本發明涉及一種陶瓷釉料，尤其涉及到一種新型超細自潔釉料及其制備工藝，屬于陶瓷材料技術領域。
背景技術：
“釉”是指覆蓋在陶瓷坯體表面上的一層薄薄的玻璃態物質，其厚度通常為0.2～0.8mm。釉層可改善陶瓷坯體的表面性能，如降低表面氣孔率，使表面變得光滑并增大制品的機械強度和提高表面的抗化學腐蝕能力，同時美化了產品的外觀。通常要求釉能適應不同類型的坯體，并且能在不同溫度下成熟，且能展示出各種不同的特殊性能。
傳統陶瓷釉面在放大鏡下是凹凸不平的，使得污垢易于積淀，細菌易于繁殖。有些廠家在傳統陶瓷燒制成品后，后期在表面施以高分子涂膜，由于沒有經過高溫燒結，涂膜穩定性差，易剝落，最終失去了防污與抗菌效果。
中國專利號CN200910040630.0公開了一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法與陶瓷產品，自潔抗菌陶瓷釉關鍵于含有Ti元素和Ag元素，其特征是陶瓷本體表面有一層自潔抗菌陶瓷釉，適合于采用一次施釉工藝，陶瓷釉釉面平整度高，晶質細致精密、光潔度好、無針孔、玻璃感極柔極佳，觸摸感覺非常平滑，并且達到超平滑釉面的自潔抗菌的永久效果。
另外，納米自潔潔具是納米科學引入到陶瓷行業后的新型衛生潔具，有抗菌、易清潔等特點，可以解決普通衛生潔具易沾附污垢問題，對改善居室衛生環境起到積極的推動作用。這種易潔產品主要分為三類：一是引入納米涂料直接涂于陶瓷表面，有效防止污染物的粘附；二是在產品表面施一層納米液體聚合硅，在經低溫二次燒烤粘附于產品表面，從而使產品易清潔。三是在產品底釉上再施一層納米釉料，經高溫一次燒烤，獲得高平滑釉面使產品變得易清洗。由于現有易潔潔具表面硬度低，其制品在檢驗、包裝、運輸和使用過程中很容易因摩擦而產生劃痕，嚴重影響產品的使用效果和外表美觀度。因此提高易潔潔具釉面硬度對于改善易潔陶瓷產品的使用質量和外觀是至關重要的。
中國專利號CN201010230337.3公開了一種一種高硬度自潔釉及制備方法，用于解決提高自潔潔具釉面硬度問題。引入適量耐高溫熔塊及超細硅酸鋯，調整釉面化學成分，來調整釉中石英、硅酸鋯、玻璃相等礦物組成。使(-Si-O-)網絡結構更加致密，達到提高釉面硬度的目的。此外，通過改變顆粒級配，將釉漿粒度(≤10um)控制在70％～80％，使自潔釉更加趨于光滑平整。但是通過降低釉料粒徑的準納米釉料存在釉面易開裂、成品率低的缺點。
技術實現要素：
為克服現有自潔釉料存在的釉料存在釉面易開裂、成品率低的缺點，本發明的目的旨在提供一種新型超細自潔釉料及其制備工藝。
本發明的一種新型超細自潔釉料，其特征在于，在不改變傳統有料配方的情況下，通過增加研磨時間獲得粒徑較小的超細釉料漿液，其中位粒徑D50≦1μm；通過傳統釉漿與本發明的超細釉料漿液復配，復配釉漿干燥焙燒后在坯體表面無縫堆積，釉面光滑細膩，污漬不易粘附，細菌也不易生長繁殖。同時，抗收縮劑聚合氯化鋁在失水后未燒結的釉料表面形成三維網狀結構使得釉面不易開裂，燒結后的釉面硬度高；另外，載銀抗菌劑在焙燒后納米氧化銀可均勻分布于釉面中，使得釉面永久抗菌。
本發明的一種新型超細自潔釉料，其組成為：傳統陶瓷釉漿80～120份，納米陶瓷釉漿80～120份，抗收縮劑0.3～1.5份，載銀抗菌劑2～8份。
本發明的一種新型超細自潔釉料，其制備工藝如下：
a)研磨傳統陶瓷釉料至超細級：將傳統陶瓷釉漿經傳統球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復配超細釉漿：取傳統陶瓷釉漿80～120份、超細釉漿80～120份、抗收縮劑0.3～1.5份、載銀抗菌劑2～8份，攪拌至混合完全均勻，即為新型超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1100～1300℃溫度下對該釉料層焙燒7～9h后出窯。
