于第一組坩禍和第二組坩禍的位置處具有開口的第二和/或第三氣體供應管道)可與本文所述的其他實施例(例如，參考圖1至圖5、或圖9至圖17所述的實施例)組合，只要特征不彼此矛盾即可。
[0062]一般來說，對應于蒸發裝置的另一部件(諸如，坩禍)的位置被定位的開口可以依賴于另一部件的位置來定位。根據一些實施例，對應于坩禍的位置被定位的開口可以在一個方向上位于與坩禍相同的位置處，但是在另一方向上被移位。例如，開口可在第二方向上從坩禍被移位，但是在第一方向上可具有與坩禍基本上相同的位置。
[0063]在圖8中所示的實施例中，坩禍可描述為以交錯的方式布置，這是由于在第二方向上第一線與第二線的位移，具體而言，是由于在第一方向上第一組坩禍和第二組坩禍的附加位移。在坩禍組的每一側上安裝具有在最接近每一條氣體管線的坩禍位置處的開口(所述開口可配置成充當氣體噴嘴)的附加的氣體管線對于改善基板上的經涂覆的層的均勻性是有益的。圖8中所示的實施例的一個效果在于，對于每一組坩禍存在一條氣體供應管道，從而在因來自坩禍的經蒸發的材料的量而可能不具有充分的氧化的位置處提供附加的氣體(諸如，氧)。實施例的結果可以是，在涂覆之后，直接形成透明的阻擋層的均勻的外觀。通過將相應定位和/或間隔開的開口提供給附加的氣體供應，能以成本有效的方式來實現該結果。
[0064]交錯的坩禍布置在蒸發系統中是已知的。在交錯的系統中，鋁在交錯的坩禍布置中蒸發，并且氧被均勻地饋送至跨蒸發器的寬度的鋁霧的中間。
[0065]已經發現，由于已知的系統中的交錯的坩禍布置，存在著具有略不同的化學計量的A10J1的位置，從而在經涂覆的基板上導致可見的條帶。雖然可見的條帶對經涂覆的基板的阻擋性能不具有大的影響，但是涂覆后直接形成的視覺外觀不均勻。
[0066]利用根據本文所述的實施例的蒸發裝置，可避免由交錯的坩禍布置導致的條帶，而不需要省略這種交錯的布置，這改善了成品的光學外觀并提高了產品的接受度。
[0067]圖9示出蒸發裝置500的實施例，所述蒸發裝置500包括沿第一線520的第一組坩禍510以及沿第二線590布置的第二組坩禍580。至少在第一組坩禍510與支撐基板560的基板支撐件之間之間提供第一氣體供應管道530。第一氣體供應管道530具有用于將氣體供應至基板560的開口 535。蒸發裝置500進一步包括第二氣體供應管道540，所述第二氣體供應管道540用于在第一組蒸發坩禍510與基板支撐件之間提供氣體。在圖9中所示實施例中，第二氣體供應管道540的開口 550經成形并定位以通過位于沿第一方向521基本上對應于第一組坩禍510中的坩禍的位置的位置處來改善材料的沉積的均勻性。一般來說，第一氣體供應管道中的開口的數量可取決于蒸發裝置中存在的坩禍的數量。根據一些實施例，第二和/或第三氣體供應管道中的開口的數量也可取決于坩禍的數量或相應的坩禍組中的坩禍數量。
[0068]在圖9中所示的實施例中，第一氣體供應管道530中的開口的數量大于第二氣體供應管道540中的開口的數量，具體來說，第一氣體供應管道530中的開口的數量大于第二氣體供應管道中每長度單位565的開口的數量。圖9中示例性地示出的長度單位565在第一方向上、在第一組i甘禍510中的兩個i甘禍上延伸。
[0069]在由圖9所示的實施例中，第二氣體供應管道540僅在第一組坩禍510中的坩禍的位置處具有開口 550，而第一氣體供應管道530在第一組坩禍510和第二組坩禍580中的坩禍的位置處都具有開口 535。因此，對于每個長度單位565，第一氣體供應管道530中的開口的數量是第二氣體供應管道540中的開口的數量的兩倍。
