用于研磨的發泡聚胺酯墊的修整裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明設及一種修整裝置，其修整用于研磨晶圓的發泡聚胺醋墊。
【背景技術】
[0002] 在晶圓的研磨中，為了提升晶圓的表面的平坦度而使用發泡聚胺醋墊。該用于研 磨的發泡聚胺醋墊，在開始使用前，要實行用于磨合的初期修整，之后，要定期地在研磨批 次之間實行批次間修整。運樣，通過定期地修整發泡聚胺醋墊，來實行發泡聚胺醋墊的整 形，W維持研磨后的晶圓的平坦度質量。
[0003] -般使用具有鉆石磨粒的修整裝置來修整發泡聚胺醋墊。修整裝置，是將規則或 不規則地排列在臺座上的一種粒度號數的鉆石磨粒，壓抵且滑動接觸至發泡聚胺醋墊上， 來實行修整。
[0004] 現有技術文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1:日本專利公開平成11-000868號公報
【發明內容】
[0007] (一)要解決的技術問題
[000引樹脂硬度柔軟的發泡聚胺醋墊（特別是蕭氏D型硬度硬度，shore D hardness)在30W下的發泡聚胺醋墊）的修整，如上所述，雖然是利用具有鉆石磨粒的修整 裝置來實行，但是鉆石磨粒通常使用一種粒度號數的鉆石磨粒，可W使用粒度號數是#60、# 100、#325的鉆石磨粒中的任一種。但是，如果僅利用粒度號數是#60或#100的低粒度號數的 鉆石磨粒來修整發泡聚胺醋墊，則堅硬的鉆石磨粒會卡在發泡部的桐中，造成聚胺醋樹脂 拉伸而使墊子內的發泡部的桐閉塞。而且，發泡部的桐被閉塞的發泡聚胺醋墊，在研磨加工 時不能夠充分地保持漿液，從而產生所研磨的晶圓的平坦度不夠良好的問題。
[0009] 此外，如果僅利用粒度號數為#325的高粒度號數的鉆石磨粒來修整發泡聚胺醋 墊，則發泡部的桐不會被閉塞，但是由于鉆石的磨粒變細，從而不能夠充分地粗化發泡部的 聚胺醋墊的表面。因此，發泡聚胺醋墊的表面的粗糖度變小，研磨后晶圓的平坦度的良好狀 態不能持久，而造成修整間隔（Kレス斗シ夕一八瓜，化ess interval)必將變短。例如，在 使用粒度號數為#325的鉆石磨粒的情況下，如果沒有每隔3個批次就進行修整，則繼續研磨 的晶圓的平坦度就不會良好。其結果是，只好增加實行修整的次數，從而產生在晶圓的制造 中生產率降低的問題。
[0010] 作為能夠充分地粗化發泡聚胺醋墊的表面且能夠減少發泡部的桐的閉塞的修整 方法，有使用具有高粒度號數的鉆石磨粒的修整裝置與具有低粒度號數的鉆石磨粒的修整 裝置，逐一地各自實行1次修整的方法。但是，該方法的可操作性差，在修整上耗時從而會使 晶圓制造中的生產率降低。
[OOW 此外，在專利文獻1中，記載有一種修整裝置，其將粒徑(粒度號數休同的鉆石磨 粒配列在一個底座上。但是，因為底座的高度固定，所w各個鉆石磨粒的修整面的高度位置 不同，造成研磨墊與鉆石磨粒的接觸量會根據磨粒的粒徑而改變。即，磨粒直徑小的高粒度 號數的鉆石磨粒與研磨墊的接觸量減少，從而產生高粒度號數的鉆石磨粒沒有充分發揮功 能的問題。
[0012]本發明是鑒于上述問題而完成，其目的在于提供一種修整裝置，其在不會閉塞發 泡聚胺醋墊的發泡部的桐的情況下，只要一次的修整就能充分地將表面粗化，從而能夠縮 短修整時間且能夠設定較長的修整間隔，并能夠抑制晶圓制造中的生產率降低。
[OOK](二很術方案
[0014] 為了實現上述目的，根據本發明，提供一種修整裝置，其使鉆石磨粒壓抵且滑動接 觸至用于研磨的發泡聚胺醋墊，W修整所述用于研磨的發泡聚胺醋墊，其特征在于，所述鉆 石磨粒被支撐在臺座上，被該臺座支撐的鉆石磨粒具有多種粒度號數，該多種粒度號數的 鉆石磨粒是由粒度號數在#17〇W上的高粒度號數的鉆石磨粒與在#14〇W下的低粒度號數 的鉆石磨粒構成，并W所述多種粒度號數的鉆石磨粒各自與所述發泡聚胺醋墊接觸的修整 面的高度位置在同一平面上的方式，使所述鉆石磨粒被支撐在臺座上。
