1.一種具有高硬度和高減摩性能的納米涂層，其特征在于：在基體上通過多靶磁控濺射的方式交替濺射沉積形成CrAlN納米層和WS2納米層，靠近基體的一層為CrAlN納米層，最外側的一層為WS2納米層；所述基體為金屬、硬質合金或陶瓷。
2.如權利要求1所述的具有高硬度和高減摩性能的納米涂層，其特征在于：所述的納米涂層的總厚度為2.0-4.5μm，每一CrAlN納米層的厚度為5.0nm，每一WS2納米層的厚度為0.4-1.2nm。
3.如權利要求2所述的具有高硬度和高減摩性能的納米涂層，其特征在于：所述WS2納米層厚度小于0.8nm時，WS2納米層為面心立方結構。
4.權利要求1所述的具有高硬度和高減摩性能的納米涂層的制備方法，其特征在于包括如下步驟：
1）一個清洗基體的步驟；將經拋光處理后的基體送入超聲波清洗機，依次用丙酮、無水乙醇和去離子水以80-100W分別進行超聲波清洗10~20min；將超聲波清洗后的基體裝進真空室，抽真空到6×10-4Pa后通入Ar氣，維持真空度在2-4Pa，用功率為80-100W的射頻電源對基體進行離子轟擊，進行離子清洗；
2）一個交替濺射CrAlN層和WS2層的步驟；將步驟（1）經離子清洗后的基體置入多靶磁控濺射儀中，在氬、氮混合氣氛中，交替停留在CrAl合金靶和WS2靶之前，通過濺射獲得由多個CrAlN納米層和WS2納米層交替疊加的納米量級多層涂層，通過調整CrAl靶和WS2靶的功率和沉積時間以控制每一涂層的厚度，最終得具有高硬度和高減摩性能的CrAlN/WS2多層涂層；
上述的濺射過程的控制參工藝數為：
a)所述的CrAl合金靶中，Cr和Al按原子比為1:1，WS2靶的純度為99.99%；
b)CrAl合金靶和WS2靶的直徑均為75mm；
c)所述的氬、氮混合氣氛，總氣壓為0.2Pa-0.6Pa；Ar氣流量為20-50sccm，N2氣流量為3-15sccm；
d)CrAlN納米層濺射功率120W，時間16s；
e)WS2納米層濺射功率80W，時間2-10s；
f)靶基距5-7cm；
g)基體溫度為300℃。
5.如權利要求4所述的具有高硬度和高減摩性能的納米涂層的制備方法，其特征在于：步驟（2）中，所述的多靶磁控濺射儀為中科院沈陽科學儀器研制中心有限公司生產的JGP-450型磁控濺射系統。