顯示部件和顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ]本發明涉及顯示部件和顯示裝置。
【背景技術】
[0002] 以往，作為構成液晶顯示裝置的主要部件的液晶面板采用以下那樣的結構。即，液 晶面板至少包括:一對玻璃制的基板;被夾持在一對基板間的液晶；和分別設置在一對基板 的內側的板面上，使液晶取向的取向膜。作為這樣的液晶面板的一個例子，已知有下述專利 文獻1中記載的液晶面板。
[0003] 現有技術文獻
[0004] 專利文獻
[0005] 專利文獻1:國際公開第2011/155133號 [0006]發明要解決的技術問題
[0007] 在上述的專利文獻1中記載有如下結構的液晶面板:在具有在支承基板上形成的 配線層、以覆蓋配線層的方式在支承基板上形成的絕緣膜和通過具有流動性的取向膜材料 固化而形成的取向膜的第一基板，在絕緣膜的表面形成有不貫通絕緣膜而凹下設置的凹陷 部，利用該凹陷部的邊緣部支承取向膜的端緣部，并且凹陷部的底從取向膜露出。由此，雖 然使非顯示區域大幅變窄，但是能夠抑制取向膜材料的擴展。
[0008] 可是，在取向膜的成膜時在絕緣膜的表面擴展的取向膜的材料，由于被凹陷部的 邊緣部支承，被限制進一步擴展，被限制了擴展的材料返回到顯示區域側。因此，在取向膜， 以由凹陷部的邊緣部形成的支承位置為起點產生膜厚局部變厚的部分、即厚膜部分。當該 在取向膜產生的厚膜部分延及顯示區域內時，在顯示區域，取向膜的膜厚產生不均勻，由 此，在液晶面板上顯示的圖像的顯示品質有可能降低。特別是在液晶顯示裝置被窄邊框化 時，存在更容易在顯示區域內形成上述厚膜部分的趨勢。
【發明內容】
[0009] 本發明是基于上述那樣的情況完成的，其目的在于實現取向膜的膜厚的均勻化。 [0010]用于解決技術問題的手段
[0011]本發明的第一顯示部件包括:基板，該基板被劃分為顯示區域和包圍上述顯示區 域的非顯示區域;絕緣膜，該絕緣膜以跨越上述顯示區域和上述非顯示區域的方式配置并 且設置在上述基板上；取向膜，該取向膜以跨越上述顯示區域和上述非顯示區域的方式配 置并且以與上述絕緣膜的表面重疊的方式設置;成膜范圍限制部，該成膜范圍限制部配置 在上述非顯示區域并且以使上述絕緣膜的表面部分地凹陷的方式設置;和取向膜材料儲存 部，該取向膜材料儲存部配置在上述非顯示區域中比上述成膜范圍限制部更靠近上述顯示 區域的位置，并且以使上述絕緣膜部分地凹陷的方式設置，并且，上述取向膜材料儲存部的 側面的至少一部分相對于上述基板的板面的法線方向形成的角度，大于上述成膜范圍限制 部的側面相對于上述法線方向形成的角度。
[0012] 在取向膜的成膜時，向基板的顯示區域供給液體狀態的取向膜的材料，該材料在 設置在基板上的絕緣膜的表面以擴展的方式流動，由此，以與絕緣膜的表面重疊的方式形 成取向膜。取向膜以跨越顯示區域和非顯示區域的方式配置，由此，沒有缺損地配置在顯示 區域的可靠性高。
[0013] 在此，在非顯示區域，以使絕緣膜的表面部分地凹陷的方式設置有成膜范圍限制 部，因此，能夠利用成膜范圍限制部避免在成膜時在絕緣膜的表面從顯示區域側向非顯示 區域側擴展的取向膜的材料與成膜范圍限制部相比向外側擴展。由此，取向膜的成膜范圍 被限制。在成膜時在絕緣膜的表面擴展的取向膜的材料，在到達成膜范圍限制部時，該材料 由成膜范圍限制部的側面支承，由此被限制進一步擴展，但是被限制了擴展的材料會返回 到顯示區域側，因此，以由上述側面進行支承的支承位置為起點在取向膜產生膜厚局部變 厚的部分、即厚膜部分。當該在取向膜產生的厚膜部分延及顯示區域內時，在顯示區域，取 向膜的膜厚產生不均勻。特別是在非顯示區域的寬度變窄的、所謂的窄邊框化進一步發展 時，存在容易在顯示區域內形成上述厚膜部分的趨勢。
