的上述目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應當理解地是，以下附圖僅示出了本發明的成型裝置的某些實施例，因此不應被看作是對范圍的限定，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。

圖1示出了本發明實施例所提供的富氫水生成機的組裝示意圖。

圖2示出了本發明實施例所提供的富氫水生成機的爆炸示意圖。

圖3示出了本發明實施例所提供的氫氧分離膜組件的組裝示意圖。

圖4示出了本發明實施例所提供的氫氧分離膜組件的爆炸示意圖。

圖5示出了本發明實施例所提供的廢水收集裝置的組裝示意圖。

圖6示出了本發明實施例所提供的廢水收集裝置的爆炸示意圖。

圖7示出了本發明實施例所提供的限位柱的結構圖。

主要元件符號說明：

100—氫氧分離膜組件；20—陰極片；30—透水隔氣膜；40—陽極片；50—底座；60—上蓋；70—陰極安裝蓋；80—陽極安裝蓋；200—富氫水生成機；210—支架；220—廢水收集裝置；221—廢水容置體；222—廢水蓋；223—廢水柱；224—凸起柱；2241—限位凸緣；225—彈簧；226—密封帽；227—防水圈；228—防滑墊。

具體實施方式

為了便于理解本發明，下面將參照相關附圖對成型裝置進行更全面的描述。附圖中給出了成型裝置的首選實施例。但是，成型裝置可以以許多不同的形式來實現，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對成型裝置的公開內容更加透徹全面。

在本公開的各種實施例中使用的術語僅用于描述特定實施例的目的并且并非意在限制本公開的各種實施例。如在此所使用，單數形式意在也包括復數形式，除非上下文清楚地另有指示。除非另有限定，否則在這里使用的所有術語(包括技術術語和科學術語)具有與本公開的各種實施例所屬領域普通技術人員通常理解的含義相同的含義。所述術語(諸如在一般使用的詞典中限定的術語)將被解釋為具有與在相關技術領域中的語境含義相同的含義并且將不被解釋為具有理想化的含義或過于正式的含義，除非在本公開的各種實施例中被清楚地限定。

在本發明的描述中，需要理解的是，術語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。

在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。

在本發明的描述中，除非另有規定和限定，需要說明的是，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是機械連接或電連接，也可以是兩個元件內部的連通，可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語的具體含義。

在本公開的各種實施例中使用的表述(諸如“第一”、“第二”等)可修飾在各種實施例中的各種組成元件，不過可不限制相應組成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的順序和/或重要性。以上表述僅用于將一個元件與其它元件區別開的目的。例如，第一用戶裝置和第二用戶裝置指示不同用戶裝置，盡管二者都是用戶裝置。例如，在不脫離本公開的各種實施例的范圍的情況下，第一元件可被稱為第二元件，同樣地，第二元件也可被稱為第一元件。

應注意到：如果描述將一個組成元件“連接”到另一組成元件，則可將第一組成元件直接連接到第二組成元件，并且可在第一組成元件和第二組成元件之間“連接”第三組成元件。相反地，當將一個組成元件“直接連接”到另一組成元件時，可理解為在第一組成元件和第二組成元件之間不存在第三組成元件。

此外，本發明要素或組分前的不定冠詞“一種”和“一個”對要素或組分的數量要求(即出現次數)無限制性。因此“一個”或“一種”應被解讀為包括一個或至少一個，并且單數形式的要素或組分也包括復數形式，除非所述數量明顯旨指單數形式。

請參閱圖1至圖7。本發明實施例的富氫水生成機200，包括支架210和可拆卸地安裝于支架210的氫氧分離膜組件100；氫氧分離膜組件100包括電解室，電解室內設有陰極片20、陽極片40和設置于陰極片20和陽極片40之間的透水隔氣膜30，陰極片20、陽極片40圍成一電解區，透水隔氣膜30用以將電解區分隔成氫產生區和氧產生區。

上述實施例中，在制氫時，陰極片20產生的氫氣富集在氫產生區，陽極片40產生的氧氣富集在氧產生區，透水隔氣膜30阻隔了氫氣向氧產生區的擴散以及阻隔了氧氣向氫產生區的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離。

術語“電解區”是指具有電流通過的區域。術語“電解室”是指實施電解的物件。陰極片20、陽極片40和透水隔氣膜30被放置于電解室內。

上述透水隔氣膜30是指具有透水隔氣功能的膜。需要注意的是，此處隔氣是指隔離以氣泡形式存在的氣體，而非以分子狀態存在。電解水所產生的氫氣的機理是，水中的氫離子在陰極片20上得到電子而發生還原反應產生氣相，由于氣相與水相之間的界面差，所以生產的氫氣以氫氣泡分散在水中。以陰極的電流密度為2～6ma/cm²、電解在常壓下和電解水為中性為例，所產生的氫氣泡的尺寸呈高斯隨機分布在20～80微米范圍內。陽極片40產生的氧氣也以氣泡的形式存在，以陽極電流密度為2～6ma/cm2并且電解在常壓下為例，所產生的氣泡分布在40～100微米范圍內。因此，透水隔氣膜30的實現形式可以是具有截留尺寸小于氫氣泡和氧氣泡大小的任何形式的膜，即具有截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下。

