配備有含部分金屬層的堆疊體的基材，玻璃板，用途和方法與流程

本發明更具體地涉及配備有薄層堆疊體的基材，特別是透明玻璃基材，該薄層堆疊體包含“n”個金屬功能層，特別是基于銀或含銀的金屬合金的功能層，和“(n+1)”個抗反射涂層的交替層，其中n是≥1的整數，使得所述或每個功能層置于兩個抗反射涂層之間。每個抗反射涂層包括至少一個抗反射層，和每個涂層優選由多個層組成，其中至少一個層，甚至其每個層是抗反射層。在這里，概念“抗反射層”與概念“介電層”同義；概念“介電層”尤其是與概念“金屬功能層”相反地進行使用，金屬功能層由于它的金屬性質而因此不可以是介電的。本發明更具體地涉及這種基材用于制造隔熱和/或日光控制窗玻璃的用途。這些窗玻璃可以用于建筑物或交通工具中，特別是為了減少空調負擔和/或防止過度加熱(所謂的“日光控制”窗玻璃)和/或減少由于建筑物和交通工具的乘客車廂中的裝玻璃面積的大量持續增加引起的朝向外部消耗的能量的量(所謂的“低發射”窗玻璃)。這些基材特別地可以被集成到電子裝置中，該堆疊體這時可以用作為用于傳導電流的電極(照明裝置，顯示裝置，光伏板，電致變色窗玻璃等)，或者可以被集成到具有特定的功能的窗玻璃，例如加熱窗玻璃中。已知為基材提供這種性質的一種類型的層堆疊體由具有在紅外中和/或在太陽輻射中的反射性能的金屬功能層，尤其基于銀或含銀的金屬合金或者完全由銀組成的金屬功能層形成。在這種類型的堆疊體中，金屬功能層因此位于兩個抗反射介電涂層之間，每個抗反射介電涂層通常包括多個層，每個層由氮化物(特別是鋁或硅的氮化物)或者氧化物類型的抗反射材料制成。然而，阻擋涂層有時被插入在一個或每個抗反射涂層和金屬功能層之間，位于功能層下方(即在基材的方向上)的阻擋涂層在可能的彎曲和/或淬火類型的高溫熱處理期間保護該功能層，和設置于功能層上方(即在與基材相反方向上)的阻擋涂層保護該層免于在上方抗反射涂層的沉積期間和在可能的彎曲和/或淬火類型的高溫熱處理期間的可能退化。當前，通常希望每個金屬功能層是完整的層，即在它們的整個表面上和在其整個厚度上由所考慮的金屬材料組成。對于給定的材料(例如銀)，在這種材料的常規沉積條件下，本領域技術人員認為只有在沉積了一定厚度后才能獲得完整的層。完整的銀層和抗反射層之間的粘附能非常低，約為1J/m2量級，在兩個抗反射層之間的粘附能為在銀和其它抗反射層之間的粘附能的5至9倍。因此，包含至少一個由銀組成的或基于銀的功能層的堆疊體的粘附能受到這種完整金屬功能層和其它材料的低粘附能限制。發明人研究了沉積具有一個或多個金屬層的薄層堆疊體并且對于唯一金屬功能層或多個金屬層具有的厚度低于用于在所討論的條件下獲得完整的層所需的最小厚度的可能性。發明人已經觀察到，對于在基材和堆疊體的僅僅一個連續金屬功能層或第一連續金屬功能層之間包含非連續金屬層的堆疊體，可以獲得高機械穩定性，甚至更令人驚訝地高度耐化學性。此外，本發明人已經觀察到，如此制備的堆疊體是透明的(無霧度和無虹彩)并具有顏色(在透明或反射中均有顏色)，這可以與使用具有類似的完整金屬功能層的堆疊體所獲得的那些性質相似。因此，可以使用這種非連續金屬層在可見光中的特定的非均勻吸收的范圍，以在某些波長范圍內獲得特定的吸收效果，并中和某些顏色特征(特別是在堆疊體側或基材側的反射中的顏色)。此外，在本發明的背景中，可以獲得比在不包括非連續金屬層或包括一個或多個連續吸收層的類似堆疊體的情況下更高的太陽因子。關于現有技術，從國際專利申請WO2011/123402中已知具有三個金屬功能層的堆疊體，其中位于兩個其它金屬功能層之間的金屬功能層是非連續層。這種非連續層在可見光中具有高的光吸收，并且公開了將該非連續金屬層沉積在錫酸鋅而不是氧化鋅上提高了該堆疊體(即非連續金屬層)在可見光中的光吸收。然而，對于實施例1至5和9以及對于對照實施例6，并沒有指出光吸收值。此外，未指出在基材側或堆疊體側上的光透射率和光反射的積分值；對于在單個基材上的堆疊體(表1)，僅僅指示了在淬火熱處理之后，在堆疊體一側的反射中，在基材側的反射和透射中的在L*a*b*體系中的顏色。對于實施例1-4給出了光透射率(VLT)，但僅在安裝為雙層窗玻璃之后；光透射率平均為40％。本發明因此在其最寬的范圍中的一個主題是如權利要求1所述的基材。這種基材在一個面上涂覆有薄層堆疊體，所述薄層堆疊體包含至少一個基于銀的或由銀制成的具有7nm-20nm(并包括端值)的厚度e的金屬功能層和兩個抗反射涂層，所述抗反射涂層每個包括至少一個抗反射層，所述功能層被置于兩個抗反射涂層之間。