[0014] 因此，在非顯示區域中比成膜范圍限制部更靠近顯示區域的位置，以使絕緣膜部 分地凹陷的方式設置取向膜材料儲存部，該取向膜材料儲存部的側面的至少一部分相對于 基板的板面的法線方向形成的角度，大于成膜范圍限制部的側面相對于該法線方向形成的 角度，因此，在取向膜材料儲存部的側面的至少一部分難以限制取向膜的材料的擴展，由 此。該材料儲存在取向膜材料儲存部內。因此，即使伴隨著取向膜的材料由于被成膜范圍限 制部的側面支承而返回到顯示區域側，在取向膜產生厚膜部分，厚膜部分的形成范圍也與 取向膜的材料儲存在取向膜材料儲存部內的量相應地變窄，因此，該厚膜部分難以延及顯 示區域內。由此，在顯示區域，取向膜的膜厚均勻，因此，能夠實現使用該顯示部件進行的顯 示的顯示品質的提高。在實現窄邊框化方面特別優選。
[0015] 作為本發明的第一顯示部件的實施方式，優選以下結構。
[0016] (1)上述取向膜材料儲存部設置成比上述成膜范圍限制部寬。這樣，能夠在取向膜 材料儲存部內更多地儲存取向膜的材料，因此，能夠在顯示區域將取向膜的膜厚更適當地 均勻化。此外，例如在通過利用光刻法對絕緣膜進行圖案化來設置取向膜材料儲存部和成 膜范圍限制部的情況下，在假設要通過使取向膜材料儲存部的深度比成膜范圍限制部深而 取得取向膜材料儲存部內的容積的情況下，與使用光掩模對絕緣膜進行曝光時的曝光量的 控制困難相比，能夠容易地設置取向膜材料儲存部。
[0017] (2)上述絕緣膜為將膜厚相對薄的無機絕緣膜和膜厚相對厚的有機絕緣膜疊層的 結構，上述取向膜材料儲存部通過至少使上述有機絕緣膜凹陷而設置。這樣，因為通過至少 使膜厚相對厚的有機絕緣膜凹陷來設置取向膜材料儲存部，所以容易確保取向膜材料儲存 部的深度、即容積，因此，能夠在取向膜材料儲存部內更多地儲存取向膜的材料，由此，能夠 在顯示區域更適當地使取向膜的膜厚均勻化。
[0018] (3)上述取向膜材料儲存部以遍及全周地包圍上述顯示區域的方式設置。這樣，能 夠遍及顯示區域的全周地實現取向膜的膜厚的均勻化。
[0019] (4)上述取向膜材料儲存部設置成:該取向膜材料儲存部的側面的至少一部分相 對于上述法線方向形成的角度的最小值，大于上述成膜范圍限制部的側面中支承上述取向 膜的材料的部位相對于上述法線方向形成的角度。這樣，取向膜的材料被取向膜材料儲存 部的側面的至少一部分支承而使其擴展被限制的情況更難以發生，因此，該材料被儲存在 取向膜材料儲存部內的可靠性高。
[0020] (5)上述取向膜材料儲存部設置成:該取向膜材料儲存部的側面的至少一部分相 對于上述法線方向形成的角度的最小值為60°~80°的范圍。在假設上述角度超過80°的情 況下，為了確保取向膜材料儲存部的容積，需要擴大基板的板面內的取向膜材料儲存部的 形成范圍，因此，難以實現使非顯示區域的寬度變窄的窄邊框化。另一方面，在假設上述角 度低于60°的情況下，在形成取向膜時取向膜的材料容易被取向膜材料儲存部的側面支承， 有可能產生該材料難以被儲存在取向膜材料儲存部內的問題。關于這一點，通過以上述角 度為60°~80°的范圍的方式設置取向膜材料儲存部，在實現窄邊框化方面優選，并且能夠 使取向膜的材料被儲存在取向膜材料儲存部內的可靠性更高。
[0021] (6)上述取向膜材料儲存部設置成:該取向膜材料儲存部的側面的至少一部分相 對于上述法線方向形成的角度的最小值為70°~80°的范圍。這樣，通過使上述角度的范圍 的下限值為70°，能夠使取向膜的材料被儲存在取向膜材料儲存部內的可靠性進一步提高。
