一種臥式連續濺射雙面鍍膜設備的制作方法

本發明涉及鍍膜產品技術領域，特別涉及一種臥式連續濺射雙面鍍膜設備。

背景技術：

現有技術中，鍍膜設備主要用于電子元件的鍍膜，目前常用的臥式鍍膜設備，由于其傳動結構的設置，使得真空室內的空腔有限，因此，其大多只能進行單面鍍膜，鍍膜生產效率低，且鍍膜的均勻性不高。

為此，有人研發了發明名稱為：一種雙體雙面真空鍍膜設備，專利申請號為201410022033.6，該真空鍍膜設備包括鍍膜室、真空系統和電控系統，鍍膜室為兩個，鍍膜室均包括外筒體與置于外筒體內部的內筒體，內筒體與外筒體之間的密閉空間為鍍膜區，內筒體、外筒體相對的側面上均設有離子發射裝置。該鍍膜設備兩個獨立的鍍膜室可對待鍍工件同時實現雙面鍍膜，大大提高生產效率；采用內外筒體結構的鍍膜室有效減小鍍膜室的空閑容積，降低真空泵的功耗。但是該種鍍膜設備需要有兩個鍍膜室，且對鍍膜室進行特別的設計，因此，真空鍍膜設備本身占據空間較大，不便于在現有的真空腔室進行改造，制作成本高，不便于推廣應用。

因此，研發一種占據空間小，能有效提高鍍膜生產效率，鍍膜產品均勻性好的臥式連續濺射雙面鍍膜設備迫在眉睫。

技術實現要素：

本發明的目的是克服上述現有技術的不足，提供一種臥式連續濺射雙面鍍膜設備，該鍍膜設備能同時對待鍍膜工件進行雙面鍍膜，鍍膜效率高，鍍膜產品均勻性好。

為了達到上述技術目的，本發明是按照以下技術方案予以實現的：

本發明所述的一種臥式連續濺射雙面鍍膜設備，包括機架，從左至右依次安裝在機架上的若干鍍膜前預處理真空室、鍍膜真空室和若干鍍膜后處理真空室，以及對各真空室進行抽真空的抽氣機組，還包括用于安裝鍍膜夾具的鍍膜夾具托板和輸送鍍膜夾具托板的輸送裝置，所述鍍膜真空室內上下均對稱地設有一對平面濺射靶，所述鍍膜真空室內設有帶動鍍膜夾具托板做往復運動的傳動機構，所述傳動機構包括安裝在鍍膜真空室兩端部的同步傳動軸和左右兩側的傳動支架，兩同步傳動軸同一側的端部之間通過傳動副連接，所述鍍膜夾具托板的左右兩側對應地連接在傳動副上由傳動副帶動其運動。

作為上述技術的進一步改進，所述傳動副為鏈輪鏈條傳動副，其中，鏈輪對應安裝在同步傳動軸的兩端部，所述鍍膜夾具托板的左右兩側對應連接在左右兩側的鏈條上。

作為上述技術的更進一步改進，所述鍍膜前預處理真空室、鍍膜真空室和鍍膜后處理真空室之間都是通過閥門隔斷設計，各真空室的傳動支架的外側上均固定安裝有到位行程開關機構。

作為上述技術的更進一步改進，所述到位行程開關機構包括行程開關本體及連接在行程開關本體上的觸發桿，所述觸發桿的末端安裝有軸承，該軸承與鍍膜夾具托板抵觸接觸，能有效減少摩擦，使動作靈敏；此外將該行程開關安裝在傳動固定板的外側，所以基本上不受到熱量輻射，可確保能在很高的工作溫度下，正常穩定地動作，可靠地指示鍍膜夾具托板的位置。

在本發明中，為了確保鏈條與待鍍膜工件之間是水平直線傳動，所述鏈條的下方均對應設有鏈條限位托板。

在本發明中，為了確保鏈條的運行性能，保證其能在高溫環境下的可靠傳動，所述鏈條的兩側均設有上防污隔板和下防污隔板。

在本發明中，所傳動支架上安裝有限位導輪，具有較好的鏈條運行限位作用。

在本發明中，由于放置有待鍍膜工件的鍍膜夾具托板重量較大，為了方便進料和回料，所述輸送鍍膜夾具托板的輸送裝置為托板自動回轉裝置，其能方便地從設備的一側回轉一周后返回至設備的同一側。

在本發明中，為了使設備整體布局美觀，各抽氣機組置于真空室的同一側，且抽氣機組的主泵為分子泵，這樣使得抽真空的抽氣速穩定，而設置在鍍膜室兩端的真空室，可以使鍍膜室內的氣壓呈平行的梯度均勻分布，獲得很好的膜厚均勻性能。

在本發明中，所述兩電氣柜機組對應地排布于設備的兩側邊，極大地節約材料與占地空間，同時減少了真空機組的功率，節約能源。

在本發明中，所述電控系統安裝于機架上，操作控制方便。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

(1)本發明所述的鍍膜設備，通過鏈輪鏈條傳動副帶動安裝有待鍍膜工件的鍍膜夾具托板直線連續運動，通過上下兩對平面濺射靶對待鍍膜工件的兩面同時鍍膜，鍍膜效率大大提高，鍍膜速度快，鍍膜產品的均勻性能高；

