1.一種高強度低磨耗耐磨球，其特征在于，包括熔覆層與耐磨球基體，耐磨球基體其原料按質量分數包括以下成分：C：0.9～1.5％、Si：1.4～2.2％、Mn：0.4～1％、Cr：14～18％、Ni：0.45～0.6％、Cu：0.52～0.82％、Al：0.02～0.04％、Mg：0.01～0.025％、B：0.15～0.5％、Ti：0.2～0.6％、Zr：0.04～0.08％、Nb：0.01～0.03％、Mo：0.7～0.9％、V：0.04～0.08％、Nd：0.01～0.03％、W：0.04～0.07％、P≤0.02％，其余為Fe及不可避免的雜質。
2.根據權利要求1所述高強度低磨耗耐磨球，其特征在于，包括熔覆層與耐磨球基體，耐磨球基體其原料按質量分數包括以下成分：C：1～1.2％、Si：1.7～1.9％、Mn：0.65～0.85％、Cr：15.6～17.2％、Ni：0.49～0.52％、Cu：0.62～0.72％、Al：0.028～0.034％、Mg：0.015～0.02％、B：0.25～0.4％、Ti：0.4～0.5％、Zr：0.05～0.07％、Nb：0.018～0.023％、Mo：0.77～0.85％、V：0.05～0.07％、Nd：0.017～0.022％、W：0.05～0.06％、P≤0.02％，其余為Fe及不可避免的雜質。
3.一種如權利要求1-2中任一項所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1、將原料按熔點從低到高加入中頻感應熔煉爐中進行熔煉，得到鋼水，經澆注成型得到耐磨球坯體；
S2、將耐磨球坯體淬火處理，然后空冷至室溫后進行低溫回火得到耐磨球基體；
S3、將干燥后的熔覆層粉末與粘結劑混合均勻制成膏狀，然后涂覆在經清洗后的耐磨球基體表面，激光熔覆處理后，冷卻到室溫得到初級耐磨球；
S4、將初級耐磨球預冷處理，再深冷處理，升至室溫，經低溫回火，然后冷處理，升至室溫，在熱水中靜置，經低溫回火后空冷至室溫得到所述高強度低磨耗耐磨球。
4.根據權利要求3所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，在S4中，具體步驟如下：將初級耐磨球放入冰水中20～30min，再以1～2℃/min的速度降溫至-58～-48℃，保溫30～40min，然后在液氮中放置25～35min，升至室溫，經20～25min升溫至160～180℃，保溫2～3h，空冷至室溫，然后以1～2℃/min的速度降溫至-68～-55℃，保溫65～80min，升至室溫，在80～90℃的熱水中放置45～60min，除去水分后經5～10min升溫至240～280℃，保溫5～6h，空冷至室溫后得到所述高強度低磨耗耐磨球。
5.根據權利要求3所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，在S3中，激光熔覆處理工藝為：單道掃描，氬氣保護激光池，光斑直徑為3.2～4.2mm，掃描速度為5.5～6.5mm/s，功率為1.28～1.35KW。
6.根據權利要求3所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，在S3中，熔覆層粉末由合金粉末與陶瓷粉末混合均勻組成，且熔覆層厚度為1.1-1.8mm；其中，陶瓷粉末粒徑為60～70nm，合金粉末的粒徑為80～100μm，陶瓷粉末的重量占熔覆層粉末總重量的5～9wt％。
7.根據權利要求6所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，陶瓷粉末按重量份包括以下組分：10～20份BC、20～30份SiC、10-20份Cr3C2、10～20份B2O3、15～25份TiO2、20-30份Al2O3。
8.根據權利要求6所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，合金粉末按質量分數包括以下成分：C：0.4～0.8％、Cr：10～13.5％、B：0.8～1.5％、Sc：0.03～0.08％、Si：0.8～1.1％、Zr：0.1～0.3％、Ni：4～8％、Ce：0.05～0.09％、La：0.08～0.12％，余量為Fe及不可避免的雜質。
9.根據權利要求8所述高強度低磨耗耐磨球的制備方法，其特征在于，合金粉末中B、Sc、Zr的質量分數滿足關系式：wB＝k1wSc+k2wZr；其中，wB為B的質量分數，wSc為Sc的質量分數，wZr為Zr的質量分數，k1取4～6，k2取3～5。