一種鍍膜裝置的制作方法

本發明涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種鍍膜裝置。

背景技術：

在現有技術中，對于柔性顯示基板，例如：oled(organiclightemittingdiode，有機發光二極管)顯示屏，制備工藝分為兩類：一類為，在玻璃基板上涂覆柔性薄膜，待封裝工序完成后將柔性薄膜和玻璃基板分離；另一類為，在柔性基板上直接通過鍍膜工藝等制備顯示器件。

現有鍍膜設備中，以磁控濺射設備為例，其是通過離子轟擊靶材，在基板表面上進行薄膜沉積。但是，在現有技術中，對于平面玻璃基板來說，進行磁控濺射時，通過掩膜版可以直接在平面玻璃基板上沉積圖形化的薄膜；而對于柔性基板來說，柔性基板在進行鍍膜時是卷曲纏繞濺射成膜輥上，再通過離子轟擊靶材，在柔性基板表面上進行薄膜沉積，由于柔性基板的曲面有一定弧度，柔性基板上的對位標記難以在攝像機(ccd)中聚焦清楚，導致鍍膜裝置中掩膜版難以使用，磁控濺射設備只能對柔性基板進行整面薄膜沉積，無法使用掩膜版進行薄膜的圖形化，后續圖形化還需要使用光刻、刻蝕等制程。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種鍍膜裝置，其能夠實現柔性基板與掩膜版的對位，從而解決柔性基板在鍍膜時只能整面薄膜沉積，無法直接使用掩膜版進行薄膜的圖形化的問題。

本發明所提供的技術方案如下：

一種鍍膜裝置，用于在柔性基板上鍍膜，所述柔性基板上設有第一對位標記；所述鍍膜裝置包括：

成膜輥，所述成膜輥的外周面上包括一預定區域，所述柔性基板的當前待鍍膜部位能夠卷繞在所述預定區域處；

靶材，所述靶材設置在所述成膜輥一側，并與所述成膜輥的預定區域位置對應；

掩膜版，設置在所述靶材與所述成膜輥之間，所述掩膜版為曲面掩膜版，其曲面曲度與所述成膜輥的預定區域處的曲面曲度相同，所述掩膜版上設有第二對位標記；

復眼攝像機，用以獲取所述掩模版的第二對位標記及所述柔性基板的第一對位標記的位置信息；

以及，控制機構，用于根據所述復眼攝像機獲取的所述位置信息，控制所述掩膜版移動，以將所述掩膜版與所述柔性基板進行對位。

進一步的，所述復眼攝像機設置在所述成膜輥內，在所述成膜輥的預定區域處設置有能夠與所述第一對位標記對位的第三對位標記，所述復眼攝像機與所述第三對位標記的位置正對，以使所述第一對位標記能夠落入所述復眼攝像機的視場角范圍內；并且所述成膜輥至少在所述復眼攝像機的視場角范圍內呈透明狀態。

進一步的，所述第三對位標記至少有兩個，所述第一對位標記和所述第二對位標記的位置、數量均與所述第三對位標記相匹配；每一所述第三對位標記處對應設置有一個所述復眼攝像機。

進一步的，每一所述復眼攝像機均設置在一與所述成膜輥的外周面的中心軸相垂直的直線上，所述直線通過與該復眼攝像機所對應的第三對位標記，且所述復眼攝像機以預設角度放置，以使每一所述第一對位標記位于所述復眼攝像機的視場角0°的位置上。

進一步的，所述控制機構包括用于移動所述掩膜版的移動機構。

進一步的，所述移動機構包括第一移動單元，其中所述掩膜版能夠在所述第一移動單元的帶動下進行往復旋轉運動，且旋轉中心軸與所述成膜輥的中心軸重合。

進一步的，所述移動機構包括第二移動單元，所述掩膜版能夠在所述第二移動單元的帶動下，在與所述成膜輥的中心軸方向平行的方向上進行往復運動。

進一步的，所述移動機構包括第三移動單元，所述掩膜版能夠在所述第三移動單元的帶動下進行往復旋轉運動，且旋轉中心軸與所述成膜輥的中心軸垂直。

進一步的，所述鍍膜裝置還包括分別設置在所述成膜輥兩側的柔性基板輸送輥和柔性基板回收輥；其中所述柔性基板未進行鍍膜的一端收卷在所述柔性基板輸送輥上，所述柔性基板的另一端經過所述成膜輥的預定區域，并收卷在所述柔性基板回收輥上。

