彎月面降低構件的制作方法
【專利說明】
[0001] 相關申請的交互參引
[0002] 本申請要求基于在2013年1月10日提交的共同未決的（co-pending)美國臨時 專利申請61/751，012的優先權的35USC120的權益，所述美國臨時專利申請的全部內容 通過援引加入的方式納入本文中。
技術領域
[0003] 本文中描述的實施方案涉及用于容納液體的容器，尤其涉及孔板（well-plate)， 特別涉及構造成當將含水液體置于孔中時彎月面曲率幅度（magnitude)減小的孔板。
【背景技術】
[0004]US2010/0067105(Egeler等人）公開了一種用于在容納液體的容器中的彎月面 降低構件，所述彎月面降低構件包括覆蓋所述容器的內表面的至少一部分的表面特征。所 述表面特征包括至少兩個用于接觸液體的表面，二者相互配合以通過物理性地改變液體和 所述表面特征之間的接觸角來減小在所述液體和所述表面特征之間的界面處形成的彎月 面的寬度。
[0005]US2010/0047845 (Woodside等人）公開了改進在細胞培養容器中進行的測定法 的方法。在一方面，該申請涉及減小彎月面曲率的方法，所述方法包括將涂覆材料涂覆于所 述容器的內壁，其中所述涂覆材料使得水溶液和培養基產生大約90度的后退接觸角。另一 方面，該申請涉及標記第一溶液中的細胞的方法，其中通過產生含有至少一種細胞標記劑 的第二溶液的小滴并使所述第二溶液的小滴與所述第一溶液的表面相接觸而標記第一溶 液中的細胞。
【發明內容】
[0006] 本
【發明內容】
意欲向讀者介紹接下來的更詳細的說明而不是限制或限定任何要求 保護的或迄今仍未要求保護的發明。一個以上發明可以在于本文件任何部分（包括其權利 要求和附圖）中公開的元件或方法步驟的任何結合或子結合（subcombination)。
[0007] 描述了對細胞培養容器的內壁表面進行物理表面改性以影響使得彎月面幅度減 小并在成像期間產生的光干擾減弱。細胞培養容器可以是任何容器，包括但不限于，細胞培 養皿或多孔板。
[0008] 根據本文中描述的教導的一個寬的方面，在用于容納液體的容器中使用的彎月面 降低構件可以包括物理表面特征，所述物理表面特征覆蓋了所述容器的內表面的至少一部 分以接合所述容器中液體的自由表面。所述物理表面特征可以包括第一內表面和第二內表 面，二者大致相互平行并彼此間隔開；并且包括至少一個第三表面，該第三表面在第一表面 和第二表面之間延伸。第三表面可以與第一表面和第二表面成一個角度并與二者相交。第 一表面、第二表面和第三表面的構造可物理性地改變液體和物理表面特征之間的后退接觸 角。
[0009] 可以將涂覆材料涂覆到物理表面特征的第一內表面、第二內表面和第三表面中的 至少一個表面上。所述涂覆材料的構造可化學性地改變液體與涂覆了所述涂覆材料的物理 表面特征的第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面之間的后退接觸角，借 此，在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以在約75度至110度 之間。
[0010] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角在約85度至95度 之間，任選地，可以為約90度。
[0011] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在無所述 涂覆材料存在的情況下所述液體與物理表面特征之間形成的后退接觸角更接近90度。
[0012] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在無所述 物理表面特征存在的情況下所述液體與涂覆了所述涂覆材料的容器的內表面的一部分之 間形成的后退接觸角更接近90度。
[0013] 所述涂覆材料可以是疏水的或超疏水的。
[0014] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在所述液 體與彎月面降低構件之間形成的固有接觸角更接近90度。
[0015] 當液體容納于容器中時，第一內表面可以位于第二內表面上方，并且通過第二內 表面與第三表面的相交可以限定階躍邊緣（stepedge)。
[0016] 第一內表面可以至少部分地用所述涂覆材料涂覆，而第二內表面基本上不涂覆所 述涂覆材料。
[0017] 第二內表面可以橫向地向內部偏離第一內表面。
[0018] 第三表面可以大致垂直于第一內表面和第二內表面。
[0019] 第三表面可以以斜角與第一內表面和第二內表面斜交成角。
[0020] 第三表面可以基本上是平面的。
[0021] 所述涂覆材料可以是基于硅氧烷的。
[0022] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的固有接觸角可以比在所述液 體與容器的內表面的一部分之間形成的未改變的固有接觸角更遠離90度。
[0023] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間的后退接觸角可以比在所述液體與 容器的內表面的一部分之間測量到的未改變的后退接觸角更接近90度。