[0022] (7)上述成膜范圍限制部設置成：該成膜范圍限制部的側面相對于上述法線方向 形成的角度的最小值，小于上述取向膜材料儲存部的側面的至少一部分相對于上述法線方 向形成的角度的最小值。這樣，能夠更加可靠地利用成膜范圍限制部的側面支承取向膜的 材料，因此，對取向膜的成膜范圍進行限制的可靠性高。
[0023] (8)上述成膜范圍限制部設置成：該成膜范圍限制部的側面相對于上述法線方向 形成的角度的最小值為50°以下。在假設上述角度超過50°的情況下，在形成取向膜時難以 利用成膜范圍限制部的側面支承取向膜的材料，有可能產生不能限制該材料的擴展的問 題。另一方面，存在成膜范圍限制部的側面相對于法線方向形成的角度越小，越容易利用該 側面支承取向膜的材料的趨勢。因此，通過以上述角度為50°以上的方式設置成膜范圍限制 部，對取向膜的成膜范圍進行限制的可靠性更高。
[0024] (9)上述取向膜材料儲存部設置成:該取向膜材料儲存部的側面整個區域相對于 上述法線方向形成的角度的最小值，大于上述成膜范圍限制部的側面中支承上述取向膜的 材料的部位相對于上述法線方向形成的角度。這樣，在取向膜的成膜時，在取向膜材料儲存 部的側面的整個區域難以支承取向膜的材料，由此，該材料更順利地被儲存在取向膜材料 儲存部內。由此，能夠在顯示區域更適當地使取向膜的膜厚均勻化。
[0025] (10)上述取向膜材料儲存部設置成:在從上述法線方向看時呈包括在中途彎曲的 彎曲部的平面形狀，并且，上述彎曲部的側面相對于上述法線方向形成的角度的最小值，大 于上述成膜范圍限制部的側面中支承上述取向膜的材料的部位相對于上述法線方向形成 的角度。這樣，在取向膜的成膜時，在取向膜材料儲存部中的彎曲部的側面，難以支承取向 膜的材料，由此，該材料被儲存在取向膜材料儲存部內。因此，即使例如取向膜材料儲存部 中除彎曲部以外的部分的側面相對于法線方向形成的角度與成膜范圍限制部的側面相對 于法線方向形成的角度為相同程度，也能夠使取向膜的材料儲存在取向膜材料儲存部內。 當在絕緣膜設置包括這樣的彎曲部的取向膜材料儲存部時，例如在利用光刻法對絕緣膜進 行圖案化的情況下，能夠使對絕緣膜的曝光量在取向膜材料儲存部的預定形成部位和成膜 范圍限制部的預定形成部位相同。由此，能夠容易地設置取向膜材料儲存部和成膜范圍限 制部。
[0026] 本發明的第二顯示部件包括:基板，該基板被劃分為顯示區域和包圍上述顯示區 域的非顯示區域;絕緣膜，該絕緣膜以跨越上述顯示區域和上述非顯示區域的方式配置并 且設置在上述基板上；取向膜，該取向膜以跨越上述顯示區域和上述非顯示區域的方式配 置并且以與上述絕緣膜的表面重疊的方式設置;成膜范圍限制部，該成膜范圍限制部配置 在上述非顯示區域并且以從上述絕緣膜的表面突出的方式設置;和取向膜材料儲存部，該 取向膜材料儲存部配置在上述非顯示區域中比上述成膜范圍限制部更靠近上述顯示區域 的位置，并且以使上述絕緣膜部分地凹陷的方式設置。
[0027] 在取向膜的成膜時，向基板的顯示區域供給液體狀態的取向膜的材料，該材料在 設置在基板上的絕緣膜的表面以擴展的方式流動，由此，以與絕緣膜的表面重疊的方式形 成取向膜。取向膜以跨越顯示區域和非顯示區域的方式配置，由此，沒有缺損地配置在顯示 區域的可靠性高。
