靶材、磁鐵和冷卻通道1，其中，冷卻通道I的長度延伸方向和陰極靶材的長度延伸方向相一致，冷卻通道I的寬度延伸方向與陰極靶材的寬度延伸方向相一致，冷卻通道I包括多組水口組，每組水口組均包括進水口 2和出水口 3，位于同一水口組的進水口 2和出水口 3沿著冷卻通道I的寬度方向相對設置，多組水口組沿著冷卻通道I的長度方向設置。
[0028]如此設置，冷卻水分別經由不同水口組的進水口 2流入冷卻通道I內，并在冷卻通道I內流動，在冷卻通道I內流動的冷卻水與陰極靶材相接處，進而達到冷卻陰極靶材的目的，然后經由出水口 3流出。與現有技術中冷卻通道的冷卻水沿著冷卻通道的長度方向流動相比，由于設置有多組沿著冷卻通道I的長度延伸方向分布的水口組，經由每組水口組的進水口 2流入的冷卻水的溫度和流速均相同，可以確保冷卻通道I內流動的冷卻水的水溫是相一致的，同時，位于同一水口組的進水口 2和出水口 3沿著冷卻通道I的寬度方向相對設置，如此冷卻水主要沿著冷卻通道I的寬度方向流動，同時還有部分冷卻水會沿著冷卻通道I的長度方向流動(此部分冷卻水即使在流動過程中升溫，對冷卻通道I內流動的冷卻水的整體溫度所產生的影響可以忽略不計)，然后經由其他水口組的出水口 3流出，如此，可以保證冷卻通道I內的冷卻水的溫度的一致性，進而可以確保陰極板材冷卻效果的一致性，從而可以保證鍍膜層性能的一致性。
[0029]需要說明的是，在本【具體實施方式】中，每組水口組的進水口 2所流入的冷卻水的溫度和流速是相同的，當然，也不排除根據實際生產的需要，采用不同的溫度和流速，從而保證冷卻效果的一致性。
[0030]還需要說明的是，在本【具體實施方式】中，沿著冷卻通道I的長度延伸方向一共設置有八組水口組，當然，也不不排除根據實際的使用情況設置水口組的數量。
[0031]需要進一步說明的是，在本【具體實施方式】中，陰極靶材可以為金屬陰極靶材或陶瓷陰極靶材或合金陰極靶材等。
[0032]此外，在本【具體實施方式】中，為了保證水流的一致性，不同的水口組的出水口 3位于冷卻通道I的一側，不同水口組的進水口 2位于冷卻通道I的另一側，且同一水口組的進水口 2和出水口 3相對設置，即所有的進水口 2位于冷卻通道I寬度方向的一側，所有的出水口 3位于冷卻通道I寬度方向的另一側，如此，可以保證冷卻水沿著冷卻通道I的寬度方向流動，從而確保冷卻水流向的一致性。
[0033]需要說明的是，在本【具體實施方式】中，所有的進水口 2位于冷卻通道I寬度方向的一側，所有的出水口 3位于冷卻通道I寬度方向的另一側，當然，也不排除根據實際的使用情況采用其他的設置方式，如其中部分水口組的進水口與其他水口組的出水口位于同一偵牝其出水口與其他水口組的進水口位于同一側，如此，可以在冷卻通道內使得冷卻水紊流，從而可以增加陰極靶材與冷卻水之間的換熱效率，提高陰極靶材的冷卻效果。
[0034]在進一步的方案中，水口組沿著冷卻通道I的長度方向均勻分布，相鄰的進水口 2之間的距離相同，同時相鄰的出水口 3之間的距離相同，即保證水口組之間的距離相同，從而可以保證陰極靶材冷卻效果的一致性。
[0035]需要說明的是，相鄰的進水口 2之間的距離與相鄰的出水口 3之間的距離是相同的，且相鄰的進水口 2之間的距離值與冷卻通道I的長度值和水口組的設置數量相關，當然，也不排除采用其他的設置方式，如陰極靶材升溫不明顯的部分所對應的水口組的設置數量較少，而陰極靶材升溫較為明顯的部分所對應的的水口組的設置數量較多，即水口組沿著冷卻通道的長度方向不是均勻分布的，有的地方較為密集，有的地方相對稀疏。
[0036]此外，在本【具體實施方式】中，進水口 2為圓形進水口，出水口 3為圓形出水口，當然，也不排除采用其他形狀，如進水口為三角形進水口，出水口為三角形出水口，或者進水口為圓形進水口，出水口為三角形出水口等。
[0037]同時，在本【具體實施方式】中還提供了一種磁控濺射設備，包括基板和陰極靶材組件，其中，陰極靶材組件為上文所述的陰極靶材組件。在上文中對陰極靶材組件進行了詳細的描述，故在本文不再贅述。
[0038]本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。
[0039]對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業技術人員能夠實現或使用本實用新型。對這些實施例的多種修改對本領域的專業技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現。因此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
【主權項】
1.一種陰極靶材組件，包括陰極靶材、磁鐵和冷卻通道(I)，其特征在于，所述冷卻通道(I)的長度延伸方向與所述陰極靶材的長度延伸方向相一致，所述冷卻通道(I)的寬度延伸方向與所述陰極靶材的寬度延伸方向相一致，所述冷卻通道(I)包括至少兩組水口組，每組所述水口組均包括進水口(2)和出水口(3)，位于同一所述水口組的所述進水口(2)和所述出水口(3)沿著所述冷卻通道(I)的寬度方向相對設置，至少兩組所述水口沿著所述冷卻通道(I)的長度方向設置。
2.如權利要求1所述的陰極靶材組件，其特征在于，不同所述水口組的所述出水口(3)位于所述冷卻通道(I)的一側，不同所述水口組的所述進水口(2)位于所述冷卻通道(I)的另一側，且同一所述水口組的所述進水口(2)和所述出水口(3)相對設置。
3.如權利要求2所述的陰極靶材組件，其特征在于，所述水口組沿著所述冷卻通道(I)的長度方向均勻分布。
4.如權利要求3所述的陰極靶材組件，其特征在于，所述進水口(2)為圓形進水口或三角形進水口，所述出水口(3)為圓形出水口或三角形出水口。
5.如權利要求1至4任一項所述的陰極靶材組件，其特征在于，所述陰極靶材為金屬陰極靶材或陶瓷陰極靶材或合金陰極靶材。
6.一種磁控濺射設備，包括基板和陰極靶材組件，其特征在于，所述陰極靶材組件為權利要求I至5任一項所述的陰極靶材組件。
【專利摘要】本申請公開了一種磁控濺射設備及其陰極靶材組件，磁控濺射設備包括陰極靶材組件，其中陰極靶材組件包括陰極靶材、磁鐵和冷卻通道，冷卻通道的長度延伸方向與陰極靶材的長度延伸方向相一致，冷卻通道的寬度延伸方向與陰極靶材的寬度延伸方向相一致，冷卻通道包括至少兩組水口組，每組水口組均包括進水口和出水口，位于同一水口組的進水口和出水口沿著冷卻通道的寬度方向相對設置，至少兩組水口沿著所述冷卻通道的長度方向設置。如此設置，冷卻水沿著冷卻通道的寬度方向流動，可以保證冷卻通道內的冷卻水的溫度的一致性，進而可以確保陰極板材冷卻效果的一致性，從而可以保證鍍膜層性能的一致性。
【IPC分類】C23C14-35
【公開號】CN204474752
【申請號】CN201520151396
【發明人】彭柱根, 伍能, 羅洪娜
【申請人】海南漢能薄膜太陽能有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年3月17日