[0070]然而，技術人員將會理解，圖9僅示出示例，并且第一氣體供應管道和第二氣體供應管道的開口的關系可與所述實施例有所偏差。例如，第一氣體供應管道中的開口的數量可以比第二氣體供應管道中的開口的數量大三倍、四倍、或甚至是五倍或更多倍。在一個實施例中，第一氣體供應管道中的開口的數量不是第二氣體供應管道中的開口的數量的整數倍。例如，第二氣體供應管道中的開口的數量獨立于第一氣體供應管道中的開口的數量，但是與每長度單位的第一氣體供應管道的開口的數量不同。
[0071]根據可與本文中所述的其他實施例結合的一個實施例，第一氣體供應管道中的開口可以被引導向遮蔽設備，所述遮蔽設備使得在蒸發裝置的第一方向上的氣體分布均勻。利用遮蔽設備，在第一氣體供應管道區域中，在第一方向上跨蒸發器寬度可實現恒定的氣體分布。或者，為了實現恒定的氣體分布，可以在第一氣體供應管道中提供多個氣體開口。
[0072]根據一些實施例，長度單位可依賴于坩禍來測量，但是也可獨立于坩禍來定義。例如，長度單位可以是固定值，或者可依賴于待涂覆的基板的寬度等。
[0073]圖9的實施例的第二氣體供應管道有助于通過將開口的數量調整成適應于來自坩禍的經蒸發的材料的存在來改善所沉積的層的均勻性。因此，通過考慮化學計量條件改善了均勻性。
[0074]應當理解，參考圖9所描述的特征還可用于前述實施例，諸如，僅具有一組坩禍的蒸發裝置、或具有第二組坩禍和第三氣體供應管道的蒸發裝置、或具有設有對應于坩禍位置的開口的氣體供應管道的蒸發裝置、或本文所述蒸發裝置的進一步的實施例。例如，圖9中所示的實施例還可以與圖10至圖17中所示特征結合，只要這些特征彼此不矛盾即可。
[0075]圖10示出蒸發坩禍600的實施例，所述蒸發坩禍600包括沿在第一方向621上延伸的第一線620對齊的第一組；t甘禍610，所述第一方向621可以基本上垂直于第二方向622延伸。第二方向622可以是待涂覆的基板660的移動方向。蒸發裝置600還包括第一氣體供應管道630和具有開口 650的第二氣體供應管道640。第一氣體供應管道630和第二氣體供應管道640可以是如上所述的第一氣體供應管道和第二氣體供應管道。
[0076]在圖10中所示的實施例中，第二氣體供應管道640的直徑與第一氣體供應管道630的直徑不同。在圖11中可看出直徑的差異，圖11是圖10中所示的實施例的主視圖。第二氣體供應管道640具有直徑641。第一氣體供應管道630具有直徑631。在圖11中可見，直徑641小于直徑631。
[0077]參考圖10所描述的實施例可以通過在具有小于第一氣體供應管道的直徑的第二氣體供應管道中提供開口來改善均勻性。可以考慮在供應管道中的氣流的化學計量條件以及流體特性，以便確保材料在基板上的均勻的沉積。
[0078]應當理解，參考圖10和圖11所述的特征并不僅僅適用于圖10和圖11中所示的實施例。相反，氣體供應管道的不同直徑的特征可與本文所述的其他實施例(諸如，圖1至圖9和圖12至圖17的實施例)組合。例如，不同的直徑還可應用于具有三個氣體供應管道的實施例。另外，第三氣體供應管道可以具有于第一氣體供應管道的直徑不同的直徑。此外，不同直徑的特征可應用于第二和/或第三氣體供應管道在基本上垂直于第一方向621的第二方向622上從第一氣體供應管道移位的實施例。
[0079]圖12示出蒸發坩禍700的實施例，所述蒸發坩禍700包括沿在第一方向721上延伸的第一線720對齊的第一組坩禍710，所述第一方向721可以基本上垂直于第二方向722延伸。第二方向722可以是待涂覆的基板760的移動方向。蒸發裝置700還包括第一氣體供應管道730和具有開口 750的第二氣體供應管道740。第一氣體供應管道730和第二氣體供應管道740可以是如上所述的第一氣體供應管道和第二氣體供應管道。
