防眩光玻璃的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及一種具有防眩光功能的玻璃的制造方法。
【背景技術】
[0002]液晶顯示器(IXD)或有機電致發光器件(0LED)等顯示設備中存在由于室內照明燈光、太陽光等戶外光線的映射而導致視覺辨認度變差這一問題。
[0003]為了解決上述問題，目前實施的是對薄膜或玻璃表面設置細微凹凸這一防眩光處理(以下記載為“AG處理”)。另外，使用霧度值(濁度)作為表示AG處理效果的指標。霧度值小(接近0)則模糊程度降低，從而透明性變高。
[0004]作為AG處理，目前已提出有例如通過浸泡在氫氟酸水溶液中而進行的濕蝕刻法使玻璃表面變粗糙的方法(日本公報、特開2000-114772號)。
[0005]但是，在僅利用濕蝕刻法的情況下，出于玻璃等的搖動或蝕刻溶液的液流的原因，會出現蝕刻不均勻，從而難以在玻璃等的表面上形成細密的凹凸。其結果是，存在無法獲得良好的AG效果，從而無法制造霧度值低的玻璃等這一問題。
[0006]【現有技術文獻】
[0007]【專利文獻】
[0008]專利文獻1:日本公報、特開2000-114772號
【發明內容】
[0009]本發明的目的在于提供一種能夠獲得良好的AG效果且霧度值低的玻璃的制造方法。
[0010]本發明涉及的防眩光玻璃的制造方法的特征在于:在對玻璃表面至少噴射磨料和壓縮空氣而進行了噴射(blasting)處理后，接著進行蝕刻處理。
[0011]根據上述本發明，在進行蝕刻處理之前，利用磨料和壓縮空氣對玻璃表面實施噴射處理。該處理是以在玻璃表面上形成尖銳且細密的凹凸為目的而實施。
[0012]作為適宜的一實施方式，例示了在上述噴射處理中進一步使用液體的方式。
[0013]實施添加液體的噴射處理的情況下，由于液體的存在，使得磨料不會直接碰觸玻璃等的表面，因此無需擔心玻璃上產生較深瑕疵。
[0014]另外，即使磨料存在粒徑分布，也不會直接導致表面凹凸不均勻，而是能夠有效地進行之后的蝕刻處理。另外，由于是在通過噴射處理使玻璃表面平坦之后進行濕蝕刻，因此，與只進行濕蝕刻時相比，能夠抑制蝕刻的不均勻，從而能夠制造可獲得良好的AG效果且霧度值低的玻璃等。另外，能夠減小算術平均粗糙度(記載為“Ra”)，并且，能夠通過使從顯示設備發出的透射光細密地漫射而消除被稱為“眩光”的顯示不清晰的問題。
[0015]作為適宜的一實施方式，例示了通過在蝕刻槽內使蝕刻液循環而進行上述蝕刻處理的方式。
[0016]作為適宜的一實施方式，例示了在上述噴射處理進行之后且蝕刻處理進行之前，實施清洗及干燥處理的方式。
[0017]根據該實施方式，通過上述清洗及干燥處理預先清潔蝕刻處理面，從而能夠進一步謀求蝕刻的均勻化。
[0018]作為適宜的一實施方式，例示了上述蝕刻液中至少含有氟化氫溶液、硫酸以及純水的方式。
[0019]作為適宜的一實施方式，例示了上述蝕刻液中至少含有氯化氫、硝酸、檸檬酸中的任意一者的方式。
[0020]根據上述的實施方式，能夠制造出可獲得良好的AG效果且霧度值低的玻璃等。
[0021](發明效果)
[0022]根據本發明，能夠制造出可獲得良好的AG效果且霧度值低的玻璃等。另外，能夠減小算術平均粗糙度(記載為“Ra”)，并且，能夠通過使從顯示設備發出的透射光細密地漫射而消除被稱為“眩光”的顯示不清晰的問題。
【附圖說明】
[0023]圖1是噴射處理后的顯微照片(X2500)。
[0024]圖2是蝕刻處理后的顯微照片(X 2500)。
【具體實施方式】
[0025]本發明的實施例記載如下。
[0026]【實施例1】
[0027]< 工序 1>
[0028]使用濕噴裝置(日本Macoho C0.，Ltd.$丨」、WFB-460)并以下述條件對玻璃板(日本旭硝子株式會社制、招娃酸鹽玻璃“dragontrail (注冊商標)” 370mmX470mm、厚度1.1mm)進行了表面加工。
[0029]〇噴嘴寬:370mm
[0030]〇液體冰
[0031]〇磨料:氧化招磨料(日本Macoho C0.，Ltd.制、Macorundum A#2000)
[0032]〇磨料濃度:10wt% (介質為R0水)
[0033]〇氣壓:0.2MPa
[0034]〇噴嘴移動速度:5mm/s
[0035]〇噴射距離:70mm
[0036]〇加工次數'2次
[0037]表面加工是通過將水、磨料、壓縮空氣混合且從投射噴槍中高速噴射到玻璃板上而進行。具體而言，在料漿槽內攪拌水和磨料使兩者混合，并且從一個導入口導入投射噴槍中。另一方面，將利用壓縮機壓縮后的壓縮空氣從另一個導入口導入投射噴槍中。
[0038]水、磨料以及壓縮空氣在投射噴槍中被混合，并且從寬幅的噴嘴被向作為處理對象的玻璃板噴射。由此進行玻璃板的表面加工。
[0039]其顯微照片如圖1所示。
[0040]以前述條件實施了表面加工后的玻璃板的狀態如下。
[0041]〇光澤度:97(日本株式會社堀場制作所制的光澤儀)
[0042]〇粗糙度(Surfcom 480A粗糙度測量儀)
