一種蒸鍍裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及在制造有機發光二極體(Organic Light-Emitting D1de，簡稱OLED)時使用的蒸鍍裝置。
【背景技術】
[0002]有機發光二極體是主要由有機材料涂層和基板(例如玻璃基板)構成，當有電流通過時，該有機材料就會發光。
[0003]目前，由于OLED顯示屏幕可視角度大，并且能夠顯著節省電能，使其在平板顯示器領域得到了廣泛的應用;其中，OLED的蒸鍍技術是OLED規模生產的核心技術。
[0004]在OLED的蒸鍍過程中通過使用掩膜板的遮擋來定義形成RGB像素點，因此，掩膜板與基板貼合的緊密程度直接影響到像素點的位置精度。通常為了使掩膜板與基板貼合緊密，會使用磁板施加的磁力來實現，磁板設置于代加工基板的上方。
[0005]請參見圖1，其示出了現有技術的一種蒸鍍裝置的結構示意圖。如圖1所示，所述蒸鍍裝置包括蒸鍍腔室I’、蒸鍍源2’、掩膜板4’以及磁板5’。其中，蒸鍍源2’設置于蒸鍍腔室I’中，待蒸鍍基板3，設置于蒸鍍源2 ’的上方，掩膜板4，設置于蒸鍍源2，與待蒸鍍基板3，之間，磁板5，設置于待蒸鍍基板5，上方，待蒸鍍基板3，與掩膜板4 ’之間通過磁板5，施加的磁力相貼。
[0006]如圖1所示，由于現有技術中的磁板5’為整面式，即磁板5’呈板狀，其尺寸與待蒸鍍基板3’大致相同，因此，磁板5’無法對待蒸鍍基板3’上的局部磁力進行調節。而在蒸鍍過程中，掩膜板4’由于磁場不均勻等原因會出現形變，因此，待蒸鍍基板3’上的局部區域(掩膜板4’發生形變的區域)無法與掩膜板4’相貼，進而，該區域會產生陰影效果(即實際蒸鍍的面積與預先設定的蒸鍍面積不同)，影響OLED的量產品質、穩定性以及良率，提高了成本。
【實用新型內容】
[0007]針對現有技術中的缺陷，本實用新型的目的是提供一種蒸鍍裝置，解決現有技術中由于磁板施加在待蒸鍍基板上的磁力無法進行局部調整而出現的陰影效果等問題。
[0008]根據本實用新型的一個方面提供一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括:蒸鍍腔室;蒸鍍源，設置于蒸鍍腔室中，且位于待蒸鍍基板下方;磁力調節裝置，設置于所述待蒸鍍基板的上方，用于使掩膜板貼附于所述待蒸鍍基板的下表面，所述磁力調節裝置包括:多個磁鐵單元，每個磁鐵單元均可沿豎直方向上下移動；以及控制機構，控制所述磁鐵單元的上下移動。
[0009]優選地，所述控制機構包括多個電機，每個所述電機均對應連接一磁鐵單元，控制所述磁鐵單元的上下移動。
[0010]優選地，所述磁鐵單元包括:磁石;容置裝置，設置于所述磁石的外部，用于容置所述磁石;連桿，所述連桿分別連接所述容置裝置和所述電機。
[0011]優選地，所述待蒸鍍基板為矩形基板。
[0012]優選地，所述多個磁鐵單元呈矩陣排列。
[0013]優選地，每列所述磁鐵單元中的磁石均為同一磁極，且列與列之間的所述磁鐵單元的磁石的磁極為N極、S極相互交錯設置。
[0014]優選地，所述待蒸鍍基板為圓形基板。
[0015]優選地，所述多個磁鐵單元排列形成多個同心圓。
[0016]優選地，位于每個圓周上的所述磁鐵單元的磁石均為同一磁極，且每個相鄰的同心圓之間的所述磁鐵單元的磁石的磁極為N極、S極相互交錯設置。
[0017]優選地，所述磁力調節裝置還包括一承載裝置，所述承載裝置設置于所述待蒸鍍基板的上方，用于承載所述多個磁鐵單元。