具體而言，作為其中一種實施方式，透水隔氣膜30可以為截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下的濾膜。例如，微濾膜。微濾膜是指濾孔徑在0.1～1微米之間的過濾膜。微濾膜可以使用無機膜和有機高分子膜。無機膜可以為陶瓷膜和金屬膜。有機高分子膜可以為天然高分子膜和合成高分子膜，例如聚偏氟乙烯(pvdf)、聚砜(psf)、聚丙烯腈(pan)、聚氯乙烯(pvc)、聚丙烯(pp)等。根據膜的形式又分為平板膜、管式膜、卷式膜和中空纖維膜；根據制膜原理，高分子膜的制備方法分為溶出法(干-濕法)、拉伸成孔法、相轉化法、熱致相法，浸涂法、輻照法、表面化學改性法、核徑跡法、動力形成法等，無機膜的制備方法主要有溶膠—凝膠法、燒結法、化學沉淀法等。溶劑理解的是，此處采用的是具有絕緣性的微濾膜，較佳是有機高分子微濾膜。當然，濾膜還可以使用超濾膜等。

作為另外的實施方式，透水隔氣膜30為自增濕膜。自增濕膜是能允許液體水透過而其它介質無法通過的膜。自增濕膜可使用親水物質(例如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁粒子摻雜修飾的nafion膜)。

陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40三者可以不抵接，也可以是三者以抵接的方式，例如陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40依次疊加設置。

這里，“疊加設置”可以理解的是指多個具有層結構的物件(例如薄膜等)采用一者貼合于另一者表面的堆疊方式。以a、b、c、d依次疊加設置為例，是指a的一個表面設置b、b的表面設置c、c的表面設置d，即按照某一方向(例如從上至下)，a、b、c、d依次排列。

陰極片20和陽極片40可以鈦片。為了增強陰極片20和陽極片40的活性，可以在表面涂覆一些氧化物，如中國專利cn104562078a所述，具體為：涂層至少包含底層涂層和表層涂層，所述底層涂層包含鈦氧化物、銥氧化物和釕氧化物，所述表層涂層包含銥氧化物、釕氧化物、鈦氧化物、以及鈀、鉑中的一種或兩種元素的金屬或氧化物。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕、銥、鈦和鋯的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾比百分為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾百分比為釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層的厚度為5～15微米，表層涂層的厚度為1～5微米。

陽極片40和陰極片20可設置多孔，例如可設置蜂窩結構，以保證與水接觸的充分性。

上述電解室可以采用任何具有一容置空間的物件。例如，電解室可包括底座50和上蓋60，底座50和上蓋60蓋合以形成一容置陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40的容置腔。底座50和上蓋60蓋合的方式可以是通過一體化連接或不可拆卸的方式連接。

除此也可以采用可拆卸方式，以方便對陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40的更換。可拆卸的方式，可以是緊固件、滑接件、卡接件。此處，緊固件可列舉出法蘭件、螺接件等。

可舉出上述卡接件的一種實施結構，具體為：卡接件包括設置于第一安裝件的卡扣和設置于第二安裝件的卡孔，該卡扣與卡孔相配合。卡扣包括設置于第一安裝件的連接部以及位于連接部一端的彈性的卡扣部，卡孔周圍環繞有彈性的卡持部。卡扣部為一球體，卡扣為中空結構，形成有自連接部延伸至卡扣部的育孔，從而允許該第一卡扣件受到擠壓時發生彈性形變。卡扣可與第一安裝件一體成型。卡持部形成有多個缺口，缺口將卡持部分隔成相互獨立的卡持，從而使卡持部在受到外力作用時產生彈性形變。卡扣孔的直徑小于卡扣部的球徑。卡扣部插入卡孔時，卡持塊受到卡扣部的推力發生彈性變形向外擴張，使卡扣部穿過卡扣孔。卡扣部穿過卡孔，卡持塊及卡扣部均恢復原狀，卡扣部被卡持塊阻擋于卡孔外以將第一安裝件與第二安裝件固定。卡持部端部形成有倒角，以便拆卸第一殼體與第二安裝件時使卡扣部在外力作用下易于回至卡孔內。

