一種硅片研磨光學拋光系統及其加工工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種硅片研磨光學領域，具體涉及一種硅片研磨光學拋光系統及其加工工藝。
【背景技術】
[0002]目前，硅片表面要進行光學研磨拋光批量生產，使用工藝為兩種，第一種是硅片雙面研磨拋光工藝:硅片厚度分類一金剛砂雙面研磨機研磨一硅片厚度分類一二氧化硅雙面拋光機拋光；第二種是硅片單面研磨拋光工藝:硅片厚度分類一金剛砂雙面研磨機研磨一硅片厚度分類一使用蠟將硅片貼到載盤上一二氧化硅單面拋光機拋光。
[0003]然而現有生產活動中的兩種工藝都得使用研磨砂研磨，費用高，廢棄物多；雙面研磨硅片是在游離狀態下進行研磨，研磨一次時間需要80?100分鐘，且整車研磨中只要有一片碎裂，整車硅片報廢在50%以上，因此成品率不高。
[0004]經過雙面研磨的硅片到雙面拋光機拋光，由于片與片之間厚度誤差和雙面拋光機不能加重壓、經研磨砂研磨后硅片表面的損傷層深，因此拋光速度慢，拋光一車的時間需要
2.5小時，成品率同雙面研磨相同。
[0005]如果采用單面拋光，同樣存在貼片后表面不在一個平面上，且表面損傷層深的問題，拋光一車的時間需要2小時以上，成品率會比雙面拋光機拋光高。
[0006]因此，一種利于環保，減少廢棄物排放，提高生產效率和成品率，降低生產成本的娃片研磨光學拋光系統亟待出現。
【發明內容】
[0007]為解決上述技術問題，本發明的目的在于提供一種利于環保，減少廢棄物排放，提高生產效率和成品率，降低生產成本的硅片研磨光學拋光系統。
[0008]為達到上述目的，本發明的技術方案如下:一種娃片研磨光學拋光系統，包括加熱設備、立軸平面銑磨機和二氧化硅單面拋光機，所述加熱設備包括加熱底座和圓形載盤，所述載盤上表面為光滑的平面，在所述硅片和所述載盤之間設置有粘結蠟層；
[0009]所述立軸平面銑磨機包括第一機架和第一工作臺，在所述第一工作臺上開設有多個與所述載盤相匹配的圓形腔室，在所述第一機架上方設置有金剛石磨盤。
[0010]優選的，所述二氧化硅單面拋光機包括第二機架和第二工作臺，在所述第二工作臺上端面設置有拋光布，在所述第二機架上裝設有上壓盤，所述上壓盤外側套設有固定套圈，在所述固定套圈下方內側設置有與之相匹配的所述載盤，所述載盤位于所述固定套圈和所述拋光布之間；
[0011]所述上壓盤至少為一個。
[0012]優選的，所述第一工作臺為圓形工作臺，在所述第一工作臺中央下端面上連接有可旋轉的驅動機構；
[0013]所述圓形腔室均勻分布于所述第一工作臺上，所述多個圓形腔室的圓心位于同一個圓上。
[0014]優選的，所述第二工作臺為圓形工作臺，所述上壓盤為4個。
[0015]優選的，在所述上壓盤和所述第二機架之間裝設有伸縮機構。
[0016]優選的，所述固定套圈橫截面呈橫臥的工字型，所述固定套圈上端與所述上壓盤相匹配，下端與所述載盤相匹配。
[0017]本發明還提供了一種硅片研磨光學拋光系統加工工藝，具體包括如下步驟:
[0018](I)將需要研磨拋光的硅基片用粘結蠟粘貼到已加熱的載盤上；
[0019](2)待載盤冷卻后，放到立軸平面銑磨機工作平臺上，載盤上的硅片朝上，在該平臺上放滿載盤，啟動立軸平面銑磨機進行研磨；
[0020](3)研磨后，取下載盤沖洗干凈硅粉，直接放到二氧化硅單面拋光機上拋光，載盤上的硅片朝下，加壓1.4kg/c m%拋35分鐘后取下載盤，用自來水將二氧化硅拋光液沖洗干凈，用紗布擦干凈娃片表面；
