本實用新型設計鍍膜機技術領域,具體涉及一種鍍膜機公轉結構。
背景技術:
真空鍍膜機主要由以下幾部分組成:真空腔體,抽氣系統,充氣布氣系統,加熱系統,薄膜沉積控制系統,高壓控制系統,低壓控制系統,蒸發源系統,工件旋轉系統。其功能描述如下:
真空腔體:鍍膜加工的一個空間
抽氣系統:使鍍膜達到所需的真空度
充氣布氣系統:使氣動元件獲得足夠的氣壓完成動作
加熱系統:使基片達到鍍膜所需的溫度
薄膜沉積控制系統:使基片上鍍的膜厚達到所需的要求
高壓控制系統:使蒸發源獲得足夠的電壓
低壓控制系統:控制鍍膜機的元件完成規定的動作
蒸發源系統:讓膜料蒸發
工件旋轉系統:裝載基片并使其轉動
而坩堝結構就是蒸發源系統的主要部件,其工作的穩定性直接影響產品的成膜質量。
目前行業內的鍍膜機坩堝旋轉控制主要采用的是霍爾開關感應定位,這種方式長時間工作以后會有坩堝旋轉不穩,位置偏移的問題,一旦出現了這些問題,會使電子槍轟擊坩堝內膜料的面積產線變化,從而影響蒸發速率,導致膜層沉積不一致。
技術實現要素:
本實用新型要解決的技術問題是解決上述現有技術的不足,提供一種能夠精準定位的鍍膜機坩堝的公轉結構。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案是:一種鍍膜機坩堝公轉定位結構,包括坩堝驅動坩堝轉動的電機,坩堝上均勻設置多個料槽,還包括PLC控制器以及與PLC控制器連接的編碼器,所述編碼器設置在電機尾部由電機轉軸帶動轉動,每個料槽上均設置有標簽對料槽進行編號,PLC控制器根據編碼器的計數控制電機轉數從而對坩堝以及料槽位置進行定位。
進一步的,所述編碼器為軸型編碼器,編碼器的外殼與電機外殼通過連接法蘭固定,編碼器的轉軸與電機轉軸通過聯軸器連接。
進一步的,所述聯軸器上設置有供電機軸散熱的散熱中空部,在聯軸器與連接法蘭之間還設置防塵罩。
從上述技術方案可以看出本實用新型具有以下優點:PLC控制器根據編碼器的反饋數據設置電機轉數可以對坩堝和料槽位置進行精準定位,防止坩堝位置偏移,與驅動電機連接方便,占用體積小。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖;
圖2為本實用新型中坩堝結構示意圖。
具體實施方式
本實用新型的鍍膜機料槽公轉定位結構如圖1、2所示,包括坩堝1、PLC控制器、編碼器6以及驅動電機3,坩堝上均勻分布多個料槽。料槽2隨坩堝1進行公轉,料槽總共為8個,分別設置標簽,計做為1號、2號、、、、8號,坩堝1由驅動電機3帶動轉動,驅動電機3垂直設置在坩堝1下方,可以通過法蘭等固定在鍍膜機的殼體上,PLC控制器連接編碼器6,編碼器設置在驅動電機尾部由驅動電機3轉軸帶動轉動,PLC控制器根據編碼器6的計數控制驅動電機轉數從而對坩堝上料槽3位置進行定位。
使用時,首先確定1號料槽的初始位置,根據編碼器的計數,PLC控制器可以確定其他料槽的位置。且根據PLC控制器根據編碼器的反饋數據設置電機轉數可以對坩堝和料槽位置進行精準定位,防止坩堝位置偏移。
編碼器6可以采用軸型編碼器,編碼器6的外殼與驅動電機3外殼通過連接法蘭5固定,編碼器6的轉軸與電機轉軸通過聯軸器5連接,聯軸器5上設置有供電機軸散熱的散熱中空部,聯軸器與連接法蘭之間還設置防塵罩。采用上述結構的編碼器,不僅與驅動電機連接方便,且與坩堝公轉結構相配合,連接法蘭可以將兩者之間固定。