所述堆疊體包括具有0.5nm-5nm(并包括端值)的厚度e'的下方非連續金屬層，所述下方非連續金屬層位于一方面所述面和另一方面唯一金屬功能層或從所述面開始數的第一金屬功能層之間。在一種變型中，所述堆疊體包括唯一下方非連續金屬層。在另一種變型中，所述堆疊體還包括具有0.5nm-5nm(并包括端值)的厚度e'的上方非連續金屬層，所述上方非連續金屬層位于唯一金屬功能層或從所述面開始數的最后一個金屬功能層的上方。在這種變型中，所述堆疊體這時優選地僅包括兩個非連續金屬層，即下方非連續金屬層和上方非連續金屬層。根據本發明，該如此沉積的非連續金屬層或每個如此沉積的非連續金屬層是自結構化層，其優選具有呈彼此相連的島的形式的結構化，在島之間具有未被覆蓋區域。所述下方非連續金屬層優選位于下方抗反射涂層的內部，在其每一側具有抗反射層；任選的上方非連續金屬層優選位于上方抗反射涂層(即從基材開始，該堆疊體的最后抗反射涂層)的內部，并且在其每一側具有抗反射層。在其中所述薄層堆疊體包括多個金屬功能層，特別是多個基于銀或由銀制成的金屬功能層的情況下，優選地，位于兩個金屬功能層之間的抗反射涂層中的每個不包括具有0.5nm-5nm的厚度(并包括端值)的非連續金屬層。在本發明的范圍中，該非連續金屬層或每個非連續金屬層可以具有0.5nm-2nm的厚度e'(并包括端值)。優選地，所述或每個非連續金屬層一方面直接位于具有至少為1.9的在550nm的折光指數的抗反射層的上方，另一方面直接位于具有至少為1.9的在550nm的折光指數的抗反射層的下方；對于所述或每個非連續金屬層，所述直接下方的抗反射層的折光指數優選與所述直接上方的抗反射層的折光指數相同。并且優選地，所述或每個非連續金屬層一方面直接位于抗反射層上方，該抗反射層具有1nm-8nm(并包括端值)，甚至2nm-6nm(并包括端值)的在550nm的光學厚度，并且另一方面直接位于抗反射層下方，該抗反射層具有1nm-8nm(并包括端值)，甚至2nm-6nm(并包括端值)的在550nm的光學厚度。由于該唯一非連續金屬層，或最優選地在堆疊體中，這兩個非連續金屬層不是連續的，這允許在圍繞所述或每個非連續金屬層的抗反射層之間的直接接觸。這些區域具有牢固的粘附作用。在最弱的界面處，因此在非連續金屬層和相鄰抗反射層之間的界面處形成的可能的裂紋還將應該在兩個抗反射層之間蔓延向前，但這需要更高的能量。因此，以這種方式使得在該位置的堆疊體的粘附能得到顯著改善，特別是相對于連續吸收層而言。在本發明的意義上，表述“非連續層”應該被理解為是指：當在根據本發明的堆疊體的表面上考慮任何尺寸的正方形時，則在該正方形中，非連續功能層優選地僅分別占該正方形面積的50％至98％，甚至占正方形面積的53％至83％，甚至63％至83％。所考慮的正方形位于該涂層的主要部分中；在本發明的范圍中，它不涉及產生對于最終應用將被隱藏的特定邊界或特定邊緣。根據本發明，這種類型的自結構化非連續金屬層具有高于連續金屬功能層的粘附能，并且其光學性能(光透射率，光反射和發射率)盡管被降低但仍然保持在對于某些特定應用來說可接受的范圍中。優選地，所述或每個非連續金屬層基于銀或由銀制成。優選地，所述或每個非連續金屬層既不在上方也不在下方與連續的金屬層直接接觸。此外可行的是：-設置在每個金屬功能層下面的所述抗反射涂層包括由具有在550nm為1.8-2.2的折光指數的材料制成的中等指數抗反射層，這種中等折光指數抗反射層優選基于氧化物和/或這種中等指數抗反射層優選具有在5至35nm之間的物理厚度；-設置在所??述面和第一或唯一金屬功能層之間的所述抗反射涂層包括由具有在550nm為2.3-2.7的折光指數的材料制成的高指數抗反射層，這種高折光指數抗反射層優選基于氧化物和/或這種高折光指數抗反射層優選具有在5至25nm之間的物理厚度；-設置在第一或唯一金屬功能層上方的抗反射涂層，在與所述面相反的方向上，包括由具有在550nm為1.8-2.2的折光指數的材料制成的中等指數抗反射層，這種中等指數抗反射層優選基于氧化物和/或這種中等指數抗反射層優選具有在5至35nm之間的物理厚度；-設置在第一或唯一金屬功能層上方的抗反射涂層，在與所述面相反的方向上，包括由具有在550nm為2.3-2.7的折光指數的材料制成的高指數抗反射層，這種高指數抗反射層優選基于氧化物和/或這種高指數抗反射層優選具有為5-25nm的物理厚度；-所述堆疊體包