一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]在平板顯示裝置中，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，簡稱TFT-LCD)具有體積小、功耗低、制造成本相對較低和無福射等特點，在當前的平板顯示器市場占據了主導地位。
[0003]目前常見的液晶顯示面板，其彩膜基板位于陣列基板遠離背光模組的一側。為了實現顯示裝置的窄邊框甚至無邊框設計，也可以將陣列基板放置在彩膜基板遠離背光模組的一側，這樣可以大幅度窄化印刷電路板綁定區占用的邊框面積。
[0004]然而，當陣列基板位于出光側時，陣列基板上的柵線、數據線等金屬線由于其材質特性存在反光現象，尤其當外界光線較強時，由金屬線反射的光線進入人眼，會嚴重影響顯示裝置的顯示效果。
【發明內容】
[0005]本發明實施例的目的是提供一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置，以改善陣列基板的反光現象，提升顯示裝置的顯示效果。
[0006]本發明實施例提供了一種陣列基板，包括:
[0007]透明基板；
[0008]位于透明基板一側的薄膜晶體管、柵線和數據線；
[0009]位于透明基板另一側的遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影。
[0010]在本發明的技術方案中，當陣列基板位于背光模組的出光側時，因為出光側具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影，所以，當外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數據線時，遮光層會吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0011]優選的，所述遮光層在所述透明基板上的正投影與所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影圖形相同。
[0012]較佳的，所述遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層。采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當陣列基板進入工藝腔室進行遮光層薄膜的沉積工序時，可以減少對設備的污染，進而提高產品的整體性能。
[0013]較佳的，所述陣列基板還包括:位于透明基板與遮光層之間的靜電屏蔽層。在該技術方案中，當遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時，靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進而提高產品品質。
[0014]較佳的，所述遮光層為黑矩陣遮光層。
[0015]更優的，所述陣列基板還包括:位于遮光層遠離所述透明基板一側的保護層。在該技術方案中，在遮光層遠離透明基板的一側設置保護層，不僅可以保護遮光層，還可以使遮光層的表面較為光滑。
[0016]本發明實施例提供一種顯示裝置，包括背光模組和顯示面板，所述顯示面板包括彩膜基板、如上述任一技術方案所述的陣列基板以及位于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶層，其中，所述陣列基板位于所述彩膜基板遠離所述背光模組的一側。該顯示裝置可以實現窄邊框甚至無邊框設計，并且顯示效果較好。
[0017]本發明實施例提供一種陣列基板的制造方法，包括:
[0018]在透明基板的一側形成薄膜晶體管、柵線和數據線；
[0019]在透明基板的另一側形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影。
[0020]采用該方法制造的陣列基板，當其位于背光模組的出光側時，因為出光側具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影，所以，當外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數據線時，遮光層會吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0021]優選的，所述遮光層在所述透明基板上的正投影與所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影圖形相同。
[0022]較佳的，所述遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層。采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當陣列基板進入工藝腔室進行遮光層薄膜的沉積工序時，可以減少對設備的污染，進而提高產品的整體性能。
[0023]較佳的，所述方法還包括:
[0024]在透明基板與遮光層之間形成靜電屏蔽層。在該技術方案中，當遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時，靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進而提尚廣品品質。
[0025]較佳的，所述遮光層為黑矩陣遮光層。
[0026]具體的，所述在透明基板的另一側形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影，具體包括:
[0027]在透明基板的另一側沉積遮光層薄膜；
[0028]在薄膜晶體管、柵線和數據線一側，采取自對位曝光方式對基板進行曝光；
[0029]對曝光處理后的遮光層薄膜進行顯影，形成遮光層，所述遮光層在所述透明基板上的正投影覆蓋所述薄膜晶體管、柵線和數據線在所述透明基板上的正投影。
[0030]優選的，所述方法還包括:
[0031]在遮光層的遠離透明基板的一側形成保護層。在該實施例中，在遮光層遠離透明基板的一側設置保護層，不僅可以保護遮光層，還可以使遮光層的表面較為光滑。
【附圖說明】
[0032]圖1為本發明實施例陣列基板的結構示意圖；
[0033]圖2為本發明一實施例遮光層在透明基板上的正投影示意圖；
[0034]圖3為本發明實施例陣列基板的制造方法流程圖；
[0035]圖4為本發明另一實施例陣列基板的制造方法流程圖；
[0036]圖5為本發明又一實施例陣列基板的制造方法流程圖。
[0037]附圖標記:
[0038]10-透明基板
[0039]11-柵極
[0040]12-柵極絕緣層
[0041]13-有源層
[0042]14-源極
[0043]15-漏極
[0044]16-保護層
[0045]100-薄膜晶體管在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域
[0046]200-數據線在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域
[0047]300-柵線在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域
[0048]123-遮光層
【具體實施方式】
[0049]為了改善陣列基板的反光現象，提升顯示裝置的顯示效果，本發明實施例提供了一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置。為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，以下舉實施例對本發明作進一步詳細說明。
[0050]如圖1所示，本發明實施例提供的陣列基板，包括:
[0051]透明基板10;
[0052]位于透明基板10—側的薄膜晶體管、柵線和數據線；
[0053]位于透明基板10另一側的遮光層123，遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影。
[0054]在本發明實施例中，當陣列基板位于背光模組的出光側時，因為出光側具有遮光層，并且遮光層在透明基板上的正投影覆蓋薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影，所以，當外界有光線照射薄膜晶體管、柵線和數據線時，遮光層會吸收絕大部分的光線，這樣反射到觀看者的人眼的反射光線就大大被減弱，因而有效地改善了陣列基板的反光現象，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0055]具體的，薄膜晶體管包括:位于透明基板10出光側的柵極11，位于柵極遠離透明基板一側的柵極絕緣層12;位于柵極絕緣層遠離透明基板一側的有源層13，位于有源層遠離透明基板一側的相間隔設置的源極14和漏極15。
[0056]較優的，遮光層在透明基板上的正投影與薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影圖形相同。
[0057]需要說明的是，上述圖形相同，指的是遮光層在透明基板上的正投影在形狀、尺寸大小等方面與薄膜晶體管、柵線和數據線在透明基板上的正投影完全重合。
[0058]請參考圖2所示，圖2為遮光層在透明基板上的正投影示意圖，其中，100為薄膜晶體管在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域，200為數據線在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域，300為柵線在透明基板上的正投影所對應的遮光層區域。
[0059]其中，遮光層的具體材質不限，光反射率比較低的材質均可以用來形成遮光層，例如遮光層可以為氧化鉬遮光層、氧化鉬鈮遮光層或者黑矩陣遮光層。
[0060]當遮光層為氧化鉬遮光層或者氧化鉬鈮遮光層時，陣列基板還包括位于透明基板與遮光層之間的靜電屏蔽層。靜電屏蔽層可以消除透明基板與遮光層之間的靜電，進而提高產品品質;此外，采用氧化鉬或者氧化鉬鈮作為遮光層的材料，當陣列基板進入工藝腔室進行遮光層薄膜的沉積工序時，可以減少對設備的污染，進而提高產品的整體性能。
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