[0021](4)將帶有硅片的載盤一起放到加熱底座上加熱，到粘結蠟融化，用單面刀片插入載盤和硅片之間，提起硅片，即可得到單面研磨拋光產品；
[0022](5)將載盤上余蠟擦干凈，均勻涂上新的粘結蠟，再將硅片已拋光好的面朝下貼在載盤上，用竹棒輕壓硅片中心，把粘結蠟層的氣泡趕出即可，待載盤冷卻后進行第二面研磨、拋光，重復上述步驟(2)-步驟(4)，即可得到雙面研磨拋光產品。
[0023]通過上述技術方案，本發明技術方案的有益效果是:一種硅片研磨光學拋光系統，包括加熱設備、立軸平面銑磨機和二氧化硅單面拋光機，所述加熱設備包括加熱底座和圓形載盤，所述載盤上表面為光滑的平面，在所述硅片和所述載盤之間設置有粘結蠟層；所述立軸平面銑磨機包括第一機架和第一工作臺，在所述第一工作臺上開設有多個與所述載盤相匹配的圓形腔室，在所述第一機架上方設置有金剛石磨盤；采用本發明所提供的硅片研磨光學拋光系統，通過加熱設備、立軸平面銑磨機和二氧化硅單面拋光機的相互配合，研磨過程中不使用研磨砂，減少了廢棄物的排放，同時還提高了生產效率，提高了成品率，降低了生產成本。
【附圖說明】
[0024]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0025]圖1為本發明實施例所公開的一種娃片研磨光學拋光系統的加熱設備的結構不意圖；
[0026]圖2為本發明實施例所公開的一種硅片研磨光學拋光系統的立軸平面銑磨機的結構示意圖；
[0027]圖3為本發明實施例所公開的一種硅片研磨光學拋光系統的立軸平面銑磨機的局部不意圖；
[0028]圖4為本發明實施例所公開的一種娃片研磨光學拋光系統的二氧化娃單面拋光機的結構示意圖；
[0029]圖5為本發明實施例所公開的一種娃片研磨光學拋光系統的二氧化娃單面拋光機的局部示意圖。
[0030]圖中數字和字母所表示的相應部件名稱:
[0031]1.加熱設備11.底座12.載盤 2.立軸平面銑磨機21.第一機架 22.第一工作臺23.金剛石磨盤 3.二氧化硅單面拋光機 31.第二機架 32.第二工作臺33.上壓盤34.固定套圈35.伸縮機構4.硅片6.拋光布。
【具體實施方式】
[0032]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0033]本發明提供了一種利于環保，減少廢棄物排放，提高生產效率和成品率，降低生產成本的娃片研磨光學拋光系統。
[0034]實施例，
[0035]如圖1-5所不,一種娃片研磨光學拋光系統,包括加熱設備1、立軸平面統磨機2和二氧化硅單面拋光機3，所述加熱設備I包括加熱底座11和圓形載盤12，所述載盤12上表面為光滑的平面，在所述硅片4與所述載盤12之間設置有粘結蠟層，通過所述粘結蠟層將所述硅片4固定于所述載盤12上表面。載盤12采用lCrl7鐵素體不銹鋼。
[0036]所述立軸平面銑磨機2包括第一機架21和第一工作臺22，在所述第一工作臺22上開設有多個與所述載盤12相匹配的圓形腔室(未示出)，在所述第一機架21上方設置有金剛石磨盤23，所述第一工作臺22和所述載盤12之間通過磁性連接，通過相互吸引，使得所述載盤牢牢固定于所述第一工作臺22上。
[0037]所述第一工作臺21為圓形工作臺，在所述第一工作臺21中央下端面上連接有可旋轉的驅動機構，通過驅動機構從而來帶動第一工作臺21以圓心為中心來進行旋轉；所述用于放置載盤12的圓形腔室均勻分布于所述第一工作臺21上，所述多個圓形腔室的圓心位于同一個圓上，在本技術方案中，所述圓形腔室為5個，還可以為其他數目。