[0018]優選地，所述承載裝置為一支撐板，所述支撐板由導磁材料制成。
[0019]本實用新型的蒸鍍裝置通過將現有技術中的磁板替換為多個可分別上下移動的磁鐵單元，使每個磁鐵單元與待蒸鍍基板之間的距離均可調節，進而通過調節磁鐵單元與待蒸鍍基板之間的距離來控制待蒸鍍基板的局部磁力大小，使掩膜板完全貼附于待蒸鍍基板的表面，避免或減少現有技術中因磁場不均勻等原因使掩膜板發生形變而產生陰影效果(即實際蒸鍍的面積與預先設定的蒸鍍面積不同)，提高了 OLED的量產品質、穩定性以及良率，降低了成本。
【附圖說明】
[0020]通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本實用新型的其它特征、目的和優點將會變得更明顯:
[0021 ]圖1為現有技術的一種蒸鍍裝置的結構示意圖；
[0022]圖2為本實用新型的第一實施例的蒸鍍裝置的結構示意圖；
[0023]圖3為本實用新型的第一實施例的磁鐵單元和控制機構的結構示意圖；
[0024]圖4為本實用新型的第一實施例的蒸鍍裝置的多個磁鐵單元的磁石排布的結構示意圖；以及
[0025]圖5為本實用新型的第二實施例的蒸鍍裝置的多個磁鐵單元的磁石排布的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0026]依據本實用新型主旨構思，所述蒸鍍裝置包括:蒸鍍腔室；蒸鍍源，設置于蒸鍍腔室中，且位于待蒸鍍基板的下方;磁力調節裝置，設置于所述待蒸鍍基板的上方，用于使掩膜板貼附于所述待蒸鍍基板的下表面，其包括:多個磁鐵單元，每個磁鐵單元均可沿豎直方向上下移動;控制機構，控制所述磁鐵單元的上下移動。
[0027]下面結合附圖和實施例對本實用新型的技術內容進行進一步地說明。
[0028]第一實施例
[0029]請一并參見圖2和圖3，其分別示出了本實用新型的第一實施例的蒸鍍裝置的結構示意圖、磁鐵單元和控制機構的結構示意圖。如圖2所示，在本實用新型的優選實施例中，所述蒸鍍裝置包括:蒸鍍腔室1、蒸鍍源2以及磁力調節裝置。
[0030]蒸鍍源2設置于蒸鍍腔室I中，如圖2所示，蒸鍍源2優選地設置于蒸鍍腔室I內的下方，用于蒸發蒸鍍材料，并在待蒸鍍基板上形成相應的功能層。
[0031 ]待蒸鍍基板3設置于蒸鍍源2的上方。在此實施例中，待蒸鍍基板3優選地呈矩形。
[0032]掩膜板4設置于蒸鍍源2與待蒸鍍基板3之間。如圖2所示，掩膜板4貼附于待蒸鍍基板的下方。在待蒸鍍基板3蒸鍍的過程中，通過掩膜板4的遮擋以此在待蒸鍍基板3上定義并形成RGB像素點，其中，掩膜板4上設有多個掩膜孔(圖中未示出)。在本實施例中，掩膜板4呈矩形，其與待蒸鍍基板3的橫截面尺寸和形狀相同。
[0033]磁力調節裝置設置于待蒸鍍基板3的上方，用于對掩膜板4施加磁力，使掩膜板4與待蒸鍍基板3緊密相貼。優選地，磁力調節裝置設置于待蒸鍍基板3的正上方，其與待蒸鍍基板3以及掩膜板4的橫截面尺寸大致相同。在圖2所示的優選實施例中，所述磁力調節裝置包括多個磁鐵單元51、控制機構以及承載裝置53。其中，每個磁鐵單元51均可沿豎直方向上下移動。優選地，每個磁鐵單元51的大小相同。控制機構包括多個電機52，電機52設置于蒸鍍腔室I內的頂部，且每個電機52均對應連接一個磁鐵單元51。電機52控制磁鐵單元51的上下移動。
[0034]圖3中以一個磁鐵單元51和電機52為例，對磁鐵單元51的結構以及和電機52之間的連接關系進行說明。具體來說，如圖3所示，每個磁鐵單元51均包括