上述卡接件還可列舉第二種實施結構(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡舌和卡扣。卡舌包括第一卡槽、第二卡槽和位于第一卡槽和第二卡槽之間的鉤形的鉤體，該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的結構的槽。卡扣包括第一插條、第二插條和位于第一插條、第二插條之間的鉤槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。當要實現卡舌同卡扣的卡緊時，該第一插條插入第一卡槽內，第二插條插入第二卡槽內，鉤體插入鉤槽，第一卡槽、第二卡槽、鉤槽的彈性保證第一插條、第二插條和鉤體的緊密接觸而達到了卡緊效果。

上述卡接件還可列舉第三種實施結構(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡座和卡舌，該卡座和卡舌相配合。于此，卡座和卡舌的形狀不做特別的限定，其結構的實施方式有很多。其中第一種實施方式為應用于背包帶的卡扣。具體為，卡座包括一卡槽。卡舌可為e字型，也就是說，該結構的卡舌包括第一插條、第三插條，和位于第一插條、第三插條之間的第二插條，第一插條和第三插條為彈性結構，在外力作用下二者可向第二插條靠攏，撤銷外力后，二者回復到原來的位置。第二插條可為彈性結構，也可為非彈性。與插舌結構對應地，卡槽的前部要寬于后部。此處，“前”指沿插舌進入方向。卡槽前部的寬度要略小于插舌的寬度，卡槽的后部寬度要明顯地小于插舌的寬度，如此可使得卡舌插入卡槽的過程中，當進入至卡槽的前部時，第一插條和第三插條被壓縮向第二插條靠攏，當進入至卡槽的后部時，由于卡槽的厚度為開放體，第一插條和第三插條自動向外彈開以從卡座內外露出。卡槽的當要實現卡舌和卡座的卡扣時，將卡舌插入卡槽中，這時，第一插條和第三插條外露于卡座；當要實現卡舌和卡座的拆卸時，只需捏合第一插條和第三插條以使得卡舌拔出于卡槽。

滑接件可包括設置在滑舌和與該滑舌配合以供滑舌滑動的滑軌。滑軌的形式可列舉出二種，第一種是兩條平行的凸條，凸條之間形成供滑舌卡入的滑動腔。為了使得滑舌更好地卡入滑動腔內，滑動腔為“凸”字形，于此對應地，滑舌也為該“凸”字形。滑軌的第二種形式為開設在底座50內部的滑孔。同理地，為了使得滑舌更好地卡入滑孔內，滑孔為“凸”字形，于此對應地，滑舌也為該“凸”字形。滑舌和滑軌中至少一者可為彈性結構。即，滑舌為可發生彈性形變的材質制成，諸如以丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等為代表的高彈性模量的橡膠材質，滑軌為剛性的金屬材質。或者地，滑軌為可發生彈性形變的材質制成，滑舌為剛性的金屬材質。或者地，二者均為可發生彈性形變的材質制成。

磁吸力扣件。此處顧名思義地磁吸力扣件是指通過磁力的吸引來促使上蓋60和底座50磁吸力扣件的一種實施結構為，其包括設置于上蓋60的第一磁鐵和設置于底座50的第二磁鐵。第一磁鐵和第二磁鐵可分別以粘接的形式在上蓋60和底座50上設置。在該種實施結構中，第一磁鐵和第二磁鐵之間的吸引力會將上蓋60貼合在底座50上，當然在一磁鐵和第二磁鐵之間的距離在磁力作用的有效范圍內。

磁吸力扣件的又一種實施結構為，其包括設置于上蓋60的一磁鐵和設置于底座50的鐵件(例如鐵片或鐵塊)。當然，鐵件和磁鐵的設置位置可互換，也就是說，磁鐵可設置在底座50上，鐵件可設置在上蓋60上。

磁吸力扣件的又一種實施結構為，其包括設置于上蓋60的一磁鐵和設置于底座50的電磁件。電磁件指通過電流可產生磁效應的裝置。電磁件還可按照公用的結構實現磁性變化(即n極和s極)來產生對磁鐵的吸力和排力，以產生驅動上蓋60與底座50的連接。

至于底座50和上蓋60的形式，可以采用圓形蓋和方形蓋等。

陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40可以直接容置于電解室中。當然還可通過設置安裝件將三者疊加設置。具體地，電解室還包括用以安裝陽極片40并且設置于電解區外的陽極安裝蓋80。陽極片40可以設置在陽極安裝蓋80的表面。至于安裝的方式可以通過緊固件。陽極安裝蓋80的主表面面積可大于陽極片40。

電解室還包括用以安裝陰極片20并且設置于所述電解區外的陰極安裝蓋70。陰極片20可以設置在陰極安裝蓋70的表面。至于安裝的方式可以通過緊固件。陰極安裝蓋70的主表面面積可大于陰極片20。

陰極安裝蓋70和陽極安裝蓋80通可以蓋合以容置陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40。至于蓋合的方式可以相同于底座50和上蓋60，于此不再詳述。

