一種磁控濺射設備的制造方法
【技術領域】
[0001 ]本發明涉及顯示基板的制作領域，特別是指一種磁控濺射設備。
【背景技術】
[0002]磁控濺射，是指在陰極(通常為靶材)與陽極(通常為安裝被成膜基板的基板安裝座或鍍膜腔體壁)之間加一個正交磁場和電場，在進行真空鍍膜的濺射腔體中充入所需要的惰性氣體(通常為氬氣)。通過電力使氬氣電離形成氬離子(帶正電荷)和電子，氬離子在驅動電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材粒子，這些靶材粒子(粒子或分子)沉積在被成膜基板上成膜。
[0003]在現有技術中，磁控濺射設備的濺射腔室內需要使用遮擋板來對濺射出的靶材粒子進行遮擋，防止靶材粒子擴散。在長期使用后，遮擋板上的表面沉積靶材粒子越來越多，逐漸形成膜狀圖層，使得遮擋板表面的應力越來越大。在該應力作用下，遮擋板非常容易發生變形。特別是對大尺寸的被成膜基板進行磁性濺射的設備中，由于濺射腔室更大，需要許多個遮擋板進行拼接，而每個遮擋板的邊緣處彎曲變形撓度最大，因此在拼接處容易發生開裂。
[0004]有鑒于此，當前需要一種能夠減小遮擋板邊緣彎曲撓度的技術方案。
【發明內容】
[0005]本發明目的是要解決磁控濺射設備的遮擋板在沉積一定靶材粒子自后，邊緣容易應應力作用發生彎曲的問題。
[0006]為解決上述技術問題，本發明的實施例提供一種磁控濺射設備，包括濺射腔室和設置在所述濺射腔室內的靶材和遮擋板，其特征在于，所述遮擋板朝向所述靶材的第一表面設置有多個凹槽結構。
[0007]可選地，所述凹槽結構的側壁與底面的連接部呈弧形。
[0008]可選地，所述遮擋板的第一表面還設置有凸起結構。
[0009]可選地，所述凸起結構和所述凹槽結構為多個，所述凸起結構和所述凹槽結構在行向和縱向上交替分布在所述遮擋板的第一表面。
[0010]可選地，所述凸起結構的側壁與所述凹槽結構的側壁銜接。
[0011]可選地，所述凹槽結構的底面呈圓角矩形。
[0012]可選地，所述遮擋板的第一表面摻雜有顆粒物，或者所述遮擋板的第一表面具有楞紋。
[0013]可選地，所述凸起結構為頂部是圓形平面的圓錐體。
[0014]可選地，所述凸起結構為表面平滑的鼓包形。
[0015]可選地，所述遮擋板為所述濺射腔室的側壁。
[0016]可選地，用于放置基板的固定模塊，所述遮擋板設置在所述靶材與固定模塊之間，所述遮擋板具有一鏤空區域，且第一表面朝向所述靶材。
[0017]其中，所述靶材的粒子在磁控濺射作用下，能夠經過所述鏤空區域，沉積在基板上指定的鍍膜區域內。
[0018]本發明的上述技術方案的有益效果如下:
[0019]采用本發明的方案，磁控濺射過程中產生的靶材粒子在被遮擋板遮擋后，沉積在凹槽結構處，因此會有一部分應力集中在凹槽結構內釋放，從而分擔了遮擋板表面、邊緣處所承受的應力，使遮擋板的邊緣彎曲撓度減小，避免發生翹起現象。此外，凹槽結構還進一步增加遮擋板的比表面積，能夠沉積更多的靶材粒子，從而延長了遮擋板的更換周期，進而提高了磁控濺射設備整體的稼動率。
【附圖說明】
[0020]圖1為本發明的磁控濺射設備的結構示意圖；
[0021]圖2-圖4為本發明的磁控濺射設備的遮擋板的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0022]為使本發明要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。
[0023]針對現有技術中的磁控濺射設備的遮擋板在沉積濺射廢物后，邊緣位置在應力作用下容易出現翹曲/破裂的問題，本發明提供一種解決方案。
[0024]—方面，本發明的實施例提供一種磁控濺射設備，包括濺射腔室I和設置在濺射腔室I內的靶材2和遮擋板31、32。其中，遮擋板31是濺射腔室的側壁，遮擋板32是磁控濺射時所使用的掩膜板。
[0025]在濺射腔室I內還包括有用于放置基板4的固定模塊5，掩膜板32設置在靶材2與該固定模塊5之間，且具有鏤空區域(圖1中虛線處)。該鏤空區域與基板4待鍍膜的區域正對設置。在電場作用下，離子對靶材2進行轟擊，使靶材2濺射出大量的靶材粒子21。靶材粒子21最終通過掩膜板32的鏤空區域，沉積在基板4上指定的鍍膜區域內，形成薄膜41。
[0026]其中，遮擋板31、32朝向靶材2的第一表面設置有多個凹槽結構A。在進行磁控濺射過程中，靶材粒子21在被遮擋板31、32遮擋后，沉積在凹槽結構A處，因此會有一部分應力集中在凹槽結構A內釋放，從而分擔了遮擋板31、32表面、邊緣處所承受的應力，使遮擋板31、32的邊緣彎曲撓度減小，避免發生翹起現象。此外，凹槽結構A還進一步增加遮擋板31、32的比表面積，能夠沉積更多的靶材粒子21，從而延長了遮擋板31、32的更換周期，進而提高了磁控濺射設備整體的稼動率。
[0027]這里需要給予說明的是，本實施例的圖1所示的磁控濺射設備結構僅用于示例性介紹，在實際環境中，基板、掩膜板以及板材也可以是豎直的放置，本文不再進行舉例贅述。
[0028]進一步地，凹槽結構內部應盡量避免棱角出現，因為棱角在應力用作下易于斷裂。因此作為優選方案，在本實施例中，凹槽結構的側壁與底面的連接部呈弧形。此外，為進一步避免遮擋板出現斷裂，本實施例使用具有一定可塑性的材料來制作遮擋板。其中制作材料優選為鋁或鋁合金，能夠進一步降低遮擋板的整體重量，便于操作人員在磁控濺射設備上對遮擋板進行更換。
[0029]此外，為了避免遮擋板表面沉積的廢物發生脫落，本實施例遮擋板的第一表面上還可以設置有凸起結構。在濺射過程中，靶材粒子會在遮