1.大致呈圓形的高分子超薄膜，其膜厚為10nm～1000nm，大小為30nm以上且50μm以下的范圍。
2.權利要求1所述的大致呈圓形的高分子超薄膜，其中，前述大小為大于1μm且為25μm以下的范圍。
3.權利要求2所述的大致呈圓形的高分子超薄膜，其中，前述大小為15μm以下的范圍。
4.權利要求1～3中任一項所述的大致呈圓形的高分子超薄膜，其中，前述高分子為聚D,L-乳酸。
5.大致呈圓形的高分子超薄膜的制造方法，其包括：
將彼此不相混合的2種高分子以任意的比例溶解于第1溶劑而得到溶液的步驟，
將所得溶液涂布于基體后，從涂布于該基體的溶液中除去第1溶劑，由此得到相分離為海島結構的高分子超薄膜的步驟，和
將前述高分子超薄膜浸漬于作為海部的高分子的良溶劑并且作為海部以外的高分子的不良溶劑的第2溶劑而除去海部，由此得到膜厚為10nm～1000nm，大小為30nm以上且50μm以下的范圍的大致呈圓形的高分子超薄膜的步驟。
6.自支持性的多孔高分子超薄膜，其膜厚為10nm～1000nm。
7.權利要求6所述的多孔高分子超薄膜，其中，30nm～50μm大小的孔以5×10-3個/μm2～50個/μm2的密度存在于表面。
8.權利要求7所述的多孔高分子超薄膜，其中，前述孔的大小為大于1μm且為25μm以下的范圍。
9.權利要求8所述的多孔高分子超薄膜，其中，前述孔的大小為15μm以下的范圍。
10.權利要求6～9中任一項所述的多孔高分子超薄膜，其中，孔徑分布至少為±20%。
11.權利要求6～10中任一項所述的多孔高分子超薄膜，其中，多孔高分子超薄膜的孔徑與膜厚之比，即孔徑/膜厚為0.1～50，孔徑和膜厚的單位為μm。
12.權利要求6～11中任一項所述的多孔高分子超薄膜，其中，高分子為選自多羥基烷酸、多羥基烷酸的共聚物、聚（酯-醚)、脂肪族二羧酸與脂肪族二元醇的聚酯、聚酰胺、聚氨酯、多糖類酯、聚（丙烯酸酯）、聚（甲基丙烯酸酯）、聚苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、和聚硅氧烷中的至少1種。
13.多孔高分子超薄膜的制造方法，其包括：
將彼此不相混合的2種高分子以任意的比例溶解于第1溶劑而得到溶液的步驟，
將所得溶液涂布于基體后，從涂布于該基體的溶液中除去第1溶劑，由此得到相分離為海島結構的高分子超薄膜的步驟，和
將前述高分子超薄膜浸漬于作為島部的高分子的良溶劑并且作為島部以外的高分子的不良溶劑的第2溶劑而除去島部，由此得到膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜的步驟。
14.多孔高分子超薄膜的制造方法，其包括：
將作為原料的高分子溶解于該高分子的良溶劑與沸點較該良溶劑高的不良溶劑以任意比例混合而成的混合溶劑而得到溶液的步驟，和
將所得溶液涂布于基體，從涂布于該基體的溶液中除去混合溶劑，由此得到膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜的步驟。
15.膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜的制造方法，其包括：
將高分子溶解于溶劑而得到溶液的步驟，
將溶液涂布于具有凹凸的基體后，從涂布于該基體的溶液中除去溶劑，由此得到高分子超薄膜的步驟，和
在不會使高分子超薄膜溶解的溶劑中將具有凹凸的基體溶解而除去的步驟。
16.權利要求15所述的方法，其中，具有凹凸的基體是具有分散固定了微粒的高分子薄膜的基體，
從涂布于前述基體的溶液中除去溶劑而得到高分子超薄膜后，在不會使高分子超薄膜溶解的溶劑中將具有分散固定了微粒的高分子薄膜的基體溶解除去而得到多孔高分子超薄膜。
17.權利要求16所述的方法，其中，微粒為選自聚苯乙烯粒子、二氧化硅粒子、葡聚糖粒子、聚乳酸粒子、聚氨酯微粒、聚丙烯酸類粒子、聚乙烯亞胺粒子、白蛋白粒子、瓊脂糖粒子、氧化鐵粒子、氧化鈦微粒、氧化鋁微粒、滑石微粒、高嶺土微粒、蒙脫石微粒、和羥磷灰石微粒中的至少1種粒子。
18.權利要求16或17所述的方法，其中，微粒具有20nm～3000nm的直徑。
19.多孔高分子超薄膜的制造方法，其包括：
將高分子溶解于溶劑而得到溶液的步驟，
使微粒分散于溶液而得到分散液的步驟，
將前述分散液涂布于基體后，從涂布于該基體的分散液中除去溶劑而得到高分子超薄膜的步驟，和
將所得高分子超薄膜浸漬于能夠溶解前述微粒的溶劑中，除去該微粒而得到膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜的步驟。
20.權利要求19所述的方法，其中，微粒為選自無機鹽、二氧化硅、滑石、高嶺土、蒙脫石、聚合物、金屬氧化物、和金屬中的至少1種。
21.多孔高分子超薄膜的制造方法，其特征在于，將在基體上構建的高分子超薄膜加溫至玻璃化轉變溫度以上，然后用另外準備的具有凹凸的基體壓迫該高分子超薄膜，由此得到膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜。
22.多孔高分子超薄膜的制造方法，其特征在于，將作為原料的高分子溶解而得到溶液，使微小氣泡分散于所得溶液，將分散有微小氣泡的溶液涂布于基體，從涂布于基體的溶液中除去溶劑，由此得到膜厚為10nm～1000nm的自支持性的多孔高分子超薄膜。
23.基體與水溶性犧牲膜與多孔高分子超薄膜的復合體，其中，基體上具有水溶性犧牲膜，該水溶性犧牲膜上具有權利要求6～12中任一項所述的多孔高分子超薄膜。
24.基體與多孔高分子超薄膜與水溶性支持膜的復合體，其中，基體上具有權利要求6～12中任一項所述的多孔高分子超薄膜，多孔高分子超薄膜上具有水溶性支持膜。
25.多孔高分子超薄膜與水溶性支持膜的復合體，其中，權利要求6～12中任一項所述的多孔高分子超薄膜上具有水溶性支持膜。
26.自支持性的多孔高分子超薄膜的制造方法，其特征在于，用水將權利要求23～25中任一項所述的復合體的水溶性犧牲膜或水溶性支持膜除去，由此在水中得到多孔高分子超薄膜。
27.權利要求26所述的多孔高分子超薄膜的制造方法，其特征在于，將前述多孔高分子超薄膜抄取至其它基體，將水從抄取的多孔高分子超薄膜除去，得到干燥狀態的多孔高分子超薄膜。
28.網格物與多孔高分子超薄膜的復合體，其中，網格物上具有權利要求6～12中任一項所述的多孔高分子超薄膜。
29.網格物與多孔高分子超薄膜的復合體的制造方法，其特征在于，用網格物抄取以權利要求26所述的方法制造的自支持性的多孔高分子超薄膜，制造多孔高分子超薄膜與網格物的復合體。
30.多孔高分子超薄膜與無孔高分子超薄膜的復合體，其具有1片以上的權利要求6～12中任一項所述的多孔高分子超薄膜與1片以上無孔高分子超薄膜。