含氧化鈰廢磨料的再生方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種含氧化鈰廢磨料的再生方法。更具體地，本發明的含氧化鈰廢磨料的再生方法，可有效地去除含氧化鈰廢磨料中所包含的雜質，實現包括清洗工藝在內的再生工藝的效率化，而且能夠抑制清洗工藝中含氧化鈰磨料的再凝聚。
【背景技術】
[0002]通常，用作電視顯像管或者液晶面板的TFT-1XD用玻璃基板等，在生產過程中會成為表面的平坦度或粗糙度等不良的狀態，因而難以將母玻璃直接用作電視顯像管或液晶面板用玻璃基板。尤其，對于用作液晶面板的TFT-LCD用玻璃面板，正在研宄各種方法以改善產品的亮度、視角、對比度等，已知這些特性也會受到TFT-LCD用玻璃基板表面的很大影響。因此，生產玻璃基板的廠家正在努力改善玻璃基板的表面，而且使用各種玻璃基板磨料。其中，作為普通磨料廣泛使用含氧化鈰(CeO2)的磨料。
[0003]然而，這種含氧化鈰磨料經過一定時間的玻璃拋光過程之后，因拋光效率降低被廢棄而成為廢漿料。這是因為，經過一定時間的拋光過程之后，所述磨料的拋光效率降低，而且會出現磨料顆粒之間的凝聚，導致產生大量劃痕的風險增高。再者，拋光過程中產生的源自拋光墊的雜質會進入磨料漿料中，從而導致產生劃痕的可能性進一步增高。
[0004]因此，在拋光工藝中使用一定時間后需要廢棄所述磨料，這會降低工藝效率或經濟性。為此，正在研宄再利用所述磨料的幾種技術。
[0005]對于已知的含氧化鈰磨料的再利用及再生方法，主要采用了如下方法:用包含氫氟酸或氟化氫化合物等的溶劑溶液溶解掉含氧化鈰廢漿料中所包含的氧化硅等源自玻璃基板的雜質，通過清洗工藝將這些雜質從所述廢漿料分離之后，經干燥及燒結工藝等使所述廢漿料及廢磨料再生。尤其，這種現有的再生方法中，在所述清洗工藝適用自然沉降法或過濾法，或者是使用傾析器(decanter)或離心分離器等，對所述廢漿料進行清洗，將溶解于溶劑溶液的雜質從所述廢漿料中固液分離及去除。
[0006]對于這種固液分離及清洗方法，不可能實現連續工藝且清洗效率降低，因而整個再生工藝的收率降低。再者，對于所述使用傾析器或離心分離器的方法，存在如下風險:在通過強大的離心力進行固液分離的過程中，因出現廢漿料中所包含的磨料顆粒之間的凝聚而需要另進行再分散工藝，或者因生成大顆粒，使用再生磨料時會導致玻璃基板產生劃痕。另外，即使另進行所述再分散工藝也存在缺陷，例如難以完全去除大顆粒，以及難以獲得所要的粒度分布等。
[0007]而且，適用現有的過濾法等也存在缺陷，例如過濾器內容易沉積源自雜質等的粉末，難以去除沉積的粉末導致過濾器壽命縮短等。
【發明內容】
[0008]有鑒于此，本發明提供一種含氧化鈰廢磨料的再生方法，可有效地去除含氧化鈰廢磨料中所包含的雜質，實現包括清洗工藝在內的再生工藝的效率化，而且能夠抑制清洗工藝中含氧化鈰磨料的再凝聚。
[0009]本發明提供一種含氧化鈰廢磨料的再生方法，包括以下步驟:將含氧化鈰(CeO2)廢漿料與包含氟類化合物的溶劑溶液進行混合，以便有選擇地溶解掉包含在所述廢漿料中的含氧化娃(S12)雜質；使所述含氧化鐘廢楽料通過交叉流過濾系統(Cross-flowfliltrat1n system)進行清洗，以便有選擇地去除所述含氧化娃(S12)雜質；以及對所述清洗過的含氧化鈰廢漿料進行干燥及燒結。
[0010]下面，詳細描述根據本發明實施例的含氧化鈰廢磨料的再生方法。
