一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統。
【背景技術】
[0002]在顯示技術領域，OLED蒸鍍工藝在進行蒸鍍過程中需要進行蒸鍍材料的速率控制。目前，在OLED的蒸鍍腔室內通常設置有多個蒸鍍源，每個蒸鍍源中的蒸鍍材料用于蒸鍍形成OLED器件的一個功能層(如發光層、電子傳輸層或空穴傳輸層)。每個蒸鍍源的正上方都分別設置有一塊擋板，擋板與蒸鍍源的蒸鍍面平行，且擋板的大小恰好能夠遮擋與其對應的蒸鍍源的蒸鍍面。
[0003]每個蒸鍍源在蒸鍍開始時，擋板拿掉之后才能開始對蒸鍍材料的速率進行控制，同時向待鍍基板上進行蒸鍍。一個蒸鍍源蒸鍍完后，下一個蒸鍍源重復同樣的過程進行另一種蒸鍍材料的速率控制和蒸鍍。這種蒸鍍方法不僅蒸鍍時間過長，而且往往在蒸鍍材料的速率還沒有穩定時，部分蒸鍍材料就已經蒸鍍到待鍍基板上，使待鍍基板上的蒸鍍膜厚控制不夠精準，既浪費蒸鍍材料，又影響基板上該蒸鍍膜層的品質。
[0004]目前的蒸鍍工藝不但使OLED顯示器件良率低，而且極大地提高了 OLED顯示器件的成本，使OLED顯示器件一直處于難以取代IXD顯示器件的境地。特別是對于G2.5產線產生了諸如產能低、材料成本高、時間伴隨成本高、重復性穩定性差等問題，且這些問題成為阻礙OLED發展的瓶頸問題。
【發明內容】
[0005]本發明針對現有技術中存在的上述技術問題，提供一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統。該遮擋裝置實現了蒸鍍的連續性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產能，而且節約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩定性和良率。
[0006]本發明提供一種遮擋裝置，包括動力機構和遮擋機構，所述動力機構用于帶動所述遮擋機構在蒸鍍速率控制階段和蒸鍍階段變換不同位置，所述遮擋機構用于在所述蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟；還用于在所述蒸鍍階段開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟。
[0007]優選地，所述蒸鍍速率感應器和所述待鍍基板均位于所述蒸鍍源的上方，且所述蒸鍍速率感應器和所述待鍍基板在所述蒸鍍源所在平面上的正投影分別位于所述蒸鍍源的相對兩側；
[0008]所述動力機構用于設置在所述蒸鍍源的與所述待鍍基板位置相對應的一側，所述遮擋機構包括遮擋部和連接板，所述遮擋部和所述連接板之間成一夾角，所述連接板與所述動力機構連接，所述動力機構能帶動所述遮擋部轉動到遮擋所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道的位置。
[0009]優選地，所述遮擋部呈矩形板狀，所述遮擋部的長邊沿遠離所述動力機構的方向延伸，所述遮擋部的寬度大于等于所述蒸鍍源的直徑。
[0010]優選地，所述遮擋部呈圓筒狀，所述圓筒的一端筒口用于與所述蒸鍍源的蒸鍍面相對，所述圓筒的筒徑沿遠離所述動力機構的方向延伸，所述圓筒的直徑大于等于所述蒸鍍源的直徑。
[0011]優選地，所述連接板平行于所述蒸鍍源的蒸鍍面，矩形板狀的所述遮擋部與所述連接板之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。
[0012]優選地，所述連接板平行于所述蒸鍍源的蒸鍍面，圓筒狀的所述遮擋部的筒徑與所述連接板之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。
[0013]優選地，所述遮擋機構還包括支撐板，所述支撐板設置在所述遮擋部和所述連接板的夾角位置，且所述支撐板的相鄰的兩側邊分別連接所述遮擋部和所述連接板。
[0014]優選地，所述遮擋部采用金屬材料。
[0015]優選地，所述遮擋部的用于面向所述蒸鍍源的遮擋面設置為網格狀。
[0016]優選地，還包括控制模塊，所述控制模塊與所述動力機構連接，用于在所述蒸鍍速率控制階段控制所述動力機構動作，以帶動所述遮擋機構遮擋所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道；還用于在所述蒸鍍階段控制所述動力機構動作，以帶動所述遮擋機構變換位置，使所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道開啟。
[0017]本發明還提供一種蒸鍍系統，包括上述遮擋裝置。
[0018]優選地，還包括蒸鍍源、蒸鍍速率感應器和蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍源用于向待鍍基板上蒸鍍膜層；所述蒸鍍速率感應器用于采集所述蒸鍍源的蒸鍍速率，并將采集的所述蒸鍍速率發送給所述蒸鍍膜厚控制器；所述蒸鍍膜厚控制器用于根據所述蒸鍍速率控制蒸鍍到所述待鍍基板上的膜層厚度；
[0019]所述遮擋裝置的控制模塊連接所述蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍膜厚控制器還用于控制所述控制模塊向動力機構發出控制指令。
[0020]本發明還提供一種上述遮擋裝置的遮擋方法，包括:
[0021]在蒸鍍速率控制階段，動力機構帶動遮擋機構遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟；
[0022]在蒸鍍階段，所述動力機構帶動所述遮擋機構開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟。