[0028] 在此，在非顯示區域，以從絕緣膜的表面突出的方式設置有成膜范圍限制部，因 此，能夠利用成膜范圍限制部避免在成膜時在絕緣膜的表面從顯示區域側向非顯示區域側 擴展的取向膜的材料與成膜范圍限制部相比向外側擴展。由此，取向膜的成膜范圍被限制。 在成膜時在絕緣膜的表面擴展的取向膜的材料，由于從絕緣膜的表面突出的成膜范圍限制 部可以說是作為堤壩發揮作用而被限制進一步擴展，但是被限制了擴展的材料會返回到顯 示區域側，因此，以由上述成膜范圍限制部進行限制的限制位置為起點在取向膜產生膜厚 局部變厚的部分、即厚膜部分。當該在取向膜產生的厚膜部分延及顯示區域內時，在顯示區 域，取向膜的膜厚產生不均勻。特別是在非顯示區域的寬度變窄的、所謂的窄邊框化進一步 發展時，存在容易在顯示區域內形成上述厚膜部分的趨勢。
[0029]因此，在非顯示區域中比成膜范圍限制部更靠近顯示區域的位置，以使絕緣膜部 分地凹陷的方式設置取向膜材料儲存部，取向膜的材料被儲存在取向膜材料儲存部內，因 此，即使伴隨著取向膜的材料由于成膜范圍限制部而返回到顯示區域側，在取向膜產生厚 膜部分，厚膜部分的形成范圍也與取向膜的材料被儲存在取向膜材料儲存部內的量相應地 變窄，因此，該厚膜部分難以延及顯示區域內。由此，在顯示區域，取向膜的膜厚均勻，因此， 能夠實現使用該顯示部件進行的顯示的顯示品質的提高。在實現窄邊框化方面特別優選。
[0030] 本發明的顯示裝置包括:上述的第一顯示部件或第二顯示部件；相對于上述第一 顯示部件或上述第二顯示部件空出間隔地呈相對狀貼合的對置顯示部件;被夾持在上述第 一顯示部件或上述第二顯示部件與上述對置顯示部件之間的液晶；和包圍上述液晶并且設 置在上述第一顯示部件或上述第二顯示部件與上述對置顯示部件之間而將上述液晶密封 的密封部，上述成膜范圍限制部配置在比上述密封部更靠近上述顯示區域的位置，并且以 遍及全周地包圍上述顯示區域的方式設置。
[0031] 根據這樣的顯示裝置，通過在第一顯示部件或第二顯示部件所具備的取向膜材料 儲存部內儲存取向膜的材料，在取向膜可能產生的厚膜部分難以延及顯示區域內，因此，在 顯示區域，取向膜的膜厚均勻，由此能夠實現該顯示裝置的顯示品質的提高。通過利用配置 在比密封部更靠近顯示區域的位置并且以遍及全周地包圍顯示區域的方式設置的成膜范 圍限制部來限制取向膜的成膜范圍，難以產生取向膜與密封部重疊配置的情況。由此，難以 產生對密封部的密封性能產生不良影響的情況，因此，難以發生水分從外部進入液晶內等 情況。
[0032]作為本發明的顯示裝置的實施方式，優選以下結構。
[0033] (1)在上述第一顯示部件或上述第二顯示部件、或者上述對置顯示部件的上述液 晶側設置有用于顯示圖像的顯示元件，上述顯示元件包含由氧化物半導體構成的半導體 膜。這樣，能夠利用顯示元件在顯示區域顯示圖像。構成顯示元件中所包含的半導體膜的氧 化物半導體，當被暴露于水分時，其電特性容易發生變化，但是如上所述，難以發生取向膜 與密封部重疊配置的情況，由此，水分難以從外部進入液晶內，因此，氧化物半導體的電特 性難以發生變化，由此，顯示元件難以發生性能劣化。
[0034] (2)上述氧化物半導體含有In(銦）、Ga(鎵）、Zn(鋅)和氧(0)。這樣，含有In(銦）、Ga (鎵）、Zn(鋅)和氧(0)的氧化物半導體的電特性難以發生變化，因此，顯示元件難以發生性 能劣化。
[0035] (3)上述氧化物半導體具有結晶性。這樣，含有In(銦）、Ga(鎵）、Zn(鋅)和氧(0)并 且具有結晶性的氧化物半導體的電特性難以發生變化，因此，顯示元件難以發生性能劣化。 [0036]發明效果
[0037] 根據本發明，能夠實現取向膜的膜厚的均勻化。
【附圖說明】