所述的傳統陶瓷釉漿為傳統陶瓷釉料的水溶液，固含為64％～70％、中位粒徑D50為14～17μm；所述的傳統陶瓷釉料組成為：SiO2 55～65％、Al2O3 8～15％、CaO 5～10％、K2O 1～8％、Na2O 1～2％、ZnO 1～2％、Li2O 1～2％、MgO 0.1～5％、B2O31～5、V2O5 1～3％、其它金屬氧化物0～8％。
所述的抗收縮劑為聚合氯化鋁、丙烯酸改性天然化合物類吸水型樹脂、羧甲基殼聚糖中的一種或兩種以上；進一步地，優選為聚合氯化鋁。
所述的載銀抗菌劑為絡合型載銀抗菌劑、載銀沸石抗菌劑、可溶性玻璃載銀抗菌劑、磷酸鋯載銀抗菌劑、納米二氧化鈦載銀抗菌劑中的一種或兩種以上；進一步地，優選為磷酸鋯載銀抗菌劑。
具體實施方式
下面結合實施例對本發明的一種新型超細自潔釉料做進一步的描述。可以理解的是，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋相關發明，而非對該發明的限定。
實施例1
本發明的一種新型超細自潔釉料，其制備應用工藝如下：
a)研磨傳統納米釉料至超細級：將傳統陶瓷釉漿經傳統球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復配超細釉漿：取傳統陶瓷釉漿90份、超細釉漿50份、聚合氧化鋁0.6份、載銀抗菌劑4份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1250℃溫度下對該釉料層焙燒8h后出窯。
實施例2
本發明的一種新型超細自潔釉料，其制備應用工藝如下：
a)研磨傳統納米釉料至超細級：將傳統陶瓷釉漿經傳統球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復配超細釉漿：取傳統陶瓷釉漿120份、超細釉漿80份、丙烯酸改性天然化合物類吸水型樹脂1.5份、磷酸鋯載銀抗菌劑4份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1300℃溫度下對該釉料層焙燒9h后出窯。
實施例3
本發明的一種新型超細自潔釉料，其制備應用工藝如下：
a)研磨傳統納米釉料至超細級：將傳統陶瓷釉漿經傳統球磨機或新型砂磨機，研磨至中位粒徑D50≦1μm，即為超細釉漿；
b)復配超細釉漿：取傳統陶瓷釉漿40份、超細釉漿60份、聚合氯化鋁0.3份、可溶性玻璃載銀抗菌劑8份，攪拌至混合完全均勻，即為超細釉漿；
c)施釉與焙燒：將超細釉漿通過少量多次的淋釉、浸釉或噴釉的方式施于干燥生坯的表面，然后在1200～1300℃溫度下對該釉料層焙燒7h后出窯。
在實施例1、2、3中，所述的傳統陶瓷釉漿為傳統陶瓷釉料的水溶液，固含為67.5％、中位粒徑D50為14～15μm；所述的傳統陶瓷釉料組成為：SiO2 60％、Al2O3 10％、CaO 8％、K2O 8％、Na2O 1％、ZnO 1％、Li2O 1％、MgO 1％、B2O3 3％、V2O5 2％、ZrO2 5％。
在相同條件下，用實施例中所得的超細釉料與傳統釉料在衛生潔具上施釉，使用60天后，觀察潔具釉面污漬程度和清洗的容易程度，實施例中潔具表面幾乎無污漬，而傳統釉料的潔具表面有嚴重污漬，用洗潔精難以去除。
抗菌性試驗：按照相關標準對實施例中的釉面與傳統的釉面進行對比，其抗菌性能測試結果如表1所示：
表1實施例中釉面與傳統釉面的抗菌性能試驗結果
以上描述僅為本申請的較佳實施例以及對所運用技術原理的說明。本領域技術人員應當理解，本申請中所涉及的發明范圍，并不限于上述技術特征的特定組合而成的技術方案，同時也應涵蓋在不脫離所述發明構思的情況下，由上述技術特征或其等同特征進行任意組合而形成的其它技術方案。例如上述特征與本申請中公開的(但不限于)具有類似功能的技術特征進行互相替換而形成的技術方案。