[0023]本發明的有益效果:本發明所提供的遮擋裝置，通過設置遮擋機構，既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應器之間的蒸鍍通道開啟，實現了在蒸鍍之前能夠提前進行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時，蒸鍍材料的速率已經達到穩定，從而實現了蒸鍍的連續性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產能，而且節約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩定性和良率。
[0024]本發明所提供的蒸鍍系統，通過采用上述遮擋裝置，實現了該蒸鍍系統的連續性蒸鍍控制，使該蒸鍍系統不僅縮短了蒸鍍時間，而且節約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產能，而且節約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩定性和良率。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發明實施例1中遮擋裝置的結構示意圖；
[0026]圖2為圖1中遮擋部的遮擋面的結構俯視圖；
[0027]圖3為本發明實施例1的遮擋裝置在蒸鍍速率控制階段的設置位置示意圖；
[0028]圖4為本發明實施例1的遮擋裝置在蒸鍍階段的設置位置示意圖；
[0029]圖5為本發明實施例2中遮擋裝置的結構示意圖。
[0030]其中的附圖標記說明:
[0031]1.動力機構；2.遮擋機構；21.遮擋部；22.連接板；23.支撐板；L.遮擋部的長邊;W.遮擋部的寬度；3.蒸鍍源；31.蒸鍍面；4.待鍍基板；5.蒸鍍速率感應器。
【具體實施方式】
[0032]為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明所提供的一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統作進一步詳細描述。
[0033]實施例1:
[0034]本實施例提供一種遮擋裝置，如圖1所示，包括動力機構I和遮擋機構2，動力機構I用于帶動遮擋機構2在蒸鍍速率控制階段和蒸鍍階段變換不同位置，遮擋機構2用于在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應器5之間的蒸鍍通道開啟；還用于在蒸鍍階段開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應器5之間的蒸鍍通道開啟。
[0035]該遮擋裝置通過設置既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應器5之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應器5之間的蒸鍍通道開啟的遮擋機構2，實現了在蒸鍍之前能夠提前進行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時，蒸鍍材料的速率已經達到穩定，從而實現了蒸鍍的連續性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產能，而且節約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩定性和良率。
[0036]本實施例中，蒸鍍速率感應器5和待鍍基板4均位于蒸鍍源3的上方，且蒸鍍速率感應器5和待鍍基板4在蒸鍍源3所在平面上的正投影分別位于蒸鍍源3的相對兩側?’動力機構I用于設置在蒸鍍源3的與待鍍基板4位置相對應的一側，遮擋機構2包括遮擋部21和連接板22，遮擋部21和連接板22之間成一夾角，連接板22與動力機構I連接，動力機構I能帶動遮擋部21轉動到遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道的位置。從而實現在蒸鍍速率控制階段對蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道進行遮擋，進而確保在蒸鍍源3的蒸鍍材料速率沒有達到穩定之前，不會蒸鍍到待鍍基板4上，因此確保了待鍍基板4上鍍膜質量。
[0037]其中，遮擋部21呈矩形板狀，遮擋部21的長邊L沿遠離動力機構I的方向延伸，遮擋部21的寬度W大于等于蒸鍍源3的直徑。蒸鍍源3為將蒸鍍材料設置在圓柱體狀的蒸鍍腔室內，蒸鍍時，對腔室內的蒸鍍材料進行加熱升溫，使蒸鍍材料向上蒸發。遮擋部21的結構設置，能使其在蒸鍍速率控制階段的遮擋位置上恰好遮擋住蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，使蒸鍍材料無法蒸鍍到待鍍基板4上。
[0038]本實施例中，連接板22平行于蒸鍍源3的蒸鍍面31，蒸鍍面31為蒸鍍源3的蒸鍍材料向外蒸發的一面。矩形板狀的遮擋部21與連接板22之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。該夾角角度范圍設置，能使遮擋部21在蒸鍍速率控制階段轉動到遮擋位置時，恰好能將蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道完全遮擋住，避免在蒸鍍速率控制階段速率不穩定的蒸鍍材料蒸鍍到待鍍基板4上，造成蒸鍍膜層異常。
[0039]本實施例中，遮擋機構2還包括支撐板23，支撐板23設置在遮擋部21和連接板22的夾角位置，且支撐板23的相鄰的兩側邊分別連接遮擋部21和連接板22。支撐板23的設置，能夠確保遮擋部21