進一步的，所述鍍膜裝置還包括設置在所述靶材的遠離所述成膜輥的一側的磁控板。

本發明的有益效果如下：

本發明所提供的鍍膜裝置，通過設置復眼攝像機，可以利用復眼攝像機的高景深能力來識別柔性基板上的第一對位標記與掩膜版上的第二對位標記，并根據復眼攝像機所獲取的信息來控制掩膜版移動，完成掩膜版與柔性基板的對位，且由于掩膜版為與柔性基板的曲面曲度相同的曲面掩膜版，則完成掩膜版與柔性基板的對位之后，可直接利用曲面掩膜版在柔性基板上沉積圖形化的薄膜的目的，解決現有技術中柔性基板在鍍膜時只能整面薄膜沉積，無法直接使用掩膜版進行薄膜的圖形化的問題。

附圖說明

圖1表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置的局部俯視圖；

圖2表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版與柔性基板未對位前的結構主視圖；

圖3表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版與柔性基板對位之后的結構主視圖；

圖4表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第一移動單元帶動下的移動方向示意圖；

圖5表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第二移動單元帶動下的移動方向示意圖；

圖6表示本發明實施例中提供的鍍膜裝置在掩膜版在第三移動單元帶動下的移動方向示意圖。

具體實施方式

為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例的附圖，對本發明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本發明的實施例，本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

針對現有技術中鍍膜設備無法利用掩膜版來對柔性基板進行薄膜的圖形化的問題，本發明提供了一種鍍膜裝置，能夠現柔性基板與掩膜版的對位，直接利用掩膜版在柔性基板上沉積圖形化的薄膜。

本發明實施例中提供的鍍膜裝置可以是一種磁控濺射鍍膜設備，其應用于在柔性基板上鍍膜，其中所述柔性基板上設有第一對位標記。

如圖1至圖3所示，本發明實施例中提供的鍍膜裝置包括：

成膜輥100，所述成膜輥100的外周面上包括一預定區域，所述柔性基板10的當前待鍍膜部位能夠卷繞在所述預定區域處；

靶材200，所述靶材200設置在與所述成膜輥100一側，并與所述成膜輥100的預定區域位置對應；

掩模版300，設置在所述靶材200與所述成膜輥100之間，所述掩膜版300為曲面掩膜版300，其曲面曲度與所述成膜輥100的預定區域處的曲面曲度相同，所述掩膜版300上設有第二對位標記301；

復眼攝像機400，所述復眼攝像機400用以利用其高景深性能，獲取所述靶材200的第二對位標記301及所述柔性基板10的第一對位標記101的位置信息；

以及，控制機構(圖中未示意出)，用于根據所述復眼攝像機400獲取的所述位置信息，控制所述掩膜版300移動，以將所述掩膜版300與所述柔性基板10進行對位。

在上述方案中，柔性基板10的當前待鍍膜部位卷繞在成膜輥100的預定區域上，成膜輥100上的預定區域即為成膜輥100與靶材200所正對的區域，在離子轟擊靶材200時，靶材200的材料可沉積在卷繞于成膜輥100的預定區域處的柔性基板10上，在本發明實施例所提供的鍍膜裝置中，通過設置復眼攝像機400，復眼攝像機400能夠同時聚焦物體的不同深度，因此，可以利用復眼攝像機400的高景深能力來識別柔性基板10上的第一對位標記101與掩膜版300上的第二對位標記301，并根據復眼攝像機400所識別的信息來控制掩膜版300移動，完成掩膜版300與柔性基板10的對位，由于掩膜版300為與柔性基板10的曲面曲度相同的曲面掩膜版300，且在掩膜版300具有鍍膜圖形310，則在完成掩膜版300與柔性基板10的對位之后，可直接利用曲面掩膜版300在柔性基板10上沉積圖形化的薄膜的目的，從而解決現有技術中柔性基板10在鍍膜時只能整面薄膜沉積，無法直接使用掩膜版300進行薄膜的圖形化的問題。

