環保鋁鏡真空鍍膜設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及玻璃鍍膜技術領域，特別涉及一種環保鋁鏡真空鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]針對環保鋁鏡玻璃的鍍膜工藝，傳統的方法一般是先對工件進行離子清洗，然后送入鍍膜室進行鍍膜處理，若需要在多個鍍膜室中進行多次鍍膜，則采用多個鍍膜室進行連續鍍膜，其中對工件進行離子清洗時，由于目前離子源機構的結構限制，一般采用直流高壓放電的方式進行清洗，其電壓一般為2000V到3000V，但在實際生產中，該方式對工件表面有機物質的電離效果并不理想，得不到較好的清洗，導致所制得的鋁鏡純度低，其反射率難以得到提高，影響產品質量。另外，目前的環保鋁鏡玻璃設備中，鍍膜室內一般采用旋轉靶，但目前的旋轉靶采用3路磁鐵，形成I個環形的濺射跑道，該結構的旋轉靶濺射效率低，所濺射處的鋁離子非常有限，因此在工件上形成的鍍膜層也容易出現厚度達不到標準的現象，一般需要經過至少4?5次的反復鍍膜，這就需要采用多個連續的鍍膜室，使得設備結構龐大復雜，廣品的加工成本尚，設備成本也尚，不利于提尚廣品的市場克爭力。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種清洗效果好、產品表面純度高、且設備結構較為簡單的環保鋁鏡真空鍍膜設備。
[0004]本實用新型的技術方案為:一種環保鋁鏡真空鍍膜設備，包括依次連接的進片臺、多個真空室和出片臺，多個真空室包括依次連接的前粗抽室、前精抽室、清洗室、第一過渡室、第一鍍膜室、第二過渡室、第二鍍膜室、后精抽室和后粗抽室，進片臺上、各個真空室內和出片臺上通過傳動輥進行工件輸送;清洗室內設置中頻離子源組件，第一鍍膜室內和第二鍍膜室內均設置高效濺射旋轉靶組件。
[0005]所述中頻離子源組件至少有兩組，每組中頻離子源組件包括一個中頻電源和并排設置的兩個靶連接機構，中頻電源連接于兩個靶連接機構之間，每個靶連接機構下方設置一個靶材，兩個靶材之間形成一個電場。采用中頻離子源對玻璃工件進行清洗，可有效清除玻璃工件表面的有機物、水分等雜質，從而提高鋁膜在玻璃表面的附著力，同時減小鋁膜的污染，提尚招I吳的純度和招鏡的反射率。
[0006]所述靶連接機構包括第一連接軸、固定螺母、第一絕緣套、固定板和第二絕緣套，第一連接軸的上端設置冷卻水接咀，第一連接軸的下端設置靶材，靶材與中頻電源連接，固定螺母、第一絕緣套、固定板和第二絕緣套由上至下依次設于第一連接軸的外周，固定螺母設置于第一連接軸上冷卻水接咀的安裝處下方。通過該機構固定靶材，可將離子源的電壓提高到3000V?5000V，同時實現交變電場，能有效清除傳統離子源無法清除的有機物，使工件表面的清洗效果達到最佳狀態。
[0007]所述靶材包括靶底板和靶面板，靶底板固定于第一連接軸下端，靶面板設于靶底板下方并通過螺栓與靶底板鎖緊固定，兩個靶面板底部形成一個電場;靶底板上方設有設有靶絕緣板，靶絕緣板位于第二絕緣套的外周，且靶絕緣板包圍于靶底板的上方和外周。
[0008]作為一種優選方案，所述中頻離子源組件有兩組，靶材有兩個，靶材呈長方形的板狀結構，每個靶材的兩端分別設置一個靶連接機構，位于不同靶材同一端的兩個靶連接機構同時與一個中頻電源連接，形成一組中頻離子源組件。
[0009]所述中頻電源為中頻高壓交變電源，中頻電源的頻率為1 K H z?1 O K H z，電壓為3000V?5000V。
[0010]所述高效濺射旋轉靶組件包括靶管、靶芯和驅動機構，靶芯一端與驅動機構連接，靶芯設于靶管內部，靶芯上設有五路磁鐵，五路磁鐵呈扇形分布于靶芯外周，五路磁鐵在靶管與靶芯之間的空間內形成兩個環形的濺射跑道。
[0011 ]所述驅動機構包括電機、齒輪組、電極組件、第二連接軸、第一密封座、第二密封座和絕緣座，電機通過齒輪組與第二連接軸連接，位于齒輪組一側的第二連接軸上設有電極組件，位于齒輪組另一側的第二連接軸上依次設有第一密封座、絕緣套、第二密封座和靶芯，靶管通過快捷卡鉗與第二密封座連接，第一密封座與第二連接軸之間設有第一骨架油封，第二密封座與第二連接軸之間設有第二骨架油封。
