技術總結
本實用新型提供一種背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉積的反應器，其中，用于外延沉積反應器的基座(200)，包括至少一個非中心凹陷(233A)和/或至少一個非中心凸起，以確保基座(200)的角度定位和旋轉運動從一個旋轉軸(300)傳導到基座(200)；所述至少一個非中心凹陷(233A)和/或至少一個非中心凸起的形狀可補償所述基座(200)在外延沉積反應器中使用時隨溫度的變化。
技術研發人員：西爾維奧·普雷蒂;溫琴佐·奧格里亞里
受保護的技術使用者：LPE公司
文檔號碼：201620765740
技術研發日：2016.07.19
技術公布日：2017.05.10