一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種真空鍍膜生產線領域，具體說，是涉及一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾燈許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。需要鍍膜的材料被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。
[0003]在真空鍍膜生產線中，會有大量的基片通過基片架運送到真空鍍膜腔內鍍膜，然后從鍍膜腔內移出，結束鍍膜。但是在鍍膜的生產工藝過程中，為了使基片完整鍍膜，基片上不能有任何標識，這樣在基片鍍膜中不能很快的識別基片，特別是有的基片大小相近，需要借助工具測量才能知道，而且基片在在鍍膜的生產工藝過程中進行到哪一步也是不能確定的，因此這個工作人員，特別是在出現故障時，不能準確檢修，而是需要將整個生產工藝檢查一次，這樣耗費大量的人力物力，降低生產效率。專利號為200610062223的申請文件，提供了一種能自動識別的基片架、識別方法及自動識別裝置，該裝置是在基片架上設有一組與基片架的編號相對應的能使光信號穿過的條形光柵孔編碼，所述條形光柵孔編碼由寬條形光柵孔和/或窄條形光柵孔組合而成，對應與基片架的編號的二進制表示。該編碼采用的是寬條形光柵孔或窄條形光柵孔組合形成，這樣形狀不一的識別方式不僅導致基片架加工時，尤其是成條形光柵孔時的要求較高，使基片架的生產工藝更加復雜；此外，可識別的基片架數量受到限制，僅能通過增加更多的條形光柵孔實現，具體使用時較為受限。
【發明內容】
[0004]針對現有技術存在的上述問題，本發明的目的是提供一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置，該識別裝置設置在基片架上，該識別裝置結構簡單，快速識別基片，不影響鍍膜生產工藝。
[0005]為實現上述發明目的，本發明采用的技術方案如下:
[0006]一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置，安裝在基片架和傳送機構上，基片識別裝置包括:至少2n個識別孔和一識別器，識別孔設置在基片架上，識別器安裝在傳送機構上，識別器進一步包括一紅外線發射單元、一紅外線接收單元和一轉換單元，轉換單元與紅外線接收單元連接，紅外線發射單元與識別孔的高度一致。
[0007]優選地，基片架通過傳送機構在鍍膜生產線中傳送，基片架進一步包括第一支撐桿、第二支撐桿、第一擋板和第二擋板，所述第一支撐桿、第一擋板、第二支撐桿和第二擋板兩兩連接形成一長方形框架，識別孔設置在第二擋板上；傳送機構進一步包括一傳送架和傳送座，傳送座安裝在傳送架內，基片架通過傳送座傳送，識別器設置在傳送架上。
[0008]更優選地，紅外線發射單元和紅外線接收單元整合安裝。
[0009]優選地，紅外線發射單元和紅外線接收單元設置在傳送機構的兩側，紅外線發射單元和紅外線接收單元對應；紅外線發射單元進一步包括至少一個紅外線發射元件，紅外線接收單元進一步包括一紅外線接收元件，紅外線發射元件和紅外線接收元件對應，紅外線發射元件和紅外線接收元件組合在一起與識別孔對應。
[0010]優選地，識別孔進一步分為開放識別孔和封閉識別孔，封閉識別孔與開放識別孔的直徑一致，封閉識別孔是通過將開放識別孔封閉形成。
[0011]更優選地，該封閉識別孔是人工自動封閉，換句話說，在加工該識別孔時，都是加工成開放識別孔，然后人為封閉開放識別孔，這樣更加靈活調節開放識別孔與封閉識別孔的位置，更加方便跟蹤基片。
[0012]更優選地，開放識別孔和封閉識別孔的數量和位置關系依據生產線中基片架數量和類型確定調整。
[0013]更優選地，紅外線發射元件和紅外線接收元件對應一開放識別孔或一封閉識別孔，當紅外線發射元件對應開放識別孔時，紅外線發射元件發射的紅外線通過開放識別孔，并通過紅外線接收元件接收紅外線，接收元件傳遞一種信號給轉換單元；當紅外線發射元件對應封閉識別孔時，紅外線發射元件發射的紅外線不能通過封閉識別孔，紅外線接收不到紅外線發射元件發射的紅外線，紅外線接收元件傳遞另一種類型信號給轉換單元。
[0014]優選地，轉換單元將紅外線接收元件接收到紅外線發射元件發出的紅外線發出的信號轉換為“ I ”，轉換單元將紅外線接收元件未接收到紅外線發射元件發出的信號轉換為“ O ”，對應二進制。
[0015]優選地，基片識別裝置的識別基片類型的數量依據識別孔的數量確定。
[0016]更優選地，基片識別裝置識別基片類型的數量為2η，η彡I。
[0017]更優選地，基片識別裝置識別基片類型的數量為2η，5彡η彡I。
[0018]優選地，基片識別裝置進一步包括一控制器，控制器與識別器的轉換單元無線連接，控制器接收轉換單元的信號匯總。
[0019]優選地，基片識別裝置進一步包括一顯示器和一輸入鍵盤，顯示器與控制器連接，輸入鍵盤與控制器連接，通過輸入鍵盤將各種基片型號輸入控制器內，便于通過顯示器顯
/Jn ο
[0020]與現有技術相比，本發明提供的一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置，其識別孔和識別器分別安裝在基片架和傳送機構上，識別器上的紅外線發射單元發射紅外線穿過識別孔，通過紅外線接收單元接收的紅外線量確定識別孔中開放識別孔和封閉識別孔的數量和位置關系，從而確定安裝在基片架上基片的型號；該識別裝置結構簡單，不受電磁影響，連續快速識別基片型號，不影響鍍膜生產工藝，因此其應用前景十分廣闊。
【附圖說明】
[0021]圖1為本發明提供的真空鍍膜生產線用基片識別裝置一種優選實施方式示意圖；
[0022]圖2為本發明提供的真空鍍膜生產線用基片識別裝置一種優選實施方式的連接示意圖；
[0023]圖3A為本發明提供的真空鍍膜生產線用基片識別裝置一種優選實施方式中基片架上安裝第一種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖；
[0024]圖3B為本發明提供的真空鍍膜生產線用基片識別裝置一種優選實施方式中基片架上安裝第二種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖；
[0025]圖3C為本發明提供的真空鍍膜生產線用基片識別裝置一種優選實施方式中基片架上安裝第三種類型基片時基片架上識別孔排布示意圖。
【具體實施方式】
[0026]下面結合實施方式及附圖對本發明作進一步詳細、完整地說明。
[0027]圖1至圖2，為本發明一種真空鍍膜生產線用基片識別裝置的示意圖。如圖1至圖2所示，該基片識別裝置置安裝在基片架10和傳送機構20上，基片識別裝置包括至少2n個識別孔30和一識別器40，識別孔30設置在基片架10上，識別器40設置在傳送機構20上，識別器40通過識別基片架10上識別孔10的數量和位置識別基片架10上基片的型號。
[0028]基片架10通過傳送機構20在鍍膜生產線中傳送，基片架10進一步包括第一支撐桿11、第二支撐桿12、第一擋板13和第二擋板14，第一支撐桿11、第一擋板13、第二支撐桿12和第二擋板14兩兩連接形成一長方形框架，識別孔30設置在第二擋板14上；傳送機構20進一步包括一傳送架