[0012]所述第二連接軸上，位于電極組件外側的一端設有出水接頭和進水接頭，出水接頭和進水接頭外接冷卻水系統，位于靶芯外側的一端設有靶尾絕緣套。其中，冷卻水系統采用與傳統設備相同的冷卻水系統即可。
[0013]所述進片臺與前粗抽室之間、前粗抽室與前精抽室之間、后精抽室與后粗抽室之間以及后粗抽室與出片臺之間分別設有真空鎖，每個真空室分別外接抽真空系統。其中，真空鎖采用市面通用結構的真空鎖即可，抽真空系統采用與傳統設備相同的抽真空系統即可。
[0014]上述環保鋁鏡真空鍍膜設備使用時，其原理是:工件由傳動輥進行輸送，先由進片臺進入前粗抽室，初步進行抽真空處理后，送入前精抽室進行進一步的抽真空處理，然后將工件送入清洗室，采用中頻離子源組件進行離子清洗，由于中頻離子源組件是電源為中頻高壓交變電源，其頻率為1KHz?10KHz，電壓為3000V?5000V，因此，其清洗效果相比傳統設備可得到較大的改善;工件清洗后，經過第一過渡室再送入第一鍍膜室，在第一鍍膜室中由高效濺射旋轉靶進行濺射鍍膜，高效濺射旋轉靶中設置5路磁鐵，在靶芯和靶管之間形成2個環形的濺射跑道，濺射靶上鋁離子的數量為傳統旋轉靶的2倍以上;完成第一次鍍膜后，工件經過第二過渡室送入第二鍍膜室，在第二鍍膜室中同樣由高效濺射旋轉靶進行濺射鍍膜;完成鍍膜后，工件依次送入后精抽室和后粗抽室，最后由出片臺送出鍍膜設備。
[0015]本實用新型相對于現有技術，具有以下有益效果:
[0016]本環保鋁鏡真空鍍膜設備主要是針對環保鋁鏡的高效、高質量鍍膜而提出，通過對離子源結構的改進，采用中頻離子源對玻璃工件進行清洗，可有效去除傳統工藝無法去除的有機物，有效去除玻璃工件表面的有機物、水分等雜質，提高鋁膜在玻璃表面的附著力，減小招I旲的污染，可提尚招I旲的純度，從而達到提尚招鏡的反射率。
[0017]本環保鋁鏡真空鍍膜設備中，真空室內的旋轉靶采用帶有5路磁鐵的高效濺射旋轉靶，使靶芯和靶管之間形成2個環形的濺射跑道，旋轉靶上鋁離子的數量是傳統旋轉靶的2倍以上，因此可達到提高靶材的利用率，同時，在需要同樣膜厚的情況下，可減少一半的真空室，使設備結構得到簡化，降低設備成本和產品加工成本，有利于提高產品的市場競爭力。
【附圖說明】
[0018]圖1為本環保鋁鏡真空鍍膜設備的結構示意圖。
[0019]圖2為清洗室內中頻離子源組件的結構示意圖。
[0020]圖3為圖2中A方向上單組中頻離子源組件的截面結構示意圖。
[0021]圖4為圖2中B方向上單個靶材兩端的靶連接機構的截面結構示意圖。
[0022]圖5為鍍膜室內單個高效濺射旋轉靶的結構示意圖。
[0023]圖6為圖5的C-C截面視圖。
[0024]圖7為本高效濺射旋轉靶端部的濺射原理示意圖。
[0025]圖8為本高效濺射旋轉靶內形成的2個環形濺射跑道的原理示意圖。
[0026]圖9為傳統旋轉靶端部的濺射原理示意圖。
[0027]圖10為傳統旋轉靶內形成的單個環形濺射跑道的原理示意圖。
【具體實施方式】
[0028]下面結合實施例，對本實用新型作進一步的詳細說明，但本實用新型的實施方式不限于此。
[0029]實施例1
[0030]本實施例一種環保鋁鏡真空鍍膜設備，如圖1所示，包括依次連接的進片臺1、多個真空室和出片臺11，多個真空室包括依次連接的前粗抽室2、前精抽室3、清洗室4、第一過渡室5、第一鍍膜室6、第二過渡室7、第二鍍膜室8、后精抽室9和后粗抽室10，進片臺上、各個真空室內和出片臺上通過傳動輥12進行工件輸送;清洗室內設置中頻離子源組件，第一鍍膜室內和第二鍍膜室內均設置高效濺射旋轉靶組件。
[0031]如圖2所示，中頻離子源組件有兩組，靶材有兩個，靶材呈長方形的板狀結構，如圖4所示，每個靶材的兩端分別設置一個靶連接機構，如圖3所示，位于不同靶材同一端的兩個靶連接機構同時與一個中頻電源連接，形成一組中頻離子源組件。其中，每組中頻離子源組件包括一個中頻電源13和