[0024] 所述涂覆材料可以包括經交聯溶液交聯的至少63重量％的甲基全氟丁基乙基 硅氧烷、甲基氫硅氧烷、二甲基硅氧烷和甲基乙烯基硅氧烷，所述交聯溶液包括至少60重 量％的三甲基甲硅烷氧基封端的甲基（全氟丁基乙基）硅氧烷和三甲基甲硅烷氧基封端的 甲基氫硅氧烷。
[0025] 所述涂覆材料可以包含基于硅氧烷的涂料和基于納米顆粒的涂料中的至少一種。
[0026] 所述涂覆材料可以包含Dehesive和FluoroPel中的至少一種。
[0027] 根據本文中描述的教導的另一個寬的方面（該寬的方面可以與本文中教導的任 何其它方面結合使用），容器可以包括封閉的底壁和從所述底壁延伸到敞口的頂部部分的 側壁，二者用于在容器中保留一容積（avolume)的液體。側壁可以包括內表面。物理表面 特征可以覆蓋內表面的至少一部分以接合所述容器中液體的自由表面。所述物理表面特征 可以包括第一內表面和第二內表面，二者大致相互平行并彼此間隔開；并且包括至少一個 第三表面，該第三表面在第一表面和第二表面之間延伸。第三表面可以與第一內表面和第 二內表面相交。第一內表面、第二內表面和第三表面的構造可物理性地改變液體和彎月面 降低構件之間的后退接觸角。可以將涂覆材料涂覆到物理表面特征的第一內表面、第二內 表面和第三表面中的至少一個表面上。所述涂覆材料的構造可化學性地改變液體與涂覆了 所述涂覆材料的物理表面特征的第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面之 間的后退接觸角，借此，在所述液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸 角可以在約75度至110度之間。
[0028] 所述物理表面特征可以與容器的側壁成為一體。
[0029] 所述物理表面特征可以設置在被構造成安裝于容器中的單獨的嵌入構件之上。
[0030] 所述物理表面特征可以圍繞容器的內周連續地延伸。
[0031] 所述表面特征可以僅圍繞容器的內周的一部分延伸。
[0032] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角在約85度至95度 之間，任選地，可以為約90度。
[0033] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在無所述 涂覆材料存在的情況下所述液體與物理表面特征之間形成的后退接觸角更接近90度。 [0034]在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在無所述 物理表面特征存在的情況下所述液體與涂覆了所述涂覆材料的容器的內表面的一部分之 間形成的后退接觸角更接近90度。
[0035] 所述涂覆材料可以是疏水的或超疏水的。
[0036] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的后退接觸角可以比在液體與 彎月面降低構件之間形成的固有接觸角更接近90度。
[0037]當液體容納于容器中時，第一內表面可以位于第二內表面上方，并且通過第二內 表面與第三表面的相交可以限定階躍邊緣。
[0038] 第一內表面可以至少部分地用涂覆材料涂覆，而第二內表面基本上不涂覆所述涂 覆材料。
[0039] 第二內表面可以橫向地向內部偏離第一內表面。
[0040] 第三表面可以大致垂直于第一內表面和第二內表面。
[0041] 第三表面可以以斜角與第一內表面和第二內表面斜交成角。
[0042] 第三表面可以基本上是平面的。
[0043] 所述涂覆材料可以是基于硅氧烷的。
[0044]在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的固有接觸角可以比在所述液 體與容器的內表面的一部分之間形成的未改變的固有接觸角更遠離90度。
[0045] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間的后退接觸角可以比在所述液體與 容器的內表面的一部分之間測量到的未改變的后退接觸角更接近90度。
[0046] 所述涂覆材料可以包括經交聯溶液交聯的至少63重量％的甲基全氟丁基乙基 硅氧烷、甲基氫硅氧烷、二甲基硅氧烷和甲基乙烯基硅氧烷，所述交聯溶液包括至少60重 量％的三甲基甲硅烷氧基封端的甲基（全氟丁基乙基）硅氧烷和三甲基甲硅烷氧基封端的 甲基氫硅氧烷。
[0047] 所述涂覆材料可以包含基于硅氧烷的涂料和基于納米顆粒的涂料中的至少一種。
[0048] 所述涂覆材料可以包含Dehesive和FluoroPel中的至少一種。
[0049] 根據本文中描述的教導的另一個寬的方面（該寬的方面可以與本文中教導的任 何其它方面結合使用），一種提供在用于容納液體的容器中使用的彎月面降低構件的方法 可以包括以下步驟：
[0050]a)提供物理表面特征，所述物理表面特征具有第一內表面和第二內表面，二者大 致相互平行并彼此間隔開；并且具有至少一個第三表面，該第三表面在第一表面和第二表 面之間延伸，第三表面與第一內表面和第二內表面相交，所述物理表面特征的構造物理性 地改變液體和彎月面降低構件之間的后退接觸角；和
