1.一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，包括頂部設有排氣口(9)、底部設有進水口(4)和上部設有凈化水出口(8)的催化氧化室(6)；其特征在于:所述催化氧化室(6)內部凈化水出口(8)下方設有臭氧催化劑填料層(7)；所述催化氧化室(6)的進水口(4)連接有三通管，其中一管口連接微納米氣泡發生裝置(2)，另一管口為排空口；所述微納米氣泡發生裝置(2)的進氣口連接臭氧發生器(3)，微納米氣泡發生裝置(2)的進水口連接頭孢制藥廢水源；所述微納米氣泡發生裝置(2)與頭孢制藥廢水源連接的管道上設有動力裝置(1)；所述催化氧化室(6)的排氣口(9)連接尾氣凈化裝置(10)；所述催化氧化室(6)的凈化水出口(8)連接排水裝置。
2.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：所述微納米氣泡發生裝置(2)的壓力為0.09～0.10MPa。
3.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：所述尾氣凈化裝置(10)為臭氧分解器。
4.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：所述臭氧催化劑填料層(7)的高度為120～180cm。
5.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：所述凈化水出口(8)與臭氧催化劑填料層(7)上端面的距離為35～65cm，凈化水出口(8)與排氣口(9)之間的距離為35～65cm。
6.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：催化氧化室所述催化氧化室(6)為中空塔體形狀。
7.根據權利要求1所述的一種臭氧催化氧化深度處理頭孢制藥廢水系統，其特征在于：所述臭氧催化劑填料層(7)的橫截面與催化氧化室(6) 內腔橫截面相同。