掩膜板和顯示基板蒸鍍系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于顯示技術領域，具體涉及一種掩膜板和顯示基板蒸鍍系統。
【背景技術】
[0002]在OLED(Organic Light Emiss1n Display，有機電致發光二極管)制造技術中，真空蒸鍍用的掩膜板是至關重要的部件，掩膜板的質量直接影響著生產制造成本和產品質量。OLED蒸鍍過程用的掩膜板中，精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，簡稱:FMM)是其中最關鍵的裝備之一。FMM用于蒸鍍發光層材料，在背板上形成像素圖形，因此，FMM質量的好壞直接關系到屏幕的顯示效果。由于FMM對精度的要求非常高，目前FMM已成為制約OLED顯示屏分辨率提升的瓶頸，并成為引發產生混色、亮度不均等不良問題的主要原因。
[0003]隨著屏幕越來越向高分辨率的方向發展，FMM的圖形日益呈現薄、長、多的趨勢，且數量極多，單塊寬度通常小于30 μπι，互相之間形成開口尺寸極小，非常容易發生變形。因此，FMM在與掩膜板框架焊接組裝的過程中，即使只施加很小的拉伸力，也會導致FMM產生較大的下垂量。此外，FMM在有機真空蒸鍍腔室內被磁鐵吸附后，掩膜板的平坦度差流動性大，使得蒸鍍上的有機材料位置發生偏離，并且圖形的陰影(shadow)不均勻差異較大，進而造成屏幕產生混色、亮度不均等嚴重問題。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型為了解決FMM下垂量大及圖形的陰影差異大的技術問題，提供一種掩膜板，其中的輔助掩膜層可以控制圖形掩膜層中的圖形掩膜塊的下垂量，從而可以控制圖形掩膜層的下垂量，解決陰影差異大的難題；還能夠提高掩膜板上圖形的位置精度，解決屏幕混色、亮度不均等問題，對提高產品良率具有重要意義。這里所說的圖形掩膜層相當于現有技術中的FMM。
[0005]解決本發明技術問題所采用的技術方案是提供一種掩膜板，該掩膜板包括具有多個間隔并行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，所述圖形掩膜塊包括多個像素成形區，該掩膜板還包括輔助掩膜層，所述輔助掩膜層包括第一支撐部，所述第一支撐部包括至少一條與所述圖形掩膜層的所述圖形掩膜塊的長邊垂直排列且位置與相鄰所述像素成形區之間的間隙相對應的第一條狀結構，所述第一支撐部用于支撐所述圖形掩膜層。
[0006]優選的是，所述第一支撐部中的所述第一條狀結構的數量小于每一所述圖形掩膜塊中所包括的所述像素成形區的數量。
[0007]優選的是，所述第一支撐部中的所述第一條狀結構的寬度小于或等于同一所述圖形掩膜塊中相鄰所述像素成形區之間的間隙的寬度。
[0008]優選的是，所述輔助掩膜層還包括與所述第一支撐部垂直設置的第二支撐部，所述第二支撐部包括至少一條設置于與相鄰所述圖形掩膜塊的間隙對應區域的第二條狀結構，所述第二支撐部用于支撐所述圖形掩膜層且能加固所述第一支撐部。
[0009]優選的是，所述第二支撐部中的所述第二條狀結構的數量小于所述圖形掩膜層中的所述圖形掩膜塊的數量加I。
[0010]優選的是，所述第二支撐部中的所述第二條狀結構的寬度小于或等于相鄰兩個所述圖形掩膜塊中的相鄰兩個所述像素成形區之間的間隙的寬度。
[0011]優選的是，該掩膜板還包括掩膜板框架，所述圖形掩膜層中的所述條狀結構與所述輔助掩膜層中的所述第一條狀結構和所述第二條狀結構分別設置于所述掩膜板框架的內部。
[0012]優選的是，所述輔助掩膜層中，所述第一支撐部與所述第二支撐部同層設置。
[0013]優選的是，所述輔助掩膜層中的所述第一條狀結構和所述第二條狀結構經拉伸處理之后、焊接在所述掩膜板框架上。
[0014]優選的是，所述輔助掩膜層采用因瓦合金材料制成，所述輔助掩膜層采用濕法刻蝕法形成。
[0015]—種顯示基板蒸鍍系統，包括蒸鍍機、背板，所述背板上呈矩陣形式地排列有多個顯示屏區，該顯示基板蒸鍍系統還包括上述掩膜板，所述掩膜板中的所述像素成形區能在所述顯示屏區內形成像素圖形。