陰極安裝蓋70和陰極之間可以設置墊片。陽極安裝蓋80和陽極之間可以設置墊片。陰極安裝蓋70和上蓋60之間可以設置墊片。這些墊片的數量可以為一個或多個。墊片可以為圈狀等。

上述，氫氧分離膜組件設置在支架的可拆卸方式可以如底座50和上蓋60的可拆卸方式。

為了實現對氫氧分離膜組件所產生的水的收納，可設置廢水收集裝置220。廢水收集裝置220可包括廢水容置體221和用以蓋合該廢水容置體221的開口的廢水蓋222。

這里，廢水容置體221可以為圓筒狀，其內部具有空腔和圍成該空腔的外壁，空腔用以收集廢水。可以理解的是，此處廢水是氫氧分離膜組件所排出的氧氣所攜帶的水汽，前文已述，在制氫的過程中被分離出的氧氣以氣泡的形式排出，氧氣泡在從水中逸出的過程中會攜帶水汽。廢水容置體221的開口可以設置在廢水容置體221的底部中央位置。廢水容置體221的開口可以凸起結構的方式設置在廢水容置體221的外壁，凸起結構的外周可以設置螺紋，以使廢水蓋222螺接于廢水容置體221。

為了實現對氧氣排出的開或關，廢水收集裝置220還包括廢水柱223、設置于廢水蓋222并具有內腔的凸起柱224、貫穿凸起柱224的內腔的廢水柱223、套設于廢水柱223外周的彈簧225、套設于廢水柱223的頂端外周的用以密封凸起柱224內腔頂端開口的密封帽226，凸起柱224的內腔設有限位凸緣2241，限位凸緣2241用以在當廢水柱223被向頂端按壓時，使彈簧225的一端抵接限位凸緣2241、另一端抵接廢水柱223的底端并且使限位帽脫離蓋合凸起柱224內腔頂端開口。

這樣，當富氫水生成機200被放置時(例如放置在桌面時)，廢水柱223的底端被桌面向頂端的方向按壓直至彈簧225處于壓縮狀態，與此同時，彈簧225的一端抵接限位凸緣2241，另一端抵接廢水柱223的底端，密封帽226脫離蓋合凸起柱224內腔頂端開口的位置，廢水容置體221內的氧氣可以由廢水柱223和凸起柱224之間的間隙排出。當富氫水生成機200被拿起時，富廢水柱223的底端的按壓作用被撤去，在彈簧225大的壓縮彈力和廢水柱223自身的重力作用下，廢水柱223向底端方向移動直至密封帽226蓋合凸起柱224內腔頂端開口，氧氣無法進入凸起柱224的內腔，從而使得氧氣無法排出。

需要說明的是，廢水柱223的底端始終被限位在凸起柱224的內腔的外部，廢水柱223的頂端可自由伸入或伸出凸起柱224內腔。此處，廢水柱223的底端始終被限位在凸起柱224的內腔的外部的方式可以按照容易想象的任何公知的形式，如廢水柱223的底端的帽狀體，帽狀體的寬度大于凸起柱224的內腔。

廢水柱223的頂端可設有環形凹槽，以實現密封帽226的套設。密封帽226可為彈性圈。

上述限位凸緣2241可固設在凸起柱224的內表面。作為一種較為優選的實施方式，限位凸緣2241將凸起柱224的內腔分隔成第一子腔和第二子腔。第一子腔容置彈簧225，第二子腔用以供密封帽226處于蓋合凸起柱224內腔頂端開口的位置。

廢水收集裝置220還包括設置在廢水蓋222和廢水容置體221的開口之間的防水圈227。這樣避免廢水容置體221的水從廢水容置體221的開口的間隙中漏出。

還可在廢水蓋222的外表面設置防滑墊228，以使得富氫水生成機200放置時不容易滑動。需要說明的是，防滑墊228的厚度不能過高，否則當富氫水生成機200放置時，廢水柱223的底端便不會被按壓。

富氫水生成機200還可以包括設置在支架210的電路板和電源等。電源用以為氫氧分離膜組件供電。電路板實現電源和氫氧分離膜組件的電連接，電路板可設有用以實現將電源的輸入電流進行恒流的恒流電路，以及用以實現將電源的輸入電壓進行恒壓的恒壓電路。恒流電路和恒壓電路采用公知的技術。

上述未述及之處，適用于現有技術。

盡管以上較多使用了表示結構的術語，例如“透水隔氣膜”、“氫產生區”、“氧產生區”等，但并不排除使用其它術語的可能性。使用這些術語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發明的本質；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發明精神相違背的。

以上所述，僅為本發明的具體實施方式，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應所述以權利要求的保護范圍為準。