材料用丙二醇甲基酸乙酸醋沖洗并在100°C下烘烤60秒。將 PS-b-PMMA嵌段共聚物溶液如AZEIffiU^? Pme-19〇(可獲自AZElectronic Materials, 70Meister Ave,Somerville,NJ)涂覆在圖案化晶片上并在250°C下退火5分鐘。頂部薄膜的 檢測表明嵌段共聚物特征的成功自組裝。
[0066] 盡管已經參照特定實施例顯示和描述了本公開，對本發明所屬技術領域的技術人 員顯而易見的各種變化和修改落在所附權利要求中描述的主題的精神、范圍和涵蓋內容 中。
【主權項】
1. 用于沉積促進自組裝結構形成的底層的制劑，包含： a)包含至少一種具有W下結構的側位乙締基酸單體重復單元的聚合物其中R選自H、&-C4烷基或面素，并且W是選自C廣C6亞烷基、C6-C20亞芳基、亞芐基或C2-C20 亞烷基氧基亞烷基的二價基團；和 (b)溶劑。2. 根據權利要求1所述的制劑，進一步包含熱生酸劑，其優選不是梳或娜鹽。3. 權利要求2的制劑，其中一種或多種熱生酸劑選自取代或未取代的面代烷基化合物、 取代或未取代的燒控橫酸醋、取代或未取代的2-硝基芐基橫酸醋、伯胺的酸鹽、仲胺的酸 鹽、叔胺的酸鹽、二甲酯亞胺基橫酸醋、和朽橫酸醋，或其中一種或多種熱生酸劑選自對甲 苯橫酸二-Ci-Cs-烷基錠、十二烷基苯橫酸二-Ci-Cs-烷基錠、全氣下燒-1-橫酸二-Ci-Cs-燒 基錠、S氣甲橫酸；-〔廣C8-烷基錠、1，2，3-S (全氣C廣C8燒控橫酷基氧基)苯、1，2，3-S (&- C8燒控橫酷基氧基)苯、1，2,3-Ξ(對甲苯橫酷基氧基)苯、9,10-二甲氧基蔥-2-橫酸4-硝基 節醋、Ν-徑基鄰苯二甲酯亞胺Ξ氣甲橫酸醋、Ξ氣甲橫酸2-硝基節醋、Ξ氣甲橫酸4-硝基節 醋、全氣下燒橫酸2-硝基節醋、全氣下燒橫酸4-硝基節醋及包含前述至少一種的組合。4. 權利要求1至3之一的制劑，其中所述聚合物進一步包含一種或多種單體重復單元， 所述單體重復單元選自（甲基）丙締酸Ci-Cio烷基醋、苯乙締、乙締基化晚、下二締、異戊二 締、乙締、丙締、α-甲基苯乙締、衣康酸酢、馬來酸酢、馬來酸、衣康酸、甲基丙締酸徑乙醋、4- 徑基苯乙締、甲基丙締酸異冰片醋、（甲基倆締酷胺、（甲基)丙締臘、二甲基硅氧烷、環氧乙 燒、乙締、（甲基)丙締酸2-徑基乙醋和異下締。5. 權利要求1至4之一的制劑，其中所述聚合物是無規共聚物和/或其中所述聚合物進 一步包含一種或兩種選自苯乙締或甲基丙締酸甲醋的單體重復單元。6. 制造用于沉積促進自組裝結構形成的底層的制劑的方法，包括： a.攬拌混合物，所述混合物包含 i .包含至少一種具有W下結構的側位乙締基酸單體重復單元的聚合物其中R選自Η、&-C4烷基或面素，并且W是選自&-C6亞烷基、C6-C20亞芳基、亞芐基或C2-C20 亞烷基氧基亞烷基的二價基團； ii. 任選的熱生酸劑;和 iii. 溶劑； 其中該熱生酸劑不是梳或娜鹽，并且由此制備均勻溶液;和 b.用過濾器過濾所得均勻溶液。7. 權利要求6的方法，其中一種或多種熱生酸劑選自取代或未取代的面代烷基化合物、 取代或未取代的燒控橫酸醋、取代或未取代的2-硝基芐基橫酸醋、伯胺的酸鹽、仲胺的酸 鹽、叔胺的酸鹽、二甲酯亞胺基橫酸醋、和目虧橫酸醋。8. 權利要求6或7的方法，其中所述聚合物進一步包含一種或多種單體重復單元，所述 單體重復單元選自（甲基）丙締酸Ci-Ci偏基醋、苯乙締、乙締基化晚、下二締、異戊二締、乙 締、丙締、曰-甲基苯乙締、衣康酸酢、馬來酸酢、馬來酸、衣康酸、甲基丙締酸徑乙醋、4-徑基 苯乙締、甲基丙締酸異冰片醋、（甲基）丙締酷胺、（甲基）丙締臘、二甲基硅氧烷、環氧乙燒、 乙締、（甲基)丙締酸2-徑基乙醋和異下締。9. 權利要求6至8之一的方法，其中所述聚合物是無規共聚物和/或其中所述聚合物進 一步包含一種或兩種選自苯乙締或甲基丙締酸甲醋的單體重復單元。10. 在嵌段共聚物薄膜中引導倍增圖案的方法，所述方法包括： a. 提供具有兩個或多個自發分離的嵌段的嵌段共聚物； b. 提供襯底； C.在所述襯底上涂覆用于沉積第一涂層的第一制劑并熱固化所述第一涂層;和 d.