本發明實施例提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述鍍膜裝置還包括分別設置在所述成膜輥100兩側的柔性基板輸送輥401和柔性基板回收輥402；其中所述柔性基板10未進行鍍膜的一端收卷在所述柔性基板輸送輥401上，所述柔性基板10的另一端經過所述成膜輥100的預定區域，并收卷在所述柔性基板回收輥402上。

在上述方案中，在所述柔性基板輸送輥401上卷繞著鍍膜之前的柔性基板10，柔性基板10的待鍍膜部位卷繞在成膜輥100上的預定區域上，在成膜輥100上卷繞的柔性基板10在鍍膜完成后，輸送并卷繞至柔性基板回收輥402上，由此完成鍍膜過程中柔性基板10的輸送過程。

此外，在本發明實施例所提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述復眼攝像機400設置在所述成膜輥100內，在所述成膜輥100的預定區域處設置有能夠與所述第一對位標記101對位的第三對位標記(圖中未示意出)，所述復眼攝像機400與所述第三對位標記的位置正對，以使所述第一對位標記101能夠落入所述復眼攝像機400的視場角范圍內；并且所述成膜輥100至少在所述復眼攝像機400的視場角范圍內呈透明狀態。

采用上述方案，在所述成膜輥100的預定區域處設置第三對位標記，柔性基板10上的第一對位標記101可以與第三對位標記配合，來對柔性基板10和成膜輥100進行對位，通過在第三對位標記處設置復眼攝像機400，可以使得柔性基板10上的第一對位標記101落入復眼攝像機400的視場角范圍內，并且使得成膜輥100在復眼攝像機400的視場角范圍內的部分呈透明狀態，可以使得復眼攝像機400能正常獲取第一對位標記101、第二對位標記301和第三對位標記的位置信息。

在上述方案中，需要說明的是，所述復眼攝像機400可以設置在所述成膜輥100的內部，而所述成膜輥100的整個外周面或者所述成膜輥100的外周面上的預定區域處可以是直接采用透明材料制成。

此外，在本發明實施例中提供的鍍膜裝置中，如圖1至圖3所示，所述第三對位標記至少有兩個，所述第一對位標記101和所述第二對位標記301的位置、數量均與所述第三對位標記相匹配；每一所述第三對位標記處對應設置有一個所述復眼攝像機400。

采用上述方案，所述第一對位標記101的數量至少有兩個，且優選的分別在柔性基板10的待鍍膜區域的兩個對角位置設置有第一對位標記101，這樣，可以保證對位精度。相應地，所述第二對位標記301及第三對位標記的數量及位置均與第一對位標記101匹配。并且，在上述方案中，一個第三對位標記處設置一個復眼攝像機400，以保證各位置處的對位標記均能夠準確對位。

此外，在本發明實施例中提供的鍍膜裝置中，優選的，如圖1所示，每一所述復眼攝像機400均設置一與所述成膜輥100的中心軸相垂直的直線上，且該直線通過該復眼攝像機400所對應的第三對位標記，所述復眼攝像機400以預設角度放置，以使每一所述第一對位標記101位于所述復眼攝像機400的視場角0°的位置上。

采用上述方案，由于從不同的視角來看，第一對位標記101和第二對位標記301的對位位置會略有偏差，若要曲面的掩膜版300與曲面的柔性基板10正對，則需要從與柔性基板10的曲面曲度相同的成膜輥100的中心軸所在位置朝向第一對位標記101看去的視角，觀察第一對位標記101和第二對位標記301重合時，則曲面的掩膜版300與曲面的柔性基板10的對位準確度更高，因此，在上述方案中，將所述復眼攝像機400設置在所述成膜輥100的中心軸和與該復眼攝像機400所對應的第三對位標記的直線連線上，并以預設角度設置，該預設角度可以使得第三對位標記正好位于所述復眼攝像機400能夠的視場角0°的位置上，也就是說，使得柔性基板10的第一對位標記101正好在復眼攝像機400的視場角0°的位置上，以保證對位準確度。

