本發明涉及一種鍍膜玻璃，具體涉及一種綠色基調的低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。
背景技術：
：鍍膜玻璃具有節能減排及裝飾幕墻的雙重功效，推出市場后，深受人們喜愛，目前市場上的綠色基調的低輻射鍍膜玻璃，多用綠玻基片鍍膜，用綠色基片鍍膜，一方面成本高，另一方面綠色玻璃本身會吸熱，不利于節能降溫。技術實現要素：本發明的一種綠色基調的低輻射鍍膜玻璃，傳熱系數低，遮陽效果好，有效阻止熱能透過玻璃進入室內，降低了生產成本。本發明另一目的是提供一種綠色基調的低輻射鍍膜玻璃的制備方法。本發明是通過以下技術方案實現的：一種綠色基調的低輻射鍍膜玻璃，包括第一玻璃基板，所述第一玻璃基板上依次設有ITO層、Nb2O5層、第一AZO層、Ag層、第二AZO層、TIOx層和Si3N4層。優選的，所述ITO層為磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15歐。優選的，所述Nb2O5層為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。優選的，所述第一AZO層和第二AZO層，均為磁控濺射摻鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚300～500nm。優選的，所述Ag層，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚3～5nm。優選的，所述TIOx層，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20-35nm。優選的，所述Si3N4層，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。優選的，所述第一玻璃基板為厚度為4-8mm的浮法玻璃。一種制備綠色基調的低輻射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：A:選擇4～8mm玻璃基片，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基片進行清洗；B：將玻璃基片送入鍍膜室磁控濺射ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，用Ar氣流量800SCCM，在玻璃基片上濺射120～135nm的ITO層；C：繼續磁控濺射Nb2O5層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鈮靶，用Ar和O2氣體流量400SCCM:800SCCM，濺射20～50nm的Nb2O5層；D：繼續磁控濺射第一AZO層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射300～500nm的第一AZO層；E：繼續磁控濺射Ag層，用直流電源，Ar氣作為保護氣體，磁控濺射，用Ar氣體流量500～550SCCM，濺射3～5nm的Ag層；F:繼續磁控濺射第二AZO層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射300～500nm的第二AZO層；G：繼續磁控濺射TIOx層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射氧化鈦靶，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射20～35nm的TIOx層；H：繼續磁控濺射Si3N4層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量400SCCM:600SCCM，濺射50～85nm的Si3N4層。與現有技術相比，本發明具有如下優點：1、本發明的一種綠色基調的低輻射鍍膜玻璃，輻射率可至0.08，a*＝-8～-9，b*＝+3～+1，為一種翡翠綠色鍍膜玻璃，克服了現有綠色低輻射鍍膜玻璃通常采用大量綠色本體著色浮法玻璃基片，生產成本昂貴，生產效率低的缺陷，生產成本低廉，利于低輻射玻璃的推廣使用；2、本發明的綠色基調的低輻射鍍膜玻璃制備方法，功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結合力強的優點。【附圖說明】圖1是本發明結構示意圖。【具體實施方式】如附圖1所示的一種高紅外反射鍍膜玻璃，包括玻璃基片1，所述玻璃基片1上依次設有ITO層2、Nb2O5層3、第一AZO層4、Ag層5、第二AZO層6、TIOx層7和Si3N4層8。本發明的玻璃由一塊玻璃基片及多層鍍層復合而成，呈現一種翡翠綠色鍍膜玻璃，輻射率可至0.08，a*＝-8～-9，b*＝+3～+1，每邊的玻璃基板均由多個膜層構成，成本低廉，有效隔絕熱源透過玻璃進入室內，實現節能的效果。所述ITO層2膜厚120～135nm，方阻<15歐，為磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM。所述Nb2O5層3膜厚20～50nm，為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM。用以提高膜層折射率，提高透過率。所述第一AZO層4和第二AZO層6，均為膜厚300～500nm，磁控濺射摻鋁氧化鋅靶ZnO:Al＝92:8(wt％)，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM。用以降低紅外的透過率。所述Ag層5膜厚3～5nm，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM。作為功能層，有效反射紅外線。所述TIOx層7膜厚20～35nm，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM。使外層具有高折射率，從而實現高的透過率，并且使膜層具有耐磨、耐腐蝕。所述Si3N4層8，磁控濺射硅鋁靶Si:Al＝92:8(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。該層使鍍膜層具有較高的機械性能。所述玻璃基片1為厚度為4～8mm的浮法玻璃。結合實施例具體說明本發明的一種制備綠色基調的低輻射鍍膜玻璃的方法：實施例1-4一種制備綠色基調的低輻射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：A：選擇玻璃基片，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基片進行清洗；B：將玻璃基片送入鍍膜室磁控濺射各鍍層，具體參數如表1：表1：上述實施例所得的綠色基調的低輻射鍍膜玻璃，按照GB/T18915.2-2002《鍍膜玻璃第2部分：低輻射鍍膜玻璃》標準對實施例1-4制得的玻璃進行光學性能的測定，測試結果如表2所示：表2：實施例1實施例2實施例3實施例4可見光透過率(％)65687070玻璃面反射亮度L*值73706972玻璃面反射顏色a*值-8.02-7.8-8.5-9.0玻璃面反射顏色b*值+3+2.5+2+1輻射率％0.070.080.090.1功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐磨性和耐腐蝕性能，較高折射率和透過率，產品成本低廉。當前第1頁1 2 3