[0080]在圖12中，第二氣體供應管道740的開口 750可以在第二方向上相對于彼此移位。然而，雖然圖12僅示出具有移位的開口 750的第二氣體供應管道，但是也可如上所述提供第三氣體供應管道。在一個實施例中，第三氣體供應管道也可具有沿第二方向移位的開口。附加于或替代于第二氣體供應管道的移位的開口，第三氣體供應管道也可具有移位的開口。
[0081]第二和/或第三氣體供應管道的開口在第二方向上的位移可進一步擴大由氣體供應的區域，并且因此可以改善沉積的均勻性。
[0082]圖13示出蒸發坩禍800的實施例，所述蒸發坩禍800包括沿在第一方向821上延伸的第一線820對齊的第一組坩禍810，所述第一方向821可以基本上垂直于第二方向822延伸。第二方向822可以是待涂覆的基板860的移動方向。另外，沿在第一方向821上延伸的第二線890對齊地提供第二組坩禍880。蒸發裝置800還包括具有開口 850的第一氣體供應管道830和第二氣體供應管道840。第一氣體供應管道830和第二氣體供應管道840可以是如上所述的第一氣體供應管道和第二氣體供應管道。
[0083]根據一些實施例，第二氣體管道的開口可通過具有不同的尺寸來改善材料沉積的均勻性。在圖13中所示的實施例中，開口具有交替的尺寸。在圖13中可見，第二氣體供應管道840的開口 850在對應于第一組坩禍810中的坩禍的位置的位置處比在對應于第二組坩禍880中的坩禍的位置的位置處更大。
[0084]雖然圖13僅示出第二氣體供應管道，但是也可如上所述提供第三氣體供應管道。根據一些實施例，附加于或替代于第二氣體供應管道的不同尺寸的開口，第三氣體供應管道可具有不同尺寸的開口。具體來說，第三氣體供應管道的開口可以在對應于第二組坩禍中的坩禍的位置的位置處比在對應于第一組坩禍中的坩禍的位置的位置處更大。
[0085]圖14示出蒸發坩禍900的實施例，所述蒸發坩禍900包括沿在第一方向921上延伸的第一線920對齊的第一組坩禍910，所述第一方向921可以基本上垂直于第二方向922延伸。第二方向922可以是待涂覆的基板960的移動方向。蒸發裝置900還包括第一氣體供應管道930和具有開口 950的第二氣體供應管道940。第一氣體供應管道930和第二氣體供應管道940可以是如上所述的第一氣體供應管道和第二氣體供應管道。
[0086]圖14中所示的實施例提供第二氣體供應管道940的開口，所述開口具有取決于開口在第一方向上的位置的尺寸以改善在基板上的材料沉積的均勻性。例如，開口 951具有比位于沿第一線的另一位置處的開口 952更大的直徑。另外，在圖14中所示的實施例中，開口 953具有比開口 951和952更小的直徑。根據一些實施例，朝著待涂覆的基板960的外緣，開口的尺寸(即，在圓形開口情況下的直徑)可增加以改善涂覆的均勻性。
[0087]圖15示出蒸發裝置1000的實施例，所述蒸發裝置1000包括沿在第一方向1021上延伸的第一線1020對齊的第一組坩禍1010。第二方向1022基本上垂直于第一方向1021。圖15中所示的蒸發裝置1000進一步包括第一氣體供應管道1030，所述第一氣體供應管道1030布置在第一組坩禍1010與支撐待涂覆的基板1060的基板支撐件之間。提供第二氣體供應管道1040以將氣體供應至第一組坩禍1010。第二氣體供應管道1040可以具有用作氣體出口的開口。
[0088]在圖15中所示的實施例中，開口是矩形的。根據一些實施例，開口的尺寸有所不同，這可通過圖15中的不同尺寸的開口 1051、1052和1053看出。除了不同的尺寸之外，開口 1051、1052和1053具有相對于彼此的不同的尺度(dimens1n)。例如，沿第一方向，從一個開口到其他開口，矩形開口的長度和/或寬度可有所不同。
[0089]在附圖中，氣體供應管道中的開口大多以基本上圓形的形狀示出。然而，技術人員將會理解，本文所述的實施例不限于附圖的示例中所示的圓形或矩形形狀。