括兩個或三個基于銀的或由銀制成的金屬功能層，每個金屬功能層具有為7nm-20nm的厚度e，并包括端值，并且所述堆疊體還包括單個具有0.5nm-5nm的厚度e'(并包括端值)的下方非連續金屬層，所述下方非連續金屬層位于一方面所述面和另一方面從所述面開始數的第一金屬功能層之間；和-所述堆疊體包括兩個或三個基于銀的或由銀制成的金屬功能層，每個金屬功能層具有在7nm至20nm之間的厚度e(并包括端值)，并且所述堆疊體還僅僅包括兩個非連續金屬層：下方非連續金屬層，其具有在0.5nm至5nm之間的厚度e'(并包括端值)，所述下方非連續金屬層位于一方面所述面和另一方面唯一金屬功能層或從所述面開始數的第一金屬功能層之間，和上方非連續金屬層，其具有在0.5nm和5nm之間的厚度e'(并包括端值)，所述上方非連續金屬層位于從所述面開始數的最后金屬功能層的上方。在本發明的意義上，術語“涂層”應該被理解為在涂層內可以有單個層或多個不同材料的層。術語“堆疊體”應理解為彼此重疊沉積的薄層的整體，在這些曾之間不插入無機基材(如玻璃)或有機基材(如塑料片材)。如通常地，“基于一種材料的層”，應該理解為：該層主要由這種材料(即該材料的化學元素)組成，或者必要時，以其穩定化學計量式所考慮的材料的產物構成所討論的層的至少50原子％。如通常地，表述“金屬功能層”表示為連續的并反射IR的層的沉積物。還是如通常地，在本發明的意義上，表述“抗反射層”應理解為從其物質種類的觀點來看，該材料是“非金屬的”，即，不是金屬。在本發明的上下文中，該術語表示在可見光的整個波長范圍(380nm至780nm)中具有等于或大于5的n/k比的材料。作為回顧，n表示該材料在給定波長的真實折光指數，k表示在給定波長的折光指數的虛部；在給定波長計算比率n/k。在本文中所指示的折光指數的值是如常規地在550nm波長下所測量的值。根據本發明，所述或每個非連續金屬層可以具有厚度e'：-1.0≤e'≤4.5nm，甚至1.0≤e'≤4.0nm；或2.0≤e'≤4.5nm甚至2.0≤e'≤4.0nm，沉積在基于二氧化鈦TiO2的層上；或-1.0≤e'≤4.5nm，甚至1.0≤e'≤4.0nm；或2.0≤e'≤4.5nm甚至2.0≤e'≤4.0nm，沉積在基于氧化鋅錫ZnSnOx的層上；或-1.0≤e'≤5.0nm，甚至1.0≤e'≤4.5nm；或2.0≤e'≤5.0nm甚至2.0≤e'≤4.5nm，沉積在基于氧化鋅ZnO的層上；或-1.0≤e'≤5.0nm，甚至1.0≤e'≤4.0nm；或2.0≤e'≤5.0nm甚至2.0≤e'≤4.0nm，沉積在基于氮化硅Si3N4的層上。優選地，根據本發明的堆疊體被直接沉積在基材的面上。對于根據本發明的包含唯一連續金屬功能層的堆疊體，該功能層可以具有在8至17nm之間，甚至10至15nm之間，甚至12至14nm之間的厚度，以便獲得有效低發射率的堆疊體。在本發明的另一個特定版本中，至少一個金屬功能層被直接沉積在下阻擋涂層上，該下阻擋涂層被設置于該功能層和相對于該功能層下伏的抗反射涂層之間和/或至少一個功能層被直接沉積在上阻擋涂層下方，該上阻擋涂層被設置于所述功能層和相對于該功能層上伏的抗反射涂層之間，和所述下阻擋涂層和/或所述上阻擋涂層包含具有0.2nm至2.5nm的物理厚度(并包括端值)的基于鎳或鈦的薄層。上伏的抗反射涂層的最后層(即離基材最遠的層)可以基于氧化物，這時優選以亞化學計量形式進行沉積；它可以特別地基于二氧化鈦(以TiOx表示)或基于錫鋅混合氧化物(以SnzZnyOx表示)。該堆疊體因此可以包含優選以亞化學計量形式沉積的最后層(英文為“頂層”)，即保護層。在沉積之后，這種層在堆疊體中基本被化學計量地氧化。本發明還涉及一種多層窗玻璃，其包括通過框架結構保持在一起的至少兩個基材，所述窗玻璃實現了在外部空間與內部空間之間的分隔，其中至少一個中間氣體腔被設置在兩個基材之間，其中一個基材是根據本發明的。在特定的變型中，根據本發明的堆疊體被設置在雙層窗玻璃的面4上，即在未被中間氣體腔保護的窗玻璃的面上，因為該堆疊體是特別耐受性的。根據本發明的窗玻璃至少包含所述承載根據本發明的堆疊體的基材，其任選地與至少一個其它基材相結合。每個基材可以是透明的或有色的。基材中至少一個特別地可以由本體著色的玻璃制成。著色類型的選擇將取決于對于該窗玻璃(一旦完成它的制造)所期望的光透射率和/或所期望的顏色外觀。