[0051]b)用表面涂覆材料至少部分地涂覆第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少 一個表面。所述涂覆材料的構造可化學性地改變液體與彎月面降低構件之間的后退接觸 角。
[0052] 所述方法還可以包括在將所述涂覆材料涂覆到所述第一內表面、第二內表面和第 三表面中的至少一個表面上的同時圍繞旋轉軸旋轉所述物理表面特征。
[0053] 旋轉軸與垂直軸（verticalaxis)的角度可以在約0度到約5度之間。
[0054] 可以將物理表面特征以約1到約25轉每分鐘的速率圍繞旋轉軸旋轉。
[0055] 所述方法還可以包括在將所述涂覆材料涂覆到第一內表面、第二內表面和第三表 面中的至少一個表面上之前，先將所述涂覆材料與溶劑混合以降低所述涂覆材料的粘度。
[0056] 所述方法還可以包括以下步驟：蒸發至少一部分的溶劑以及固化留在第一內表 面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面上的涂覆材料。
[0057] 可以將涂覆材料作為涂覆材料的一般連續珠（generallycontinuousbead)涂覆 到第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面上。
[0058] 所述方法還可以包括以下步驟：在涂覆所述涂覆材料的一般連續珠的同時軸向移 動彎月面降低構件，以在第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面上提供涂 覆材料的一般螺旋珠（generallyhelicalbead)。
[0059] 所述涂覆材料可以是疏水的或超疏水的。
[0060] 所述涂覆材料可以包含基于硅氧烷的涂料、基于納米顆粒的涂料、Dehesive和 FluoroPel中的至少一種。
[0061] 根據本文中描述的教導的一個寬的方面，在用于容納液體的容器中使用的彎月面 降低構件可以包括物理表面特征，所述物理表面特征覆蓋了容器的內表面的至少一部分以 接合所述容器中液體的自由表面。所述物理表面特征可以包括第一內表面和第二內表面， 二者大致相互平行并彼此間隔開；并且包括至少一個第三表面，該第三表面在第一表面和 第二表面之間延伸。第三表面可以與第一表面和第二表面成一個角度并與二者相交。第 一表面、第二表面和第三表面的構造可物理性地改變液體和物理表面特征之間的后退接觸 角。
[0062] 可以將涂覆材料涂覆到物理表面特征的第一內表面、第二內表面和第三表面中的 至少一個表面上。所述涂覆材料的構造可化學性地改變液體與涂覆了所述涂覆材料的物理 表面特征的第一內表面、第二內表面和第三表面中的至少一個表面之間的后退接觸角，在 與彎月面降低構件接觸的液體和與第一內表面平行的平面之間形成的界面角可以在約75 度至110度之間。
[0063] 在與彎月面降低構件接觸的液體和與第一內表面平行的平面之間形成的界面角 可以在約85度至95度之間，任選地，可以為約90度。
[0064] 在與彎月面降低構件接觸的液體和與第一內表面平行的平面之間形成的界面角 可以比在無所述涂覆材料存在的情況下在所述液體與物理表面特征之間形成的后退接觸 角更接近90度。
[0065] 在與彎月面降低構件接觸的液體和與第一內表面平行的平面之間形成的界面角 可以比在無所述物理表面特征存在的情況下在所述液體與涂覆了所述涂覆材料的容器的 內表面的一部分之間形成的后退接觸角更接近90度。
[0066] 所述涂覆材料可以是疏水的或超疏水的。
[0067] 在與彎月面降低構件接觸的液體和與第一內表面平行的平面之間形成的界面角 可以比在所述液體與彎月面降低構件之間形成的固有接觸角更接近90度。
[0068] 當液體容納于容器中時，第一內表面可以位于第二內表面上方，并且通過第二內 表面與第三表面的相交可以限定階躍邊緣。
[0069] 第一內表面可以至少部分地用所述涂覆材料涂覆，而第二內表面基本上不涂覆所 述涂覆材料。
[0070] 第二內表面可以橫向地向內部偏離第一內表面。
[0071] 第三表面可以大致垂直于第一內表面和第二內表面。
[0072] 第三表面可以以斜角與第一內表面和第二內表面斜交成角。
[0073] 第三表面可以基本上是平面的。
[0074] 涂覆材料可以是基于硅氧烷的。
[0075] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間形成的固有接觸角可以比在所述液 體與容器的內表面的一部分之間形成的未改變的固有接觸角更遠離90度。
[0076] 在液體與彎月面降低構件的第一內表面之間的后退接觸角可以比在所述液體與 容器的內表面的一部分之間測量到的未改變的后退接觸角更接近90度。
[0077] 所述涂覆材料可以包括經交聯溶液交聯的至少63重量％的甲基全氟丁基乙基 硅氧烷、甲基氫硅氧烷、二甲基硅氧烷和甲基乙烯基硅氧烷，所述交聯溶液包括至少60重 量％的三甲基甲硅烷氧基封端的甲基（全氟丁基乙基）硅氧烷和三甲基甲硅烷氧基封端的 甲基氫硅氧烷。
[0078] 所述涂覆材料可以包含基于硅氧烷的涂料和基于納米顆粒的涂料中的至少一種。
[0079] 所述涂覆材料可以包含Dehesive和FluoroPel中的至少一種。
【附圖說明】
[0080] 圖Ia為接觸角小