[0011]本發明一實施例提供一種含氧化鈰廢磨料的再生方法，包括以下步驟:將含氧化鈰(CeO2)廢漿料與包含氟類化合物的溶劑溶液進行混合，以便有選擇地溶解掉包含在所述廢漿料中的含氧化硅(S12)雜質；使所述含氧化鈰廢漿料通過交叉流過濾系統(Cross-flow fliltrat1n system)進行清洗，以便有選擇地去除所述含氧化娃(S12)雜質；以及對所述清洗過的含氧化鈰廢漿料進行干燥及燒結。
[0012]在一實施例的含氧化鈰廢磨料的再生方法中，將源自廢磨料的含氧化鈰廢漿料溶解于規定的溶劑溶液，藉以溶解掉源自玻璃基板等的雜質，并通過清洗去除這些雜質之后，經干燥及燒結工藝可將含氧化鈰廢磨料再生為再生磨料。
[0013]尤其，在一實施例的再生方法中，進行所述清洗工藝時，使所述溶劑溶液處理過的廢楽料通過交叉流過濾系統(Cross-flow fliltrat1n system)進行清洗，從而使廢楽料和溶解于溶劑溶液中的雜質固液分離，進而去除這些雜質。此時，所使用的交叉流過濾系統是指系統內具有規定的過濾器，目標溶液經所述過濾器的上部空間沿著與過濾器垂直的方向連續通過，從而對目標溶液進行過濾的系統。即，在這種交叉流過濾系統中，所述目標溶液通過系統內并與下部的過濾器連續接觸，進而目標溶液中的雜質等可被過濾器濾除。
[0014]在一實施例中用這種交叉流過濾系統來進行清洗工藝，從而能夠使所述溶劑溶液處理過的廢漿料連續通過所述交叉流過濾系統進行清洗。因此，一實施例的再生方法可以實現所述清洗及再生工藝的連續化。而且，所述溶劑溶液處理過的廢漿料連續通過所述交叉流過濾系統并與下部的過濾器接觸，進而溶解于溶劑溶液中雜質被過濾、固液分離及去除，因此可進一步提高雜質的去除及清洗效率和整個再生工藝的收率。
[0015]再者，本發明人的實驗結果表明，使用所述交叉流過濾系統來進行清洗工藝，能夠抑制清洗工藝中的磨料凝聚，其結果確認到再生磨料中大顆粒的生成可大為減少。因此，通過一實施例的方法得到的再生磨料可以顯示出較佳的拋光率，不會存在因大顆粒產生劃痕的風險，而且進一步進行用于去除大顆粒的再分散工藝、粉碎或分級工藝的必要性大為減少。
[0016]進一步地，對于所述交叉流過濾系統，通過對所述過濾器的逆流(back pulse)等容易去除所述過濾器表面的粉末，從而可以再利用。因此，能夠增加過濾器壽命，而且能夠進一步提高所述清洗工藝及包括清洗工藝在內的整個再生工藝的效率。
[0017]結果，一實施例的再生方法可有效地去除含氧化鈰廢磨料中所包含的雜質，實現包括清洗工藝在內的再生工藝的效率化，而且能夠抑制清洗工藝中含氧化鈰磨料的再凝聚以及大顆粒的生成。
[0018]下面，參照附圖按各步驟更具體地描述一實施例的含氧化鈰廢磨料的再生方法。圖1是按各步驟顯示一實施例的含氧化鈰廢磨料的再生方法之一示例的示意圖。圖2是顯示一實施例的含氧化鈰廢磨料的再生方法中所使用的交叉流過濾系統的基本原理及構成的模式圖。
[0019]首先，在一實施例的再生方法中，作為再生對象的含氧化鈰廢磨料以及由此產生的廢漿料，可源自TFT-LCD的制造工藝等中用于拋光玻璃基板的含氧化鈰磨料。因此，所述含氧化鈰廢漿料等作為主要雜質會包含源自玻璃基板的氧化硅(S12)及氧化鋁(Al2O3)。而且，所述廢漿料或廢磨料作為雜質可能會包含源自經過拋光的拋光墊或者用于支撐待拋光玻璃基板的貼附墊(backpad)的各種有機物等，還可能包含鐵(Fe)、絡(Cr)或镲(Ni)等其他金屬成分。
[0020]因此，對所述含氧化鈰廢漿料等進行再生時，需要進行以下工藝:去除這些氧化硅及氧化鋁；去除所述源自拋光墊、貼附墊等或者含金屬成分的其他雜質；以及控制含氧化鈰磨料的表面特性、粒度分布和結晶尺寸等。
[0021]請參見圖1，在一實施例的再生方法中，首先可將含氧化鈰(CeO2)廢漿料與包含氟類化合物的溶劑溶液進行混合，以便有選擇地溶解掉包含在所述