根據本發明的窗玻璃可以具有層壓結構，其特別地通過至少一個熱塑性聚合物片材將至少兩個剛性玻璃類型基材結合，以便具有玻璃/薄層堆疊體/片材/玻璃/玻璃片材類型的結構。該聚合物可以特別地基于聚乙烯醇縮丁醛PVB，乙烯乙酸乙烯酯EVA，聚對苯二甲酸乙二醇酯PET或聚氯乙烯PVC。本發明還涉及一個，優選至少兩個根據本發明的非連續金屬層在堆疊體中的用途，所述堆疊體包含至少一個基于銀的或由銀制成的金屬功能層和兩個抗反射涂層，所述金屬功能層具有7nm至20nm的厚度e(并包括端值)，所述抗反射涂層每個包括至少一個抗反射層，所述功能層被設置于兩個抗反射涂層之間，所述堆疊體還包括具有0.5nm至5nm的厚度e'(并包括端值)的下方非連續金屬層，所述下方非連續金屬層位于一方面所述面和另一方面從所述面開始數的唯一金屬功能層或第一金屬功能層之間；任選的其它非連續金屬層是位于唯一金屬功能層或從所述表面開始數的最后金屬功能層上方并具有0.5nm至5nm(并包括端值)的厚度e'的上方非連續金屬層。本發明還涉及一種用于在堆疊體中沉積一個，優選至多兩個根據本發明的非連續金屬層的方法，該堆疊體包括至少一個具有7nm至20nm的厚度(并包括端值)的基于銀的或由銀制成的金屬功能層和兩個抗反射涂層，所述抗反射涂層每個包括至少一個抗反射層，所述功能層被設置于兩個抗反射涂層之間，所述堆疊體還包括具有0.5nm至5nm的厚度e'(并包括端值)的下方非連續金屬層，所述下方非連續金屬層位于一方面所述面和另一方面唯一金屬功能層或從所述面開始數的第一金屬功能層之間；任選的其它非連續金屬層位于從所述表面開始數的唯一或最后金屬功能層上方，并且具有0.5nm至5nm的厚度e'(并包括端值)。有利地，本發明因此允許獲得具有在可見光中的光透射率TL>50％和小于20％，甚至低于10％的在可見光中的光反射率RC(堆疊體一側)的薄層堆疊體(沉積在透明基材上)，并且具有相對中性的在透射和反射中的顏色，同時具有的發射率低于單獨基材的發射率。有利地，本發明因此允許生產具有1、2、3、4個，甚至更多個基于銀的或者由銀制成的金屬功能層的薄層堆疊體，并且該薄層堆疊體包含一個，優選至多兩個非連續金屬層，以使得堆疊體具有高機械穩定性和/或高耐化學性。通過借助于附圖示出的以下非限制性實施例，本發明的細節和有利特征將變得明顯，附圖示出：-在附圖1中，具有一個非連續金屬層的單功能層堆疊體，非連續金屬層被沉積在金屬功能層上方；-在附圖2中，具有一個非連續金屬層的單功能層堆疊體，非連續金屬層被沉積在金屬功能層下方；-在附圖3中，具有兩個非連續金屬層的單功能層堆疊體，一個非連續金屬層被沉積在金屬功能層上方，和一個非連續金屬層被沉積在金屬功能層下方；-在附圖4中，包含根據本發明的堆疊體的雙層窗玻璃的技術方案；-在附圖5中，從左到右，由具有53％至98％的表面占據率的由銀制成的非連續金屬層的二元MET顯微圖像(imagesenMETbinaire)；-在附圖6中，作為波長λ的函數的實施例1至3的光透射率TL(對于通常認為0至100％的值，以0至1的系數的形式表示)-在附圖7中，作為波長λ的函數的實施例1至3的吸收光譜Ab(對于通常認為0至100％的值，以0至1的系數的形式表示)-在附圖8中，作為波長λ的函數的實施例1至3的光反射率RL(對于通常認為是0至100％的值，以0到1的系數的形式表示)；-在附圖9中，單獨的基材和實施例5，5.0，5.1和5.2的基材作為波長λ的函數的光透射率TL，以％表示；-在附圖10中，單獨的基材和實施例5，5.0，5.1和5.2的基材作為波長λ的函數的吸收光譜Ab，以％計；-在附圖11中，單獨的基材和實施例5，5.0，5.1和5.2的基材作為波長λ的函數在與堆疊體相反一側的光反射率RG，以％表示；-在附圖12中，單獨的基材和實施例5，5.0，5.1和5.2的基材作為波長λ的函數的在堆疊體一側的光反射率RC，以％計；-在附圖13中，包含兩個非連續金屬層的雙功能層堆疊體，一個非連續金屬層被沉積在第一金屬功能層下方，和一個非連續金屬層被沉積在第二金屬功能層上方；和-在附圖14中，包含兩個非連續金屬層的三功能層堆疊體，一個非連續金屬層被沉積在第一金屬功能層下方，和一個非連續金屬層被沉積在第三金屬功能層上方。附圖1至附圖3示出了沉積在透明玻璃基材30上的，更確切地說，沉積在該基材30的面31上的單功能層堆疊體34的結構，其中基于銀或基于含銀的金屬合金的，優選僅由銀制成的唯一功能層140被設置在兩個抗反射涂層之間，即，位于功能層140下方的下伏抗反射涂層120(在基材30的方向上)和被設置在功能層140上方的上伏抗反射涂層160(在與基材30相反的方向上)。