在至少一部分固化的第一涂層上設置所述嵌段共聚物； 其中所述第一制劑包含（i)包含至少一種具有W下結構的側位乙締基酸單體重復單元 的第一聚合物其中R選自H、&-C4烷基或面素，并且W是選自&-C6亞烷基、C6-C20亞芳基、亞芐基或C2-C20 亞烷基氧基亞烷基的二價基團；（ii)任選的熱生酸劑;和(iii)溶劑。11. 權利要求10的方法，進一步包括： e. 在設置所述嵌段共聚物之前，通過光刻法在固化的第一涂層中形成圖案;和 f. 任選由包含第二聚合物的第二制劑在圖案中提供第二涂層，并隨后用沖洗溶液沖 洗。12. 權利要求11的方法，其中第二制劑包含（i)包含至少一種具有W下結構的側位乙締 基酸單體重復單元的第二聚合物：其中R選自H、&-C4烷基或面素，并且W是選自C廣C6亞烷基、C6-C20亞芳基、亞芐基或C2-C20 亞烷基氧基亞烷基的二價基團；（i i)任選的熱生酸劑;和(i i)溶劑。13. 權利要求11或12的方法，其中，第一涂層是釘扎層并且第二涂層是中性層。14. 權利要求10至13之一的方法，其中所述第一聚合物進一步包含至少一種單體重復 單元，其選自（甲基）丙締酸Ci-Ci偏基醋、苯乙締、乙締基化晚、下二締、異戊二締、乙締、丙 締、α-甲基苯乙締、衣康酸酢、馬來酸酢、馬來酸、衣康酸、甲基丙締酸徑乙醋、4-徑基苯乙 締、甲基丙締酸異冰片醋、（甲基)丙締酷胺、（甲基)丙締臘、二甲基硅氧烷、環氧乙燒、乙締、 (甲基）丙締酸2-徑基乙醋或異下締，和/或其中所述第二聚合物進一步包含單體重復單元 的至少一種組合，所述組合選自（甲基)丙締酸甲醋和苯乙締、下二締和（甲基)丙締酸下醋、 下二締和二甲基硅氧烷、下二締和（甲基）丙締酸甲醋、下二締和乙締基化晚、異戊二締和 (甲基)丙締酸甲醋、異戊二締和乙締基化晚、（甲基）丙締酸下醋和（甲基）丙締酸甲醋、（甲 基)丙締酸下醋和乙締基化晚、（甲基)丙締酸己醋和乙締基化晚、異下締和（甲基)丙締酸下 醋、異下締和二甲基硅氧烷、異下締和（甲基）丙締酸甲醋、異下締和乙締基化晚、異戊二締 和環氧乙燒、（甲基倆締酸下醋和乙締基化晚、乙締和（甲基)丙締酸甲醋、（甲基倆締酸甲 醋和（甲基)丙締酸下醋、苯乙締和下二締、苯乙締和（甲基)丙締酸下醋、苯乙締和二甲基娃 氧燒、苯乙締和異戊二締、苯乙締和乙締基化晚、乙締和乙締基化晚、乙締基化晚和（甲基） 丙締酸甲醋、環氧乙燒和異戊二締、環氧乙燒和下二締、環氧乙燒和苯乙締、環氧乙燒和（甲 基)丙締酸甲醋、（甲基)丙締酸2-徑基乙醋和下二締、（甲基)丙締酸2-徑基乙醋和（甲基)丙 締酸下醋、（甲基）丙締酸2-徑基乙醋和二甲基硅氧烷、（甲基）丙締酸2-徑基乙醋和乙締、 (甲基）丙締酸2-徑基乙醋和（甲基）丙締酸己醋、（甲基）丙締酸2-徑基乙醋和異下締、（甲 基炳締酸2-徑基乙醋和異戊二締、（甲基)丙締酸2-徑基乙醋和苯乙締、（甲基)丙締酸2-徑 基乙醋和乙締基化晚、（甲基倆締臘和下二締、（甲基倆締臘和（甲基炳締酸下醋、（甲基） 丙締臘和二甲基硅氧烷、（甲基倆締臘和環氧乙燒、（甲基)丙締臘和乙締、（甲基倆締臘和 (甲基）丙締酸己醋、（甲基）丙締臘和（甲基）丙締酸2-徑基乙醋、（甲基）丙締臘和異下締、 (甲基)丙締臘和異戊二締、（甲基)丙締臘和（甲基)丙締酸甲醋、（甲基)丙締臘和苯乙締或 (甲基)丙締臘和乙締基化晚。15.權利要求11至13之一的方法，其中，第一涂層是中性層并且第二涂層是釘扎層。
【專利摘要】本文中公開的是用于沉積促進自組裝結構形成的固化底層的制劑。該底層包含：(a)包含至少一種具有結構(I)的側位乙烯基醚單體重復單元的聚合物：其中R選自H、C1-C4烷基或鹵素，并且W是選自C1-C6亞烷基、C6-C20亞芳基、亞芐基或C2-C20亞烷基氧基亞烷基的二價基團；(ii)任選的熱生酸劑；和(c)溶劑。本發明還涉及使用該底層形成圖案的方法。
【IPC分類】C08F220/14
【公開號】CN105555815
【申請號】CN201480051160
【發明人】吳恒鵬, 殷建, 林觀陽, 金志勛, 單檻會
【申請人】Az電子材料盧森堡有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2014年9月24日
【公告號】US9093263, US20150093912, WO2015044215A1