可降低擾流的槽盤式液體循環系統的制作方法

本發明涉及一種液體循環系統，特別涉及一種可降低擾流的槽盤式液體循環系統。

背景技術：

近來，玻璃基材大量地使用在不同的產品上，尤其是顯示器面板，因此各制造廠商紛紛引進不同的自動化流程以及自動化設備以提升產能，借此應付日益增加的需求量，然而在浸鍍玻璃基材時，若浸鍍液擾流過大則會導致玻璃基材表面平整度降低，因此如何提供一種可降低擾流的槽盤式液體循環系統以提升玻璃基材表面平整度便成為業界努力的課題的一。

技術實現要素：

因此，本發明提供一種可降低擾流的槽盤式液體循環系統，以解決上述問題。

為達成上述目的，本發明公開一種可降低擾流的槽盤式液體循環系統，其包括一槽體、一進液裝置以及一輸送裝置，所述槽體包括一底壁以及一環繞側壁，所述環繞側壁突出于所述底壁，所述環繞側壁與所述底壁共同定義一容置空間及連通于所述容置空間的一開口，其中所述容置空間用以容置一液體，所述進液裝置設置在所述槽體的上方，所述進液裝置沿一第一方向通過所述開口提供一補充液體至位于所述容置空間內的所述液體，所述輸送裝置設置在所述槽體的所述容置空間內，所述輸送裝置用以沿一第二方向輸送一平板構件通過所述液體。

根據本發明其中的一實施例，所述環繞側壁上形成有連通于所述容置空間的一入口，且所述平板構件由所述入口進入所述容置空間。

根據本發明其中的一實施例，所述槽盤式液體循環系統還包含一入口輸 送裝置，設置在所述入口相對所述容置空間的一側，所述輸送裝置與所述入口輸送裝置共同將所述平板構件通過所述入口送入所述容置空間。

根據本發明其中的一實施例，所述槽盤式液體循環系統還包含一入口閘門，樞接于所述環繞側壁鄰近所述入口處，用以選擇性地封閉所述入口。

根據本發明其中的一實施例，位于所述容置空間的所述液體具有一液面，所述液面與所述底壁的一第一距離大于所述入口的一上端緣與所述底壁的一第二距離，且所述第一距離與所述第二距離之差為一第一距離差。

根據本發明其中的一實施例，所述第一距離差大于或等于20厘米。

根據本發明其中的一實施例，所述環繞側壁上形成有連通于所述容置空間的一出口，且所述平板構件由所述出口離開所述容置空間。

根據本發明其中的一實施例，所述槽盤式液體循環系統還包含一出口輸送裝置，設置在所述出口相對所述容置空間的一側，所述輸送裝置與所述出口輸送裝置共同將所述平板構件通過所述出口送出所述容置空間。

根據本發明其中的一實施例，所述槽盤式液體循環系統還包含一出口閘門，樞接于所述環繞側壁鄰近所述出口處，用以選擇性地封閉所述出口。

根據本發明其中的一實施例，位于所述容置空間的所述液體具有一液面，所述液面與所述底壁的一第三距離大于所述出口的一上端緣與所述底壁的一第四距離，且所述第三距離與所述第四距離之差為一第二距離差。

根據本發明其中的一實施例，所述第二距離差大于或等于20厘米。

根據本發明其中的一實施例，所述環繞側壁上形成有一入口及一出口，所述入口與所述出口分別連通于所述容置空間，所述平板構件由所述入口進入所述容置空間且由所述出口離開所述容置空間，所述進液裝置以一流入量通過所述開口提供所述補充液體至位于所述容置空間內的所述液體，所述入口以一入口流出量將所述液體由所述槽體排出，所述出口以一出口流出量將所述液體由所述槽體排出，且所述流入量大于或等于所述入口流出量與所述出口流出量的和。

根據本發明其中的一實施例，所述槽盤式液體循環系統還包括一控制單元，耦接于所述進液裝置，所述控制單元依據所述液體的一液面位置控制所述進液裝置提供所述補充液體至位于所述容置空間的所述液體。

根據本發明其中的一實施例，所述第一方向垂直于所述第二方向。

根據本發明其中的一實施例，所述環繞側壁上形成有連通于所述容置空間的一入口與一出口，且所述槽盤式液體循環系統還包含一入口輸送裝置以及一出口輸送裝置，所述入口輸送裝置設置在所述入口相對所述容置空間的一側，所述入口輸送裝置與所述輸送裝置共同將所述平板構件通過所述入口送入所述容置空間，所述出口輸送裝置設置在所述出口相對所述容置空間的一側，所述出口輸送裝置與所述輸送裝置共同將所述平板構件通過所述出口送出所述容置空間，其中所述輸送裝置、所述入口輸送裝置以及所述出口輸送裝置分別為一滾輪裝置。

