7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷 凍干燥，合成G0-CMC。
[0032] (2)從上述產物中取30mg的G0-CMC溶于適量蒸餾水，加入lmg熒光素異硫氰酸 FITC的DMS0溶液，于常溫下攪拌反應3h。
[0033] (3)在上述產物中加入280uL三乙胺混合攪拌20min后加入160uL乙酸酐混合，于 室溫下反應24h。反應后用透析袋（MW= 14,000)將溶液進行透析。用PBS透析兩次后，每 次體積2L，再用蒸餾水透析7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷凍 干燥，合成G〇-CMC-FI-Ac。
[0034] (4)CMC、G〇-CMC、G〇-CMC-FI-Ac的1H-NMR圖譜如圖2所示，由于GO本身沒有核磁 峰，圖2-b中產生的質子峰均為CMC上氫原子，圖2-c相比圖2-b，在S= 1-2處出現了一 個比較大的峰，那是在乙酰化的時候形成了甲基峰。證明了對材料乙酰化的成功。
[0035] 實施例3
[0036] (1)將氧化石墨稀GO(78mg)，溶解在10mL水中，加入活化劑EDC(45mg)、NHS(40mg) 于常溫下攪拌反應2. 5h。在反應時，逐滴加入20mL含CMC(120mg)的水溶液，于室溫攪拌反 應24h。反應后用透析袋（MW= 100,000)將溶液進行透析。用PBS透析兩次后，每次體積 2L，再用蒸餾水透析7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷凍干燥，合 成G0-CMC。
[0037] (2)從上述產物中取20mg的G0-CMC溶于適量蒸餾水，加入0? 8mg熒光素異硫氰酸 FITC的DMS0溶液，于常溫下攪拌反應3h。
[0038] (3)在上述產物中加入200uL三乙胺混合攪拌30min后加入115uL乙酸酐混合，于 室溫下反應24h。反應后用透析袋（MW= 14,000)將溶液進行透析。用PBS透析兩次后，每 次體積2L，再用蒸餾水透析7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷凍 干燥，合成G〇-CMC-FI-Ac。
[0039] (4)G0、G0-CMC、G0-CMC-FI-Ac的UV-Vis圖譜如圖 3 所示，GO-CMC-FI-Ac在 501nm 處存在吸收峰，該吸收峰為FITC的特征吸收峰，說明FITC已經成功接入到氧化石墨烯復合 材料中。
[0040] 實施例4
[0041] (1)將氧化石墨烯GO(200mg)，溶解在40mL水中，加入活化劑EDC(92mg)、 NHS(80mg)于常溫下攪拌反應2h。在反應時，逐滴加入35mL含CMC(325mg)的水溶液，于室 溫攪拌反應24h。反應后用透析袋（MW= 100,000)將溶液進行透析。用PBS透析兩次后， 每次體積2L，再用蒸餾水透析7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷 凍干燥，合成GO-CMC。
[0042] (2)從上述產物中取40mg的G0-CMC溶于適量蒸餾水，加入1. 5mg熒光素異硫氰酸 FITC的DMS0溶液，于常溫下攪拌反應3h。
[0043] (3)在上述產物中加入360uL三乙胺混合攪拌25min后加入240uL乙酸酐混合，于 室溫下反應24h。反應后用透析袋（MW= 14,000)將溶液進行透析。用PBS透析兩次后，每 次體積2L，再用蒸餾水透析7次，每次體積2L，去除溶液中的雜質和副產物。所得產物冷凍 干燥，合成G〇-CMC-FI-Ac。
[0044] (4)G0、G0-CMC、G0-CMC-FI_Ac的Zeta電勢圖譜如表1所示，可以發現當帶負電荷 的G0上連接帶正電荷的CMC時電位變大，而G0-CMC乙酰化后電位又變小，說明CMC成功連 接在G0上，而且成功乙酰化。
[0045]表1
[0046]
【主權項】
1. 一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法，包括： (1) 將氧化石墨烯GO溶液中，加入活化劑EDC和NHS，活化2-3h，然后加入羧甲基殼聚 糖CMC溶液，在室溫條件下反應12-24h，透析，冷凍干燥，得到GO-CMC; (2) 將上述GO-CMC溶于蒸餾水中，加入熒光素異硫氰酸FITC溶液，室溫條件下反應 2-3h，得到GO-CMC-FI; (3) 將上述GO-CMC-FI中加入三乙胺攪拌混合，然后加入乙酸酐混合，室溫條件下反應 12-24h，透析，冷凍干燥，即得羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料。
2. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（1)中氧化石墨烯與羧甲基殼聚糖CMC的質量比為
3. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（1)中氧化石墨烯溶液、羧甲基殼聚糖CMC溶液的溶劑均為蒸餾水。
4. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（2)中熒光素異硫氰酸FITC溶液的溶劑為二甲基亞砜DMS0。
5. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（2)中GO-CMC與熒光素異硫氰酸FITC的質量比為40:1-50:1。
6. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（3)中加入三乙胺攪拌混合時間為15-30min，GO-CMC中氨基與三乙 胺的摩爾比為1:1-1:1. 5。
7. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（3)中GO-CMC中氨基與乙酸酐的摩爾比為1:5-1:10。
8. 根據權利要求1所述的一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法， 其特征在于：所述步驟（1)、（3)中透析為：先在pH= 6-7的緩沖液中透析，再在水中透析， 透析時間為3-5d。
【專利摘要】本發明涉及一種羧甲基殼聚糖修飾的氧化石墨烯復合材料的制備方法，包括：(1)在活化劑EDC和NHS的作用下使分散在水中的氧化石墨烯與CMC發生化學鍵連接，常溫下反應24h，得到微粒分散性較好的懸濁液，透析凍干，即合成GO-CMC(2)將以上所得產物溶于蒸餾水，加入適量熒光素FITC。將上述產物乙酰化，常溫攪拌反應24h后，透析凍干，合成氧化石墨烯GO-CMC-FI-Ac復合材料。本發明的制備方法操作簡單、產物易處理；本發明的復合材料能被適用于藥物緩釋和細胞成像，成本低廉。
【IPC分類】C01B31-04
【公開號】CN104843686
【申請號】CN201510177023
【發明人】朱利民, 潘琪霞, 陶磊, 楊卉卉, 呂瑤
【申請人】東華大學
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年4月15日