這兩個抗反射涂層120，160每個包括至少一個抗反射層128，168。任選地，一方面，功能層140可以被直接沉積在下阻擋涂層上，該下阻擋涂層被設置在下伏抗反射涂層120和功能層140之間，和另一方面，功能層140可以被直接沉積在上阻擋涂層150的下方，上阻擋涂層150被設置在功能層140和上伏抗反射涂層160之間。下和/或上阻擋層，盡管以金屬形式進行沉積并如同金屬層一樣存在，但是在實踐中是氧化層，因為它們的主要功能是在堆疊體沉積期間被氧化以保護功能層。這種抗反射涂層160可以以任選的保護層，特別地基于氧化物(尤其氧是亞化學計量的)的保護層(未示出)結束。當單功能層堆疊體用在具有雙層窗玻璃結構的多層窗玻璃100中時，如在圖4中所示，該窗玻璃包括兩個基材10，30，它們通過框架結構90被保持在一起并且彼此通過中間氣體腔15被隔開。窗玻璃由此實現外部空間ES與內部空間IS的分隔。根據本發明的堆疊體，因為其高機械穩定性，可以被設置于面4上(通過考慮進入建筑物的太陽光的入射方向，在最接近建筑物內部的片材上，并且在該片材朝向內部的面上)。圖4示出了位于基材30的與外部空間ES接觸的外部面31上的薄層堆疊體34在面4上的這種定位(進入建筑物的入射方向由雙箭頭表示)，基材30的另一個面29與中間氣體腔15接觸。然而，也可以設想，在這種雙層窗玻璃結構中，基材之一具有層壓結構；然而，這不存在可能的混亂，因為在這種結構中沒有中間氣體腔。已經實施了一系列七個實施例：-實施例1構成參照實施例：它涉及一個不含非連續金屬層的單功能層堆疊體；-實施例2是基于實施例1的比較實施例，并且其還在包含在單功能層堆疊體的上部中(即從基材開始，在該功能層上方)包括金屬吸收層167'；-實施例3是基于實施例1的實施例，并且其在單功能層堆疊體的上部中還包括上方非連續金屬層167；-實施例4是基于實施例1的比較實施例，并且其在單功能層堆疊體的下部中(即在該功能層和基材之間)還包括吸收層123'；-實施例5是基于實施例1的實施例，并且其在單功能層堆疊體的下部中還包括下方非連續金屬層123；-實施例6是基于實施例1的比較實施例，并且其在單功能層堆疊體的下部中(即在該功能層和基材之間)還包括吸收層123'，并且在單功能層堆疊體的上部中(即，從基材開始，在該功能層上方)還包括吸收層167'；和-實施例7是基于實施例1的實施例，并且其在單功能層堆疊體的下部中還包含下方非連續金屬層123，并且其在單功能層堆疊體的上部中還包含上方非連續金屬層167。對于下面的所有堆疊體，層的沉積條件是：層采用的靶沉積壓力氣體Si3N4:Al為92:8wt%的Si:Al1.5×10-3mbar為45%的Ar/(Ar+N2)TiO2TiO21.5×10-3mbar為45%的Ar/(Ar+O2)ZnOZnO1.5×10-3mbar為83%的Ar/(Ar+O2)NiCr為80:20wt%的Ni:Cr2×10-3mbar100%ArAgAg8×10-3mbar100%Ar因此，對于這些實施例，沉積的層可分為五類：i-由介電/抗反射材料制成的層，其在可見光的整個波長范圍內具有高于5的n/k比：由Si3N4：Al或TiO2或ZnO制成的層121，121'，128，162，168，169，169'；ii-由銀(在紅外中和/或在太陽輻射中具有反射性質的材料)制成的連續金屬功能層140；iii-上阻擋層150，旨在保護功能層以免在堆疊體的沉積期間它的性質改變：Ni，NiCr；當它們具有小厚度(厚度小于或等于2nm)時，它們對光學和能量性質的影響通常被忽略；iv-對于實施例3，5和7：非連續金屬層123和/或167，或“DML”層，“DML”代表“非連續金屬層”；和v-對于比較例2，4和6：由鈦制成的金屬吸收層123'和/或167'；這種類型的層是連續層。在所有實施例中，薄層堆疊體已經被沉積在基材G上，該基材由4mm厚的由SAINT-GOBAIN公司以Planilux品牌銷售的透明鈉鈣玻璃組成。