綜上所述，本發明槽盤式液體循環系統利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅使平板構件沿第二方向通過入口送入槽體的容置空間，再通過出口送出槽體的容置空間，以達到自動化浸鍍平板構件的目的。此外本發明槽盤式液體循環系統另利用進液裝置由液體的液面的上方提供補充液體，因此當進液裝置所提供的補充液體進入液體的液面時，上述液體的液面與平板構件的上表面間保持有一定距離的設計，可防止補充液體在進入液體的液面時所產生的擾流影響平板構件的上表面，進而確保平板構件的上表面的平面完整度。有關本發明的前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考附圖的實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

附圖說明

圖1為本發明實施例槽盤式液體循環系統的示意圖。

圖2為本發明實施例槽盤式液體循環系統的功能方塊示意圖。

其中，附圖標記說明如下：

1 槽盤式液體循環系統

10 槽體

101 底壁

102 環繞側壁

103 容置空間

104 開口

105 入口

106 出口

11 進液裝置

12 輸送裝置

13 入口輸送裝置

14 入口閘門

15 出口輸送裝置

16 出口閘門

17 控制單元

2 平板構件

D1 第一方向

D2 第二方向

L 液體

S 補充液體

X1 第一距離

X2 第二距離

X3 第三距離

X4 第四距離

Y1 第一距離差

Y2 第二距離差

Q1 入口流出量

Q2 出口流出量

C 液面

具體實施方式

以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或后等，僅是參考附加附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明并非用來限制本發明。請參閱圖1及圖2，圖1為本發明實施例一槽盤式液體循環系統1的示意圖，圖2為本發明實施例槽盤式液體循環系統1的功能方塊示意圖。如圖1及圖2所示，槽盤式液體循環系統1包括一槽體10、一進液裝置11、一輸送裝置12、一入口輸送裝置13、一入口閘門14、一出口輸送裝置15、一出口閘門16以及一控制單元17，槽體10包括一底壁101以及一環繞側壁102，環繞側壁102突出于底壁101，環繞側壁102與底壁101共同定義一容置空間103及連通于容置空間103的一開口104，其中容置空間103用以容置一液體L，且環繞側壁102上形成有連通于容置空間103的一入口105以及一出口106。在本實施例中，入口105與出口106位于環繞側壁102的相對兩側，但本發明不受此限。

此外，進液裝置11設置在槽體10的上方，進液裝置11沿一第一方向D1通過開口104提供一補充液體S至位于容置空間103內的液體L，使位于容置空間103內的液體L借由補充液體S的補充而維持穩定。輸送裝置12設置在槽體10的容置空間103內且浸泡于液體L內，入口輸送裝置13設置在入口105相對容置空間103的一側，即入口輸送裝置13與輸送裝置12位于入口105的相對兩側，出口輸送裝置15設置在出口106相對容置空間103的一側，即出口輸送裝置15與輸送裝置12位于出口106的相對兩側，入口閘門14樞接于環繞側壁102鄰近入口105處，出口閘門16樞接于環繞側壁102鄰近出口106處。在本實施例中，輸送裝置12、入口輸送裝置13以及出口輸送裝置15可分別為一滾輪裝置，而本發明并不局限于此。

此外，如圖1以及圖2所示，液體L具有一液面C，控制單元17耦接于進液裝置11、入口閘門14以及出口閘門16，而本發明槽盤式液體循環系統1另可包含一液位偵測裝置(未繪示于圖中)，所述液位偵測裝置耦接于控制單元17，用以偵測位于容置空間103的液體L的液面C的一液面位置，控制單元17依據液體L的所述液面位置控制進液裝置11提供補充液體S至位于容置空間103的液體L，且控制單元17另分別控制入口閘門14以及出口閘門16選擇性地封閉入口105以及出口106。

