本發明屬于液晶玻璃基板薄化工藝研磨技術領域，具體涉及一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法。
背景技術：
平板顯示器包括等液晶顯示器(LCD)、觸摸屏(TP)、離子體顯示器(PDP)及有機電致發光器(OLED)。液晶顯示設置由于提供基于卓越的分辨率的鮮明的影像、耗電少、可較薄地制作顯示畫面的特性，在平板顯示設置中最受到關注。液晶顯示設置使用于包括手機、筆記本型PC的移動用設備及電視。
目前液晶玻璃基板的薄化主要采用化學薄化技術，其工藝包括：封膠固化，化學薄化，薄化后清洗，研磨，研磨后手工清洗，水平清洗機清洗。隨著技術的發展，超大超薄液晶面板的減薄已成為行業內主流，研磨液是液晶玻璃基板薄化工藝研磨拋光的主要材料，而研磨液對研磨后液晶基板表面良率狀況成為難點，傳統研磨液是以自來水與粒徑為1.7μm研磨粉配置而成，其過濾設置一般采用防靜電手套或絲襪過濾，研磨之后液晶基板表面大多會有機械劃傷及來料凹凸點未處理干凈，使得液晶基板良率不能滿足客戶需求及反拋髙影響生產效率。
技術實現要素：
本發明的目的是針對已有薄化研磨工藝技術的不足，提供液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法，該方法可以有效方便地使得液晶玻璃基板表面的機械劃傷顯著減少，提高研磨后液晶玻璃基板表面粒良率，減少研磨再返研磨，提髙生產效率。
為了達到上述目的，本發明采用如下技術方案：
一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法，包括如下步驟：
(1)研磨液的配制：研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成；
從動力部門接入超純水管道至研磨機臺；
先將研磨桶清洗干凈，確保內壁無殘留異物或塊狀拋光粉；然后加入2/3桶超純水，開啟研磨液循環，將管道中殘留的研磨液沖刷干凈，再將研磨桶中剩余的純水倒掉，如果研磨桶內還有異物，需繼續清洗至干凈；
加入超純水至研磨桶上方約5cm處，開啟攪拌，加入2000mL粒徑為1.0μm氧化鈰拋光粉；
在研磨機研磨液出液管道中的出液口設置短筒絲襪，并在絲襪外面再次設置一個密度為200目的過濾袋，設置完成后，用手輕輕拉扯過濾袋，如果發現輕易就將其扯動，則需重新對過濾袋進行設置，以防止其在研磨過程中掉落，導致品質異常；
(2)研磨機清洗：
a)上定盤清洗：先將機臺調整為手動操作狀態，然后手動把上定盤打到水平位置，一手用水槍對上定盤表面進行沖洗，另一手用毛刷對其表面進行洗刷，將表面可去除的拋光粉殘留清洗潔凈；注意上定盤表面是否有玻璃殘渣或其它硬物，如有此類物品必須將其清除，若有部分結塊拋光粉殘留刷不掉，可將其留在上定盤表面，此過程需在2min內完成；
b)拋光墊清洗：上定盤清洗潔凈后，將其上升至最高處后，手動打開下定盤旋轉，一手用水槍對拋光墊表面進行沖洗，另一手用毛刷對機臺表面進行洗刷，洗刷順序由拋光墊中間位置開始向外逐一對整個拋光墊表面進行洗刷，此過程需在1min內完成；
c)研磨機臺清洗：拋光墊清洗完成后打開外接水管，用水管口對機臺擋板以及下定盤底部進行沖洗，特別是下定盤底部殘留的拋光粉結塊，一定要沖洗掉。清洗完成后，關掉下定盤旋轉以及外接水管，此過程需在2min內完成；
(3)研磨機研磨：研磨機臺清洗完成后，將研磨機臺調節為自動狀態，根據不同型號基板拋光工藝參數要求，調節研磨機臺參數后正常運轉工作。
本發明采用的氧化鈰拋光粉型號為蒙銳。
優選地，氧化鈰拋光粉與超純水的質量比為8:100。
優選地，研磨液的濃度范圍大于等于1.02g/cm2。