[0015] 如果是運種修整裝置，能夠使高粒度號數與低粒度號數的鉆石磨粒同時滑動接觸 至發泡聚胺醋墊上，而且能夠在不使發泡聚胺醋墊的發泡孔閉塞的情況下，利用1次的修整 來將表面充分地粗化。其結果為，只要較短的修整時間即可，能夠進一步設定較長的修整間 隔，從而能夠在不降低生產率的情況下來實行修整。
[0016] 此時，通過所述臺座來支撐鉆石片（歹斗個;^シKクレッKdiamond pellet)，在該 鉆石片上各自固定有所述多種粒度號數的鉆石磨粒，并利用調節所述鉆石片的厚度，能夠 使各個鉆石磨粒的所述修整面的高度位置變成在同一平面上。
[0017] 運樣，如果調節所述鉆石片的厚度，則能夠容易地使各個鉆石磨粒的所述修整面 的高度位置在同一平面上。
[0018] 此外，此時，通過調節所述臺座的高度，能夠使各個鉆石磨粒的所述修整面的高度 位置變成在同一平面上。
[0019]運樣，如果調節所述臺座的高度，則在直接將鉆石磨粒電沉積（electrode position)在臺座上的情況下，也能夠使各個鉆石磨粒的修整面的高度位置在同一平面上。
[0020] 此時，所述臺座是甜甜圈形狀，該臺座被分割成多個片段(^rク7^シKsegment)， 被分割而成的該多個片段各自支撐所述高粒度號數的鉆石磨粒與所述低粒度號數的鉆石 磨粒中的任一方，優選支撐所述高粒度號數的鉆石磨粒的片段與支撐所述低粒度號數的鉆 石磨粒的片段在同一圓周上被交互地配置。
[0021] 如果是運種裝置，則能夠更有效且沒有不均勻地修整發泡聚胺醋墊，并能夠更切 實且不使生產率降低地進行修整。
[0022] 此外，能夠使用本發明的修整裝置來修整蕭氏D型硬度在30W下的所述用于研磨 的發泡聚胺醋墊。
[0023] 如果是運種修整方法，則能夠將高粒度號數與低粒度號數的鉆石磨粒同時滑動接 觸至發泡聚胺醋墊上，而且能夠有效且高效地修整柔軟的發泡聚胺醋墊，該柔軟的發泡聚 胺醋墊用W研磨高平坦度的晶圓。
[0024] (立巧益效果
[0025] 如果是本發明的修整裝置，其在不使發泡聚胺醋墊的發泡部的桐閉塞的情況下， 利用1次的修整就能將表面充分地粗化，從而能夠縮短修整時間。通過使用該裝置進行1次 的修整，修整后的發泡聚胺醋墊的表面的漿液的保持性良好，且表面的粗糖度能夠長時間 維持在適當的狀態，所W能夠設定較長的修整間隔。其結果為，在晶圓的制造中能夠大幅改 善生產率。
【附圖說明】
[0026] 圖1是表示本發明的修整裝置的一例的概略圖。
[0027] 圖2是表示本發明的修整裝置的臺座的配列的概略圖。
[0028] 圖3是表示將本發明的修整裝置中的鉆石磨粒規則排列時的概略圖。
[0029] 圖4是表示將本發明的修整裝置中的鉆石磨粒不規則排列時的概略圖。
[0030] 圖5是從側面來觀察本發明的修整裝置的一部分的放大圖。
[0031] 圖6是從側面來觀察使用本發明的修整裝置來修整發泡聚胺醋墊時的概略圖。
[0032] 圖7是實施例1、及比較例1、2中的發泡聚胺醋墊的表面狀態的觀察結果。
[0033] 圖8是實施例1、及比較例1、2中的單面研磨后的平坦度的測定結果。
[0034] 圖9是實施例2和比較例3中的全局平整度的測定結果。
【具體實施方式】
[0035] 下面，針對本發明來說明實施方式，但是本發明不限定于該實施方式。
[0036] 在使用了粒度號數小(平均粒徑大）的鉆石磨粒的修整裝置中，發泡聚胺醋墊的發 泡部的桐被閉塞是造成研磨晶圓的平坦度惡化的主要原因。此外，在使用了粒度號數大(平 均粒徑小）的鉆石磨粒的修整裝置中，不能充分地粗化發泡聚胺醋墊的表面，且必須設定較 短的修整間隔，從而使得生產率惡化。
[0037] 此處，本發明人等為了解決運種問題，想到將具有兩種W上的鉆石磨粒同時滑動 接觸至發泡