(2)本發明中，將到位行程開關機構進行改進，增加了觸發桿及觸發桿末端部的軸承，極大減少摩擦產生的熱，此外，由于行程開關結構安裝在外傳動架上，熱輻射少，確保其能較高的耐熱性能，使得到位行程開關機構能在較高的溫度(可達到280度)的環境下正常工作，可靠性能好。

附圖說明

圖1是本發明所述的臥式連續濺射雙面鍍膜設備的前側視圖；

圖2是本發明所述的臥式連續濺射雙面鍍膜設備的俯視圖；

圖3是本發明中鍍膜真空室主視圖；

圖4是本發明中鍍膜真空室俯視圖；

圖5是上述圖3中a處放大示意圖；

圖6是上述圖3中b處放大示意圖；

圖7是上述圖4中c處放大示意圖。

具體實施方式

如圖1至圖5所示，本發明所述的一種臥式連續濺射雙面鍍膜設備，包括機架1，從左至右依次安裝在機架1上的若干鍍膜前預處理真空室2、鍍膜真空室3和若干鍍膜后處理真空室4，以及對各真空室進行抽真空的抽氣機組5，還包括用于安裝鍍膜夾具的鍍膜夾具托板6和輸送鍍膜夾具托板6的輸送裝置7，所述鍍膜真空室3內上下均對稱地設有一對平面濺射靶8，所述鍍膜真空室3內設有帶動鍍膜夾具托板6做往復運動的傳動機構，所述傳動機構包括安裝在鍍膜真空室3兩端部的同步傳動軸9和左右兩側的傳動支架10，兩同步傳動軸9同一側的端部之間通過傳動副連接，所述鍍膜夾具托板6的左右兩側對應地連接在傳動副上由傳動副帶動其運動。

如圖4所示，所述傳動副為鏈輪鏈條傳動副，包括鏈輪11和鏈條12，其中，鏈輪11對應安裝在同步傳動軸9的兩端部，所述鍍膜夾具托板6的左右兩側對應連接在左右兩側的鏈條12上。此外，為了確保鏈條12與待鍍膜工件30之間是水平直線傳動，所述鏈條12的下方均對應設有鏈條限位托板21；為了確保鏈條的運行性能，保證其能在高溫環境下的可靠傳動，所述鏈條12的兩側均設有上防污隔板22和下防污隔板23。此外，為了確保鏈條運行時的位置，所傳動支架10上安裝有限位導輪24，具有較好的鏈條12運行限位作用。

所述鍍膜前預處理真空室2、鍍膜真空室3和鍍膜后處理真空室4之間都是通過閥門20隔斷設計，各真空室的傳動支架的外側上均固定安裝有到位行程開關機構。

以下以安裝在鍍膜真空室3內的行程開關機構進行具體說明：

如圖4、圖6、圖7所示，所述到位行程開關機構包括行程開關本體13及連接在行程開關本體13上的觸發桿14，所述觸發桿14的末端安裝有軸承15，當鍍膜夾板托板6到位時，該軸承15與鍍膜夾具托板6抵觸接觸，能有效減少摩擦，使動作靈敏；此外將該行程開關機構安裝在傳動支架10的外側，所以基本上不受到熱量輻射，可確保能在很高的工作溫度下，正常穩定地動作，可靠地指示鍍膜夾具托板6的位置。

在本發明中，由于放置有待鍍膜工件30的鍍膜夾具托板6重量較大，為了方便進料和回料，所述輸送鍍膜夾具托板6的輸送裝置7為托板自動回轉裝置，其能方便地從設備的一側上料點回轉一周后返回至設備的上料點位置，便于操作工人的工作。

在本發明中，為了使設備整體布局美觀，各抽氣機組5置于真空室的同一側，且抽氣機組5的主泵為分子泵，這樣使得抽真空的抽氣速穩定，而設置在鍍膜室兩端的真空室，可以使鍍膜室內的氣壓呈平行的梯度均勻分布，獲得很好的膜厚均勻性能。

在本發明中，所述兩電氣柜機組40對應地排布于設備的兩側邊，極大地節約材料與占地空間，同時減少了真空機組的功率，節約能源；所述電控系統50安裝于機架1上，操作控制方便。

以下具體說明本發明所述的臥式連續濺射雙面鍍膜設備的工作過程：

(1)首先，如圖1所示，在設備左側o處對鍍膜夾具托板6上料，隨著托板自動回轉裝置的輸送，鍍膜夾具托板6帶著待鍍膜工件30依次經過鍍膜前預處理真空室2，到達至鍍膜真空室3時，鏈輪鏈條傳動副運動帶動鍍膜夾具托板6水平向前后運動，在鍍膜夾具托板6上下方的平面濺射靶8對待鍍膜工件30進行濺射鍍膜；

(2)接著，濺射鍍膜完畢，托板自動回轉裝置輸送鍍膜夾具托板6至鍍膜后處理真空室4內進行處理；

(3)最后，鍍膜后處理完畢，托板自動回轉裝置5帶動鍍膜夾具托板6從設備的一側上升并往回水平運動，再下降至原始上料位置o處進行出料，至此，整個鍍膜輸送過程完畢。

本發明并不局限于上述實施方式，凡是對本發明的各種改動或變型不脫離本發明的精神和范圍，倘若這些改動和變型屬于本發明的權利要求和等同技術范圍之內，則本發明也意味著包含這些改動和變型。