本發明的有益效果有：
(1)本發明的研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成，氧化鈰拋光粉，具有切削力強、拋光時間短、使用壽命長、拋光精度高、粒度均勻等優點；超純水有利于提高液晶玻璃基板的表面研磨效果；
(2)本發明的方法，能有效地改進液晶玻璃基板薄化工藝中研磨后基板表面機械劃傷等表面不良；在研磨機出液口設置了短筒絲襪，并在絲襪外面再次設置一個密度為200目過濾袋，液晶玻璃基板表面的機械劃傷顯著減少，提高了研磨后液晶玻璃基板表面粒良率；
(3)本發明可以減少研磨再返研磨，大幅降低了液晶玻璃基板薄化工藝中研磨后反拋率，降低了研磨機研磨時間，提升了生產效率。
附圖說明
圖1為本發明的工藝流程圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的說明。
實施例1
一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法，包括如下步驟：
(1)研磨液的配制：研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成；
從動力部門接入超純水管道至研磨機臺；
先將研磨桶清洗干凈，確保內壁無殘留異物或塊狀拋光粉；然后加入2/3桶超純水，開啟研磨液循環，將管道中殘留的研磨液沖刷干凈，再將研磨桶中剩余的純水倒掉，如果研磨桶內還有異物，需繼續清洗至干凈；
加入超純水至研磨桶上方約5cm處，開啟攪拌，加入2000mL粒徑為1.0μm氧化鈰拋光粉；本發明采用的氧化鈰拋光粉型號為蒙銳；氧化鈰拋光粉與超純水的質量比為8:100；研磨液的濃度范圍大于等于1.02g/cm2。
在研磨機研磨液出液管道中的兩個出液口設置短筒絲襪，并在絲襪外面再次設置一個密度為200目，長150mm寬90mm的過濾袋，設置完成后，用手輕輕拉扯過濾袋，如果發現輕易就將其扯動，則需重新對過濾袋進行設置，以防止其在研磨過程中掉落，導致品質異常；
(2)研磨機清洗：
a)上定盤清洗：先將機臺調整為手動操作狀態，然后手動把上定盤打到水平位置，一手用水槍對上定盤表面進行沖洗，另一手用毛刷對其表面進行洗刷，將表面可去除的拋光粉殘留清洗潔凈；注意上定盤表面是否有玻璃殘渣或其它硬物，如有此類物品必須將其清除，若有部分結塊拋光粉殘留刷不掉，可將其留在上定盤表面，此過程需在2min內完成；
b)拋光墊清洗：上定盤清洗潔凈后，將其上升至最高處后，手動打開下定盤旋轉，一手用水槍對拋光墊表面進行沖洗，另一手用毛刷對機臺表面進行洗刷，洗刷順序由拋光墊中間位置開始向外逐一對整個拋光墊表面進行洗刷，此過程需在1min內完成；
c)研磨機臺清洗：拋光墊清洗完成后打開外接水管，水量需控制在一定范圍內，若水量過大，清洗后廢水會從切液口溢流到拋光桶內，造成拋光液的污染，影響產品拋光品質，若水量過小，機臺不能清洗潔凈也會影響產品拋光品質。用水管口對機臺擋板以及下定盤底部進行沖洗，特別是下定盤底部殘留的拋光粉結塊，一定要沖洗掉。清洗完成后，關掉下定盤旋轉以及外接水管，此過程需在2min內完成；
(3)研磨機研磨：研磨機臺清洗完成后，將研磨機臺調節為自動狀態，根據不同型號基板拋光工藝參數要求，調節研磨機臺參數后正常運轉工作。
以上所述實施例僅表達了本發明的優選實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干變形、改進及替代，這些都屬于本發明的保護范圍。因此，本發明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。