一種蒸濺鍍混合的裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種裝置，尤其涉及一種蒸濺鍍混合的裝置。
【背景技術】
[0002]太陽能電池的種類眾多，而CIGS(銅銦鎵砸)薄膜太陽能電池擁有高轉換效率及發展潛力而受到矚目，目前CIGS(銅銦鎵砸)薄膜太陽能電池最高轉換效率由美國再生能源實驗室(NREL)所創造，其效率已達20%<XIGS(銅銦鎵砸)薄膜太陽能電池發展至今其組件結構大致件由上電極(Al/Ni，Ag)、光窗層(ΑΖ0低阻和ZnO高阻)、緩沖層(CdS, ZnOS，ZnMgO)、吸收層(CIGS)、下電極(Mo/NaMo)、阻絕層(Ti/Cr/Si02/NiCr)與基板(GLASS, SS，PI)所組成;在單一膜層內，各材料成份比之參數調配、薄膜晶體結構、制程方式與優化制程等各種因素為其制備上的挑戰，此外，還需考慮到各膜層堆棧成組件的匹配性、各膜層制備方式與制程間的相互影響等眾多因素，尤其從相關文獻顯示CIGS(銅銦鎵砸)對于各種制程參數下對于組件影響極其敏感，更增添CIGS(銅銦鎵砸)薄膜太陽能電池在制備上的困難，同時也使得技術門坎相對地提高，在國際光伏界認為是技術難度比較大的一種太陽電池。一般上電極層及光窗層可以采用真空濺鍍方式，緩沖層采化學水域方式，相較于組件結構各膜層中，吸收層制備方式共分兩大類:1.真空制程，包含共蒸鍍及濺鍍前趨物與砸化制程;2.非真空制程，包含電鍍及涂布等；而下電極(Mo/MoNa)及阻絕層一般采用濺鍍的方式。其中使用以化學浴方式制備緩沖層主要原因為目前階段所制作吸收層表面非常粗大，需藉由水浴法來達到緩沖層完整批覆于吸收層上，然而，在整個生產CIGS太陽電池過程中，使用水浴法制程方式有幾種限制:1.對于生產連續性不加;2.大面積均勻性不易控制;3.水浴法制作過程中需耗大量水;4.水浴法所使用化學溶劑后續處理成本高。若能將吸收層的表面平坦化就可以不采用水域法來做緩沖層，避免生產的不連續性來提高生產效率與良率，并降低生產成本。因此傳統的生產方式，制作CIGS太陽能組件時膜層必須多次暴露在真空底下，易受外界環境水氣的影響降低薄膜質量，同時由于多次進入真空系統及多次升降溫也嚴重影響了生產效率。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種蒸濺鍍混合的裝置，使得可撓性組件(CIGS/0LED等)的生產制作過程中都在真空的環境中進行，避免受大氣中的水氣的影響，由于本實用新型是蒸濺鍍的混合，所以降低生產線所需要的面積，而且蒸鍍與濺鍍共享一套真空系統，降低了設備制造成本，其模塊化的設計使的設備維修和保養更加容易，而且由于生產過程的連貫也提高了生產的效率。
[0004]本實用新型是這樣實現的，它包括外腔、抽真空裝置、加熱控制裝置、監控裝置、放料滾筒、支撐輪、配向滾筒、收滾筒、真空線性蒸鍍腔、真空磁控濺鍍室，所述外腔一側連接監控裝置、抽真空裝置和加熱控制裝置，其特征在于，所述外腔為封閉式的艙體，所述外腔左端從內到外依次設有收滾筒、支撐輪、支撐輪、支撐輪、支撐輪和放料滾筒，所述外腔右端的中間設有配向滾筒，所述收滾筒與配向滾筒之間的外腔中設有若干個腔體，所述腔體內側設有真空線性蒸鍍腔，所述腔體外側設有真空磁控濺鍍室，所述真空線性蒸鍍腔外側設有支撐輪，所述真空磁控濺鍍室內側設有支撐輪。
[0005]所述外腔采用不銹鋼材質，其必須能夠承受小于5x10—6t0rr以下的負壓。
[0006]所述放料滾筒材質為不銹鋼，直徑為200-350mm。
[0007]所述支撐滾輪材質為不銹鋼，直徑為50-200mm。
[0008]所述配向滾筒材質為不銹鋼，直徑為50-200mm。
[0009]所述收料滾筒材質為不銹鋼，直徑為200-350mm。
[0010]所述真空線性蒸鍍腔體材質為不銹鋼，其體內含線性蒸鍍源;所述線性蒸鍍源外層設有厚度為50-150mm斷熱層，所述斷熱層為石墨或鉬;所述線性蒸鍍源內含加熱線圈、若干個坩禍和若干個穩壓隔艙。
[0011 ]所述真空磁控濺鍍室材質為不銹鋼，其體內含磁控濺鍍源，其設有兩個靶位;所述靶材為平面式靶材或圓柱式靶材。
[0012]所述磁控濺鍍源的濺鍍電源優選RF、DC、脈沖DC或中頻的電源。
[0013]本實用新型的技術效果是:本實用新型使得可撓性組件(CIGS/0LED等)的生產制作過程中都在真空的環境中進行，避免受大氣中的水氣的影響，由于本實用新型是蒸濺鍍的混合，所以降低生產線所需要的面積，而且蒸鍍與濺鍍共享一套真空系統，降低了設備制造成本，其模塊化的設計使的設備維修和保養更加容易，而且由于生產過程的連貫也提高了生產的效率。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0015]在圖中，1、外腔2、抽真空裝置3、加熱控制裝置4、監控裝置5、放料滾筒6、支撐輪7、配向滾筒8、收滾筒9、真空線性蒸鍍腔1、真空磁控濺鍍室。
【具體實施方式】
[0016]結合圖1來具體說明本實用新型，所述外腔(I)一側連接監控裝置(4)、抽真空裝置
(2)和加熱控制裝置(3)，所述外腔(I)為封閉式的艙體，所述外腔(I)左端從內到外依次設有收滾筒(8)、支撐輪(6)、支撐輪(6)、支撐輪(6)、支撐輪(6)和放料滾筒(5)，所述外腔(I)右端的中間設有配向滾筒(7)，所述收滾筒(8)與配向滾筒(7)之間的外腔(I)中設有若干個腔體，所述腔體內側設有真空線性蒸鍍腔(9)，所述腔體外側設有真空磁控濺鍍室(10)，所述真空線性蒸鍍腔(9)外側設有支撐輪(6)，所述真空磁控濺鍍室(10)內側設有支撐輪(6)。
[0017]所述外腔(I)采用不銹鋼材質，其必須能夠承受小于5x10—6t0rr以下的負壓。
[0018]所述放料滾筒(5)材質為不銹鋼，直徑為200-350mm。
[0019]所述支撐滾輪(6)材質為不銹鋼，直徑為50-200mm。
[0020]所述配向滾筒(7)材質為不銹鋼，直徑為50-200mm。
[0021]所述收滾筒(8)材質為不銹鋼，直徑為200-350mm。
[0022]所述真空線性蒸鍍腔(9)材質為不銹鋼，其體內含線性蒸鍍源;