對于這些堆疊體，-TL指示：在可見光中的光透射率(%)，以2°使用光源D65測量；-a*T和b*T指示以2°使用光源D65測量的在LAB系統中的透射顏色a*和b*；-RG指示：以2°使用光源D65測量的玻璃側(與堆疊體沉積在其上的表面相反的表面)的可見光％的光反射率；-a*G和b*G指示在與被涂覆一側相反的基材的一側(面29)以2°使用光源D65測量的在LAB系統中的反射顏色a*和b*；-Rc指示：以2°使用光源D65測量的在薄層堆疊體一側(基材的表面31)在可見光中的光反射率(%)；-a*C和b*C指示在基材的被涂覆一側(面31)上以2°使用光源D65測量的LAB系統中的反射顏色的a*和b*；-g指示結構的g因子或太陽因子：-對于實施例1至3：將堆疊體設置在雙層窗玻璃的面3上，所述雙層窗玻璃包括兩個由16mm厚的氬氣腔隔開的4mm玻璃基材，承載該堆疊體的基材因此是由入射日光穿過的第二基材；和-對于實施例4至7：將堆疊體設置在雙層窗玻璃的面2上，所述雙層窗玻璃包括兩個由16mm厚的氬氣腔隔開的4mm玻璃基材，承載該堆疊體的基材因此是由入射日光穿過的第一基材。該因子根據標準EN410進行確定，并且對應于穿過窗玻璃的直接能量傳輸和朝向內部的二次熱傳遞的總和。根據本發明，非連續金屬層DML是非連續層，其優選具有50％至98％的表面占據率(以位于非連續金屬層正下方并且被非連續金屬層覆蓋的層的面積的比例計)。根據本發明，非連續金屬層DML是包含，優選地主要(以至少50原子％)包含選自Ag，Au，Cu，Pt的至少一種金屬的層。根據本發明，非連續金屬層DML是優選地在每一側(在上方和在下方)被介電/抗反射材料層圍繞的層，由介電/抗反射材料制成的層的折光指數n優選地至少等于1.9。圖5從左到右顯示：-使用2nm銀厚度獲得的53％表面占據率；這種堆疊體具有發射率ε=88.7％；-使用3nm銀厚度獲得的63％表面占據率；這種堆疊體具有發射率ε=49.3％；-使用4nm銀厚度獲得的84％表面占據率；這種堆疊體具有發射率ε=23.9％；-使用5nm銀厚度獲得的98％表面占據率；這種堆疊體具有發射率ε=15.7％；它們對于具有以下結構的薄層堆疊體Z而獲得：基材/ZnO/DML銀層/ZnO，每個ZnO層(具有折光指數n=1.9)具有10nm的厚度。理論計算表明，對于小于或等于5nm的DML銀厚度，即對于50％-98％之間的表面占據率，用Z類型的堆疊體可以獲得比單獨基材的發射率更低的發射率εZ，同時仍然高于觀察到的發射率。在本文中，當提及DML的厚度e時，它不涉及在由DML覆蓋的區域中測量的厚度或平均厚度，而是如果該層是連續時獲得的厚度。這種值可以通過考慮層的沉積速率(或更精確地，基材在沉積金屬功能層的沉積室中的運行速度)，每單位時間濺射的材料的量以及在其上進行該沉積的表面來確定。該厚度非常實用，因為其允許直接與連續功能層的厚度進行比較。因此，厚度e'是如果該沉積的層是連續時將被測得的厚度。在實踐中，如果正常情況下，在相同的磁控管濺射的沉積條件(非常低的壓力，靶的組成，基材的運行速度，陰極電功率)下，功能層的厚度為10nm；為了獲得為一半的功能層的厚度(即5nm)，需要并且只需要將基材的運行速度減小一半就足夠了。在附圖5上，它涉及以二元(黑-白)方式顯示的通過透射電子顯微鏡(MET)觀察到的顯微圖像。在該圖的四個顯微圖像中，銀是白色的和ZnO是黑色的。對于這種類型的堆疊體Z觀察到，對于大于5nm的銀厚度，粘附能是幾乎恒定的：這種能為1.0-1.5J/m2之間，這是相當低的。下面的表1示出了參考附圖1的實施例1至3的每個層的以納米計的幾何或物理厚度(不是光學厚度)：層Ex.1Ex.2Ex.3169-TiO22nm2nm2nm167'–Ti1nm167–Ag1nm169'-TiO22nm2nm168-Si3N4:Al30nm28nm28nm164-TiO211nm11nm11nm162-ZnO6nm6nm6nm140-Ag13nm13nm13nm128-ZnO5nm5nm5nm124-TiO223nm23nm23nm表1。對于實施例1至3，設置于面31和唯一的金屬功能層140之間的抗反射涂層120包括由具有在550nm為2.3至2.7的折光指數的材料制成的高折光指數的抗反射涂層124，該高指數抗反射層124優選具有在5-25nm之間的物理厚度。對于實施例1至3，設置于唯一的金屬功能層140上方的抗反射涂層160包括由具有在550nm為1.8-2.2的折光指數的材料制成的中等指數抗反射層162，該中等指數抗反射層162優選具有在5-35nm之間的物理厚度。