[0016]本實用新型的有益效果:該掩膜板通過將圖形掩膜層和輔助掩膜層組合使用，由輔助掩膜層支撐圖形掩膜層，使得圖形掩膜層中的各分離圖形掩膜塊形成一個整體；通過拉伸處理后的輔助掩膜層，可以控制圖形掩膜層的下垂量，解決陰影差異大的難題；還能夠提尚掩I旲板上圖形的位置精度，解決屏蒂混色、殼度不均等冋題，對提尚顯不基板廣品良率具有重要意義。
【附圖說明】
[0017]圖1為本實用新型實施例1中的圖形掩膜層的結構示意圖；
[0018]圖2為本實用新型實施例1中的輔助掩膜層的結構示意圖；
[0019]圖3為本實用新型實施例1中的輔助掩膜層與掩膜板框架組裝后的結構示意圖；
[0020]圖4為本實用新型實施例1中的輔助掩膜層與掩膜板框架組裝切割后的結構示意圖；
[0021]圖5為本實用新型實施例1中的掩膜板完整的結構示意圖；
[0022]圖6為本實用新型實施例2中的背板的結構示意圖。
[0023]其中，附圖標記為:
[0024]1-第一條狀結構；2_第二條狀結構；3_空心網格區；4_掩膜板框架；5_圖形掩膜塊；51-像素成形區；6-顯示屏區。
【具體實施方式】
[0025]為使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型中的掩膜板和顯示基板蒸鍍系統作進一步詳細描述。
[0026]實施例1:
[0027]本實施例提供一種掩膜板，該掩膜板通過將圖形掩膜層和輔助掩膜層組合使用，提高掩膜板上圖形的位置精度，形成的顯示基板屏幕色彩好、亮度均勻。
[0028]該掩膜板包括具有多個間隔并行排列的圖形掩膜塊的圖形掩膜層，該圖形掩膜塊包括多個像素成形區，該掩膜板還包括輔助掩膜層，輔助掩膜層包括第一支撐部。如圖1中所示，圖形掩膜層為由多個圖形掩膜塊5平行間隔排列的結構，每個圖形掩膜塊5上包括多個網狀結構的像素成形區51，能用于蒸鍍發光層材料，在背板上形成像素圖形；
[0029]如圖2所示，第一支撐部包括至少一條與圖形掩膜層的圖形掩膜塊的長邊垂直排列且位置與相鄰像素成形區之間的間隙相對應的第一條狀結構1，該第一支撐部I用于對圖形掩膜層進行支撐。
[0030]為了使第一支撐部對圖形掩膜層的支撐效果更好，優選該輔助掩膜層還包括用于支撐圖形掩膜層且能加固第一支撐部的第二支撐部。參考圖2，該第二支撐部與第一支撐部垂直設置，包括至少一條與相鄰圖形掩膜塊的間隙對應的第二條狀結構2。
[0031]圖形掩膜層與輔助掩膜層均焊接在掩膜板框架的內部，使圖形掩膜層、輔助掩膜層和掩膜板框架組合成一整體構成掩膜板。根據上述輔助掩膜層的結構，此處形成的掩膜板的內部結構可以為包括圖形掩膜層以及與圖形掩膜層對應設置的第一支撐部結構，也可以為同時包括圖形掩膜層以及具有第一支撐部和第二支撐部的結構。
[0032]如圖2所示為輔助掩膜層的一種網狀結構，第一支撐部中的第一條狀結構I與第二支撐部中的第二條狀結構2垂直交叉排列在同一層中，并在中部形成多個空心網格區3。其中，第一支撐部中的第一條狀結構I的寬度小于或等于同一圖形掩膜塊5中相鄰像素成形區51之間的間隙的寬度，以避免第一條狀結構I寬度過大影響像素成形區51形成像素圖形。
[0033]第一支撐部中的第一條狀結構I的數量小于每一圖形掩膜塊5中所包括的像素成形區51的數量。當第一條狀結構I的數量比一個圖形掩膜塊5中的像素成形區51的數量少I時，每個圖形掩膜塊5中的相鄰兩個像素成形區51之間的間隙剛好對應一個第一條狀結構1，可以使第一支撐部對圖形掩膜塊5的支撐效果最佳，且無材料浪費。當第一條狀結構I的數量比一個圖形掩膜塊5中的像素成形區51的數量不止少I時，可以將第一條狀結構I間隔多個像素成形區51排列設置在圖形掩膜層中圖形掩膜塊5的下方，從而使得第一條狀結構I對圖形掩膜層中圖形掩膜塊5的支撐效果較均勻。
[0034]第二支撐部中的第二條狀結構2排列的位置對應著圖形掩膜塊5之間的間隙；第二條狀結構2的寬度優選的是小于或等于相鄰兩個圖形掩膜塊5中的相鄰兩個像素成形區51之間的間隙的寬度且大于3mm。
[0035]第二條狀結構2的數量小于或等于圖形掩膜層中的圖形掩膜塊5的數量加I。當第二條狀結構2的數量比圖形掩膜層中的圖形掩膜塊5的數量剛好多I時，剛好每相鄰兩個第二條狀結構2用于支撐一個圖形掩膜塊5，可以使第二支撐部對圖形掩膜塊5的支撐效果最佳，且沒有浪費材料，同時，第二條狀結構2也可以起到加固第一支撐部的作用；當第二條狀結構2的數量小于圖形掩膜層中的圖形掩膜塊5的數量加I時，可以使第二條狀結構2間隔多個圖形掩膜塊5排列，從而使得