此外，在本發明實施例所提供的鍍膜裝置中，優選的，所述控制機構包括用于移動所述掩膜版300的移動機構。

其中，所述移動機構包括第一移動單元，所述掩膜版300能夠在所述第一移動單元的帶動下進行往復旋轉運動，且旋轉中心軸與所述成膜輥100的中心軸重合。

采用上述方案，如圖4所示，所述第一移動單元可以使得所述掩膜版300保持與柔性基板10相同的曲度，以繞成膜輥100旋轉的方式相對于柔性基板10平移，來實現所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對位。其中，對于所述第一移動單元的具體實現方式并不進行限定，可以有多種方式，例如：可以通過夾持機構來夾持掩膜版300，再通過第一旋轉組件來帶動夾持機構繞成膜輥100的中心軸旋轉。

此外，優選的，所述移動機構還包括第二移動單元，所述掩膜版300能夠在所述第二移動單元的帶動下，在與所述成膜輥100的中心軸方向平行的方向上進行往復運動。

采用上述方案，如圖5所示，所述第二移動單元可以使得所述掩膜版300在與所述成膜輥100的中心軸平行的方向上相對于柔性基板10平移，來實現所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對位。其中，對于所述第二移動單元的具體實現方式并不進行限定，可以有多種方式，例如：可以通過夾持機構來夾持掩膜版300，再通過平移組件來帶動夾持機構在與所述成膜輥100的中心軸平行的方向上移動。

此外，優選的，所述移動機構還包括第三移動單元，所述掩膜版300能夠在所述第三移動單元的帶動下進行往復旋轉運動，且旋轉中心軸與所述成膜輥100的中心軸垂直。

采用上述方案，如圖6所示，所述第三移動單元可以使得所述掩膜版300保持與柔性基板10相同的曲度，以繞成膜輥100旋轉的方式相對于柔性基板10旋轉，來實現所述掩膜版300與所述柔性基板10之間的對位。其中，對于所述第三移動單元的具體實現方式并不進行限定，可以有多種方式，例如：可以通過夾持機構來夾持掩膜版300，再通過第二旋轉組件來帶動夾持機構繞成膜輥100的中心軸旋轉。

在上述方案中，現有技術中平面柔性基板10與平面掩膜版300的對位方式，通常包括：在x軸方向上平移掩膜版300、y軸方向上平移掩膜版300以及以掩膜版300所在平面為旋轉面將掩膜版300相對于柔性基板10旋轉，即，平面柔性基板10與平面掩膜版300的對位坐標為x坐標、y坐標、θ坐標；

而在本發明實施例中所提供的鍍膜裝置中，曲面柔性基板10與曲面掩膜版300的對位坐標不同于現有技術中平面柔性基板10與平面掩膜版300的對位坐標，而是提出新的對位坐標，即對位坐標為θ1坐標、y坐標、θ2坐標，其中，

如圖4所示，在所述第一移動單元帶動下，掩膜版300沿著成膜輥100的曲面進行轉動，轉動的角度定義為θ1坐標；如圖5所示，在所述第二移動單元帶動下，掩膜版300沿平行于成膜輥100的中心軸方向移動，定義為y坐標；如圖6所示，在所述第三移動單元帶動下，掩膜版300在垂直于成膜輥100中心軸的方向旋轉，旋轉的角度定義為θ2坐標。通過θ1、θ2、y這三個坐標下掩膜版300的移動，最終實現掩膜版300和柔性基板10對位。

此外，在本發明實施例中所提供的鍍膜裝置中為了提高離子轟擊靶材200的效率，在所述靶材200的遠離所述成膜輥100的一側還設置有磁控板600。

以下說明本發明實施例中所提供的鍍膜裝置的工作過程：

首先，所述柔性基板輸送輥401上卷繞的需要進行鍍膜的柔性基板10輸送至成膜輥100上的預定區域處，并利用柔性基板10上的第一對位機構與成膜輥100上的第三對位機構對位；

在進行鍍膜之前，需要對柔性基板10與掩膜版300進行對位，具體地，通過復眼攝像機400獲取到柔性基板10上的第一對位標記101和掩膜版300上的第二對位標記301的位置信息，控制機構計算掩膜版300與柔性基板10的偏移距離，通過移動機構調整掩膜版300的位置，完成柔性基板10與掩膜版300之間的對位；

然后，在對位完成之后，開始進行磁控濺射，使得離子轟擊靶材200，將靶材200上的材料沉積到柔性基板10上，在柔性基板10上形成圖形化的薄膜；

最后，鍍膜完成后的柔性基板10輸送至柔性基板回收輥402內。

以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本發明的保護范圍。