下面的表2示出了實施例4和5的每個層的物理厚度(以納米為單位)，參考附圖2：層Ex.4Ex.5168-Si3N4:Al40nm40nm162-ZnO5nm5nm150-NiCr0.5nm0.5nm140-Ag13nm13nm128-ZnO5nm5nm121'-TiO220nm20nm123'–NiCr1nm123–Ag1nm121-TiO23nm3nm表2。下面的表3示出了實施例6和7的每個層的物理厚度(以納米計)，參考附圖3：膜Ex.6Ex.7169-TiO22nm2nm167'–Ti1nm167–Ag1nm169'-TiO22nm2nm168-Si3N4:Al28nm28nm162-ZnO5nm5nm150-NiCr0.5nm0.5nm140-Ag13nm13nm128-ZnO5nm5nm121'-TiO220nm20nm123'–NiCr1nm123–Ag1nm121-TiO23nm3nm表3。實施例2，4和6分別可與實施例3，5和7相比較，因為它們都包括由相同材料(Ag)制成的具有相同厚度的唯一金屬功能層；這些實施例也可與實施例1相比較，因為它也包括由相同材料(Ag)制成的并具有相同厚度的唯一金屬功能層；抗反射涂層從一個系列(實施例2-3形成一個系列，實施例4-5形成一個系列，實施例6-7形成一個系列)到另一個系列不是相同的，因為它們的組成已經進行優化以試圖獲得可能的最佳性能。下表顯示實施例3，5和7(包含一個DML層(實施例3和5)或兩個DML層(實施例7))的主要光學性質，并將這些性質分別與實施例2，4和6(包括與一個Ti吸收層(實施例2和4)或兩個Ti吸收層(實施例6)，Ti吸收層具有與每個DML層等效的厚度)以及與實施例1(其不包括DML層也不包括吸收層)的性質進行比較。Ex.1Ex.2Ex.3Ex.4Ex.5Ex.6Ex.7TL(%)84.368.370.466.865.446.144.3a*T-2.02-3.02-3.73-2.40.08-3.322.55b*T4.181.393.486.8-0.40.82-6.81RG(%)9.98.5217.3812.1a*G0.9-1.70.53-0.41b*G-6.4-7.17.01-5.09RC(%)8.515.908.2613.510.313.366.53a*C2.94-4.41-5.391.72.321.391.34b*C-12.18-20.10-26.10-16.1-12.9-16.33-31.26g0.570.610.630.440.460.550.57表4。因此看出，可以獲得：-在上方抗反射涂層中含有非連續金屬層的單金屬功能層堆疊體(實施例3)，其太陽因子g比在上方抗反射涂層中包含金屬吸收層的單金屬功能層堆疊體(實施例2)的太陽因子g更高，對于幾乎相同的在可見光中的光透射率而言；-在下方抗反射涂層中包含非連續金屬層的單金屬功能層堆疊體(實施例5)，其太陽因子g比在下方抗反射涂層中包含金屬吸收層的單金屬功能層堆疊體(實施例4)的太陽因子g更高，對于幾乎相同的在可見光中的光透射率而言；和-在下方抗反射涂層中包含非連續金屬層和在上方抗反射涂層中的包含非連續金屬層的單金屬功能層堆疊體(實施例7)，其太陽因子g比在下方抗反射涂層中包含金屬吸收層和在下方抗反射涂層中包含金屬吸收層的單金屬功能層堆疊體(實施例6)的太陽因子g更高，對于幾乎相同的在可見光中的光透射率而言。此外，觀察到顏色中和的改善，特別具有較少黃色的透射顏色，與較低的甚至為負的b*T。附圖6至8分別示出了實施例1至3的作為波長λ(nm)的函數的光透射率TL，光吸收Ab和在堆疊體一側的光反射率RC。附圖6顯示含有DML層的堆疊體(實施例3)允許獲得與使用含有金屬吸收層的堆疊體(實施例2)所獲得的在可見光中光透射率非常接近的在可見光中光透射率；然而，使用實施例3的堆疊體在遠可見光和近紅外(從550nm至1000nm)中的吸收比使用實施例2的堆疊體更高，并且使用實施例3的堆疊體在遠可見光和近紅外光(550nm至1000nm)中在堆疊體一側的反射比使用實施例2的堆疊體更高，這最終允許獲得更高的太陽因子，對于在可見光中的相同光透射率水平而言。附圖9至12分別示出了單獨基材G(即在它的面之一上沒有實施例5和實施例5.0，5.1和5.2的層，實施例5.0，5.1和5.2基于實施例5進行實施)的作為波長λ(單位為nm)的函數的光透射率TL，光吸收Ab，在基材一側的光反射率RG和在堆疊體一側的光反射率RC；在實施例5.0，5.1，5.2和實施例5中之間僅有一個差異：-對于實施例5.0，DML層的厚度為0nm(不存在DML層)；-對于實施例5.1，DML層的厚度為0.9nm；和-對于實施例5.2，DML層的厚度為1.2nm。