本實用新型屬于機械加工設備領域,具體涉及一種光學零件拋光用盤面清洗夾具。
背景技術:
表面拋光是對石英、硅、玻璃、陶瓷等材料片的表面加工,使其達到一定的厚度、光潔度和平面度的方法。拋光盤是常見的表面加工設備,拋光盤的拋光平面的平面度將直接影響表面及其它加工指標的精度和質量。為了保證拋光盤平面的平面度,國內外均采用拋光修正輪的方式進行拋光修正。其具體方式是,在拋光盤的外圍設置與之不相接觸的內齒圈,拋光盤中心孔位置設置與之不相接觸的太陽輪,太陽輪帶有外齒,在內齒圈與太陽輪之間嚙合3-4 個修正輪。由于拋光盤面貼有拋光膜(阻尼布),拋光膜表面為毛茸狀的,在拋光過程中,拋光粉液就會漸漸把拋光膜上的毛孔堵塞,造成拋光效果差,出現拋不亮等異常。對于拋光盤面的清洗,現有技術是采用人工用刷衣服的刷子,對拋光膜進行刷洗,缺點是:1、清洗不徹底,2、力度不均勻,造成拋光膜的損壞。
技術實現要素:
本實用新型的目的在于提供一種應用于水晶、玻璃、磁性材料等的拋光前的盤面清洗的光學零件拋光用盤面清洗夾具。
本實用新型的目的是這樣實現的:
一種光學零件拋光用盤面清洗夾具,夾具主體為外周布有輪齒的盤狀結構,在主體的壁面上開設有軸孔,修盤游輪的軸孔與輪齒之間的壁面上開設有圓孔,圓孔內安裝有清潔件。
所述的清潔件為棉球、海綿球、清潔布、球刷中的一種。
所述的球刷為由直徑0.25mm的細毛加工成的球狀清潔件。
所述的軸孔開設在夾具主體的中心。
所述的圓孔從輪齒開始向圓心設置為N層,每一層都等距均勻的分布在壁面上,每層的圓孔的圓心到夾具主體中心的距離相等。
在所述的圓孔與軸孔之間均勻分布有4個壁孔。
所述的輪齒的齒根高2.5mm,尺頂高2mm。
所述光學零件拋光用盤面清洗夾具的厚度為6.0mm。
所述光學零件拋光用盤面清洗夾具采用環氧樹脂板。
本實用新型的有益效果在于:
本實用新型采用環氧樹脂板,清潔件用直徑0.25的細毛加工成,放到機器里,用內外齒輪夾持,然后注入清水,啟動機器運轉,可以很輕松的把機器包括拋光膜內含的廢舊粉液清洗干凈,拋光膜受力均勻,沒有損壞風險。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型做進一步描述。
如圖1所示,本實用新型的具體結構原理,該光學零件拋光用盤面清洗夾具用于水晶、玻璃、磁性材料等的拋光前的盤面清洗。光學零件拋光用盤面清洗夾具,夾具主體為外周布有輪齒的盤狀結構,在主體的壁面上開設有軸孔,修盤游輪的軸孔與輪齒之間的壁面上開設有圓孔,圓孔內安裝有清潔件。當光學零件拋光用盤面清洗夾具工作時,將此清洗夾具均勻放置在機器中,注入清水,啟動機器運轉,實現拋光盤面的清洗。
其中光學零件拋光用盤面清洗夾具采用環氧樹脂板。
實施例1
一種光學零件拋光用盤面清洗夾具,夾具主體為外周布有輪齒的盤狀結構,在主體的壁面上開設有軸孔,修盤游輪的軸孔與輪齒之間的壁面上開設有圓孔,圓孔內安裝有清潔件。清潔件為為由直徑0.25mm的細毛加工成的球狀清潔件。軸孔開設在夾具主體的中心。圓孔從輪齒開始向圓心設置為3層,每一層都等距均勻的分布在壁面上,每層的圓孔的圓心到夾具主體中心的距離相等。在所述的圓孔與軸孔之間均勻分布有4個壁孔。所述的輪齒的齒根高2.5mm,尺頂高2mm。所述光學零件拋光用盤面清洗夾具的厚度為6.0mm。所述光學零件拋光用盤面清洗夾具采用環氧樹脂板。當本裝置工作時在拋光機臺磨盤上均勻放置4個本實用新型裝置,啟動機器轉動,清潔液通過壁孔均勻滲入拋光機臺磨盤,注入清水,啟動機器運轉,實現拋光盤面的清洗。故凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何細微修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。