[0043]Ra:0.024 μ m、Ry:0.274 μ m、Rz:0.224 μ m
[0044]Sm:54.995 μ m
[0045]< 工序 2>
[0046]利用超聲波清洗機(日本US Mec C0.，Ltd.制)進行清洗，清洗液為5 % NaOH，并利用自來水、R0水進行浸泡清洗后，通過熱風干燥除去水分。
[0047]< 工序 3>
[0048]利用層壓機(日本株式會社IQM0T0制)將層壓膜(日本日東電工株式會社制、SPV-362M)粘貼在玻璃板的不進行濕噴處理的面上，并且按照玻璃板的外形切割層壓膜。此時，若粘貼著的層壓膜的外周部出現卷邊等，則在接下來的蝕刻工序中會受到損壞，因此，在出現卷邊的情況下利用橡膠輥等進行修整。
[0049]將玻璃板收容于蝕刻專用盒中。根據蝕刻槽的大小使用盒寬為175mm的蝕刻專用盒，收容的玻璃板間的間距設定為15mm，并在每盒中放入八塊玻璃板進行了處理。蝕刻處理采用浸漬法，該浸漬法是利用栗使槽內的蝕刻液循環并通過噴嘴將蝕刻液吐出而進行處理的方法。
[0050]在決定蝕刻條件時，需要事先掌握蝕刻速率。即，需要決定為了得到所希望的蝕刻量而所需的蝕刻時間。
[0051]本實施例中的蝕刻液的組成為:HF:1.5wt%, H2S04:43.lwt%、檸檬酸:2.2wt%,純水:53.2wt%。其他的蝕刻條件為:蝕刻液溫度:40°C、蝕刻液流量:30L/分鐘，每單位時間的蝕刻量:1.25 μ m/分鐘。
[0052]然后，實施40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。其顯微照片如圖2所示。
[0053]在這之后，除去非處理面上的層壓膜，并利用R0水進行清洗后，制造出防眩光玻璃。經過上述蝕刻后，霧度值得到了 “3.0”這一較低的值。
[0054]另外，Ra為0.063 μ m、最大高度(Ry)為0.484 μ m、微觀不平度十點高度(Rz)為0.412 μπι。順帶而言，在進行了不使用液體的噴射處理之后實施濕蝕刻后的Ra為0.2 μπι左右。可以說在濕噴處理的情況下表面粗糙度低。
[0055]【實施例2】
[0056]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.5wt%、HCL:2.0wt%、H2S04:43.lwt%、檸檬酸:2.2wt%、純水:51.2wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “4.1”這一較低的值。
[0057]【實施例3】
[0058]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.5wt%、HN03:9.0wt%、H 2S04:43.lwt%、檸檬酸:2.2wt%、純水:44.2wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “5.8”這一較低的值。
[0059]【實施例4】
[0060]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.5wt%,H2S04:43.lwt%、純水:55.4wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了“2.9”這一較低的值。
[0061]【實施例5】
[0062]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.5wt%, H2S04:43.lwt%、檸檬酸:4.0wt%、純水:51.4wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “3.1”這一較低的值。
[0063]【實施例6】
[0064]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:3.0wt%, H2S04:43.lwt%、檸檬酸:2.2wt%、純水:51.7wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “1.5”這一較低的值。
[0065]【實施例7】
[0066]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.5wt%, H2S04:15.0wt%、檸檬酸:2.2wt%、純水:81.3wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “5.5”這一較低的值。
[0067]【實施例8】
[0068]在進行了與前述實施例1相同的噴射處理、清洗及干燥處理后，將蝕刻液的組成設定為:HF:1.0wt%, H2S04:43.lwt%、檸檬酸:2.2wt%、純水:53.7wt%，然后在與前述實施例1相同的蝕刻條件下進行40分鐘的蝕刻而得到了 50 μπι的蝕刻量。該情況下，霧度值得到了 “9.0”這一較低的值。
[0069]【實施例9】