這些附圖表明，DML層的存在誠然降低了光透射率(由于吸收增大)，但是在基材一側和堆疊體一側獲得光反射是弱的。增大DML的名義厚度允許提高總體吸收水平和顏色選擇性。這些試驗特別地表明，對于非連續金屬層在0.9至1.2nm的厚度e'范圍特別有利于獲得相對高的在可見光中的光透射率(65-68％)，同時具有足夠低的玻璃一側的光反射率(6-7％)和足夠低的堆疊體一側的光反射率(8-9％)。此外，獲得了低b*c值(約-15)，低b*G值(約-10)和低a*T值(約-1.0至+0.3)。對于所有上述實施例，所述和/或每個非連續金屬層123，167一方面直接位于具有至少1.9，甚至在這種情況下為2.3(因為使用TiO2)的在550nm的折光指數的抗反射層121'，169'上方，和另一方面，直接位于具有為至少1.9，甚至在這種情況下為2.3(因為使用TiO2)的在550nm的折光指數的抗反射層121，169的下方，所述直接在下方的抗反射層121'，169'的折光指數在這里與所述直接在上方的抗反射層121，169的折光指數相同。試驗表明，對于層121，121'，169，169'，可以使用具有2.0的在550nm的折光指數的氮化硅(Si3N4:Al)代替TiO2。已經觀察到，所述和/或每個DML層123，167具有吸收光譜，使得在380nm至480nm的波長范圍內的吸收相對于在480nm至780nm的波長范圍內的吸收是相對低的。此外，已經觀察到，所述和/或每個DML層123，167與連續的金屬層不應該直接接觸(既不在下方也不在上方接觸)，因為在這種情況下，DML層的特定吸收光譜與跟它接觸的連續金屬層的在可見光(從380nm至780nm)中相對恒定的吸收光譜混同。附圖13和14分別示出了雙功能層堆疊體35的結構和三功能層堆疊體36的結構，所述堆疊體沉積在透明玻璃基材30上，更確切地說，沉積在所述基材30的面31上。每個功能層140，180，220，其優選主要基于銀或者含銀的金屬合金，更優選僅由銀制成，被設置在兩個抗反射涂層之間，即，在位于每個功能層140，180，220下方的下伏抗反射涂層120，160，200(在基材30的方向上)，和設置在每個功能層140，180，220上方(在與基材30相反的方向)的上伏抗反射涂層160，200，240之間。每個抗反射涂層120，160，200，240包含至少一個抗反射層128，168，208，248。附圖3示出了堆疊體34，其包括金屬功能層140(優選主要基于銀或由銀制成的層，該金屬功能層是該堆疊體中唯一的金屬功能層)以及兩個非連續金屬層123，167，一個非連續金屬層位于一方面所述面31和另一方面金屬功能層140之間(從所述面31開始數)，另一個位于金屬功能層140上方(從所述面31開始數)。附圖13示出了用于雙功能層堆疊體35的類似技術方案。該堆疊體35包括兩個金屬功能層140，180，這些層優選主要基于銀或由銀制成，以及兩個非連續金屬層123，167，一個非連續金屬層位于一方面所述面31和另一方面從所述面31開始數的第一金屬功能層140之間，并且另一個位于從所述面31開始數的第二金屬功能層180上方。附圖14示出了用于三功能層堆疊體36的類似技術方案。該堆疊體36包括三個金屬功能層140，180，220(其優選主要基于銀或由銀制成)和兩個非連續金屬層123，167，其中一個非連續金屬層位于一方面所述面31和另一方面從所述面31開始數的第一金屬功能層140之間，和另一個位于從所述面31開始數的第三金屬功能層220上方。這三種雙DML結構允許獲得具有低光反射率但具有更中性的在透射和反射中的顏色的堆疊體(與如果在每個結構中用金屬吸收層替代該全部兩個非連續金屬層的情況相比)。基于附圖13和14，可以提供唯一下方非連續金屬層123，其位于一方面所述面31和另一方面從所述面31開始數的第一金屬功能層之間或者唯一上方非連續金屬層167，其位于從所述面31開始數的最后金屬功能層180，220上方。主要使用一種(或多種)貴金屬如Ag，Au，Pt或Cu允許通過磁控濺射簡單且可靠地沉積DML，因為這種方法允許很好地管控島的生長；事實上，選擇性吸收特別地基于金屬的等離子體特性，其通過島狀結構化成為可能。在前面作為實施例描述了本發明。應當理解的是，本領域普通技術人員將能夠獲得本發明的各種變型，而不脫離由權利要求限定的本專利的范圍。當前第1頁1 2 3