另外，入口輸送裝置13與輸送裝置12可共同用以將一平板構件2沿一第二方向D2通過入口105送入容置空間103并通過液體L，且出口輸送裝置15與輸送裝置12共同將平板構件2沿第二方向D2通過出口106送出容置空間103。在本實施例中，第一方向D1可垂直于第二方向D2，即本發明進液裝置11所提供的補充液體S的液體補充方向(即第一方向D1)垂直于平板構件2的輸送方向(即第二方向D2)。當欲浸鍍平板構件2時，首先將平板構件2放置于入口輸送裝置13上，入口輸送裝置13即可沿第二方向D2輸送平板構件2，當平板構件2位于靠近槽體10的入口105處時，控制單元17控制入口閘門14敞開于入口105，以使入口輸送裝置13可順利地將平板構件2通過入口105送入槽體10的容置空間103內的輸送裝置12，于上述過程中，當入口閘門14不封閉入口105時(即當入口105呈敞開狀態時)，位于容置空間103內的液體L則會由入口105排出，接著，當入口輸送裝置13與輸送裝置12共同驅使平板構件2完全進入槽體10的容置空間103內后，控制單元17控制入口閘門14封閉入口105。

當平板構件2浸鍍完畢時，平板構件2隨著輸送裝置2由槽體10的容置空間103內靠近入口105處沿第二方向D2送至靠近出口106處，此時控制單元17控制出口閘門16敞開于出口106，以使輸送裝置12可順利地將平板構件2通過出口106送至出口輸送裝置15，于上述過程中，當出口閘門16不封閉出口106時(即當出口106呈敞開狀態時)，位于容置空間103內的液體L則會由出口106排出，接著，當出口輸送裝置15與輸送裝置12共同驅使平板構件2完全離開槽體10的容置空間103后，控制單元17控制出口閘門16封閉出口106。

值得一提的是，如圖1所示，位于容置空間103的液體L的液面C與底壁101的一第一距離X1大于入口105的一上端緣與底壁101的一第二距離X2，且第一距離X1與第二距離X2之差為一第一距離差Y1，即液體L的液面C與入口105的所述上端緣相距第一距離差Y1，以確保平板構件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。在本實施例中，第一距離差Y1可大于或等于20厘米，但本發明不受此限。此外，由于本發明進液裝置11由液體L的液面C的上方提供補充液體S，因此當進液裝置11所提供的補充液體S進入液體L的液面C時，上述液體L的液面C與平板構件2的上表面間保 持有一定距離的設計，可防止補充液體S在進入液體L的液面C時所產生的擾流影響平板構件2的上表面，進而確保平板構件2的上表面的平面完整度。

另外，當控制單元17控制入口閘門14敞開于入口105時，液體L會以一入口流出量Q1通過入口105由槽體10排出，此時位于容置空間103內的液體L的液面C便會降低，當液位偵測裝置偵測位于容置空間103內的液體L的液面C低于一默認位置時，控制單元17便會控制進液裝置11提供補充液體S至位于容置空間103的液體L，以維持液體L的液面C與入口105的所述上端緣相距第一距離差Y1(即20厘米)，進而避免液體L在進液裝置11提供補充液體S時所產生的液面擾動影響平板構件2的上表面的平整度。

同理，如圖1所示，液面C與底壁101的一第三距離X3大于出口106的一上端緣與底壁101的一第四距離X4，且第三距離X3與第四距離X4之差為一第二距離差Y2，即液體L的液面C與出口106的所述上端緣相距第二距離差Y2，以確保平板構件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。在本實施例中，第三距離X3等于第一距離X1，第四距離X4等于第二距離X2，且第二距離差Y2可等于第一距離差Y1(即第二距離差Y2大于或等于20厘米)，但本發明不受此限。

當控制單元17控制出口閘門16敞開于出口106時，液體L以一出口流出量Q2通過出口106由槽體10排出，此時位于容置空間103內的液體L的液面C便會降低，當液位偵測裝置偵測位于容置空間103內的液體L的液面C低于一默認位置時，控制單元17便會控制進液裝置11提供補充液體S至位于容置空間103的液體L，以維持液體L的液面C與出口106的所述上端緣相距第二距離差Y2(即20厘米)，進而避免液體L在進液裝置11提供補充液體S時所產生的液面擾動影響平板構件2的上表面的平整度

相較于現有技術，本發明槽盤式液體循環系統利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅使平板構件沿第二方向通過入口送入槽體的容置空間，再通過出口送出槽體的容置空間，以達到自動化浸鍍平板構件的目的。此外本發明槽盤式液體循環系統另利用進液裝置由液體的液面的上方提供補充液體，因此當進液裝置所提供的補充液體進入液體的液面時，上述液體的液面與平板構件的上表面間保持有一定距離的設計，可防止補充液體在進入液體的液面時所產生的擾流影響平板構件的上表面，進而確保平板構件的上 表面的平面完整度。

以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。