[0038] 圖1是表示本發明的實施方式1的安裝有驅動器的液晶面板、柔性基板和控制電路 基板的連接結構的概略平面圖。
[0039] 圖2是表示液晶顯示裝置的沿長邊方向的截面結構的概略截面圖。
[0040] 圖3是表示液晶面板整體的截面結構的概略截面圖。
[0041 ]圖4是表示液晶面板的顯示區域的截面結構的概略截面圖。
[0042] 圖5是表示構成液晶面板的陣列基板的顯示區域的像素的平面結構的平面圖。
[0043] 圖6是圖5的vi-vi線截面圖。
[0044] 圖7是陣列基板的平面圖。
[0045] 圖8是將圖7的一部分(配置有驅動器等的一側的端部)放大的平面圖。
[0046] 圖9是圖7的ix-ix線截面圖。
[0047] 圖10是將圖9的一部分(成膜范圍限制部和取向膜材料儲存部)放大的截面圖。
[0048] 圖11是表示陣列基板的制造工序中的使用半色調掩模將有機絕緣膜曝光的工序 的與圖9相同的截面圖。
[0049] 圖12是表示在陣列基板的制造工序中，向顯示區域供給了陣列基板側取向膜的材 料的狀態的截面圖。
[0050] 圖13是本發明的實施方式2的陣列基板的放大平面圖。
[0051 ] 圖14是圖13的xiv-xiv線截面圖。
[0052] 圖15是圖13的xv-xv線截面圖。
[0053]圖16是表示本發明的實施方式3的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0054] 圖17是表示本發明的實施方式4的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0055] 圖18是本發明的實施方式5的陣列基板的放大平面圖。
[0056] 圖19是表示本發明的實施方式6的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0057] 圖20是表示本發明的實施方式7的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0058] 圖21是表示本發明的實施方式8的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0059] 圖22是表示本發明的實施方式9的陣列基板的制造工序中的使用半色調掩模將有 機絕緣膜曝光的工序的截面圖。
[0060] 圖23是本發明的實施方式10的陣列基板的放大平面圖。
[0061] 圖24是本發明的實施方式11的陣列基板的放大平面圖。
[0062] 圖25是表示本發明的實施方式12的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
[0063] 圖26是表示本發明的實施方式13的液晶面板的端部的截面結構的截面圖。
【具體實施方式】 [0064] <實施方式1>
[0065]使用圖1至圖12對本發明的實施方式1進行說明。在本實施方式中，對液晶顯示裝 置10進行例示。另外，在各圖的一部分中表示出了X軸、Y軸和Z軸，以各軸方向成為在各圖中 表示的方向的方式進行了繪圖。此外，關于上下方向，以圖2至圖4等為基準，且以該圖上側 為表側并且以該圖下側為里側。
[0066] 如圖1和圖2所示，液晶顯示裝置10包括:液晶面板（顯示裝置、顯示面板）11，其具 有能夠顯示圖像并且配置在中央側的顯示區域(有效區域)AA和以包圍顯示區域AA的方式 配置在外周側的非顯示區域(非有效區域)NAA;驅動液晶面板11的驅動器(面板驅動部)21; 從外部對驅動器21供給各種輸入信號的控制電路基板(外部的信號供給源）1