一種曝光機及曝光方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種曝光機及曝光方法。
【背景技術】
[0002]在液晶面板制造工藝中主要包含曝光、刻蝕、顯影等工藝過程，其中曝光的過程最為主要。
[0003]在曝光過程中，不但要求可以精確的曝光出圖層圖形(Pattern)，而且還要求消耗的時間少，以提高液晶面板制作效率。
[0004]如圖1所示，目前使用的水平式單板曝光機裝置結構示意圖。由于水平式曝光機中的掩模板3 (Mask)水平放置，導致當污染物例如微粒(Par t i c 1 e)落在掩模板上時，污染物不容易自行脫落，從而對曝光精度等造成影響。并且，由于掩模板水平放置，可導致掩模板出現形變量，例如由于重力原因導致掩模板中部向下凹陷，從而影響圖形曝光的準確性。
【發明內容】
[0005]本發明提供一種曝光機及曝光方法，可確保曝光的準確性。
[0006]本發明提供方案如下:
[0007]本發明實施例提供了一種曝光機，包括:
[0008]用于傳送及固定待曝光基板的承載臺；
[0009]用于固定掩模板的固定結構，被所述固定結構固定的掩模板與水平面之間呈現一角度，以用于實現待曝光基板的曝光處理。
[0010]優選的，所述曝光機還包括:
[0011]用于向所述掩模板發送光線以實現對待曝光基板進行曝光處理的曝光光源。
[0012]優選的，所述角度為90°。
[0013]優選的，所述承載臺與待曝光基板接觸的一側設置有用于吸附待曝光基板的真空吸孔結構。
[0014]優選的，所述承載臺與待曝光基板接觸的一側凹凸不平。
[0015]優選的，所述承載臺與待曝光基板接觸的一側涂覆有導電碳涂層。
[0016]優選的，被承載臺承載的待曝光基板與所述掩模板平行。
[0017]優選的，被承載臺承載的待曝光基板呈水平狀態；
[0018]所述曝光機還包括:
[0019]用于將經過所述掩模板的光線導向水平狀態的待曝光基板的第一導光器件。
[0020]優選的，所述曝光機包括多個承載臺，以用于分別承載多個待曝光基板，所述多個承載臺按一預設順序排布；
[0021]所述曝光機還包括:
[0022]用于將經過所述掩模板的光線導向所述多個承載臺分別承載的多個待曝光基板的第二導光器件。
[0023]優選的，所述曝光機內設置有第一承載臺、第二承載臺、第三承載臺、第四承載臺；
[0024]所述第二導光器件包括第一棱鏡、第二棱鏡、第三棱鏡、第四棱鏡;其中:
[0025]所述第一棱鏡鍍有1/4透射3/4反射的光學薄膜，用于將經過所述掩模板的第一光線中的1/4光線透射至所述第一承載臺承載的第一待曝光基板，將所述第一光線中的3/4光線反射至所述第二棱鏡；
[0026]所述第二棱鏡鍍有2/3透射1/3反射的光學薄膜，用于將所述第一棱鏡反射的光線中的2/3光線透射至第二承載臺承載的第二待曝光基板，將第一棱鏡反射的光線中的1/3光線透射至第三棱鏡；
[0027]所述第三棱鏡鍍有半透半反射的光學薄膜，用于將所述第二棱鏡透射的光線中的一半光線反射至第三承載臺承載的第三待曝光基板，將第二棱鏡反射的光線中的一半透射至第四棱鏡；
[0028]所述第四棱鏡鍍有全反射膜，用于將第三棱鏡透射的光線全部反射至第四承載臺承載的第四待曝光基板。
[0029]本發明實施例還提供了一種曝光方法，該曝光方法具體可以應用于上述本發明實施例提供的曝光機中；
[0030]所述方法包括:
[0031]使掩模板與水平面之間呈現一角度并固定所述掩模板；
[0032]利用掩模板對承載臺承載的待曝光基板進行曝光處理。
[0033]從以上所述可以看出，本發明提供的曝光機及曝光方法，通過設置用于傳送及固定待曝光基板的承載臺；用于固定掩模板的固定結構，被所述固定結構固定的掩模板與水平面之間呈現一角度，以用于實現待曝光基板的曝光處理。從而可避免掩模板被污染，確保曝光工藝的精度和準確性。
【附圖說明】
[0034]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0035]圖1為現有技術示意圖；
[0036]圖2為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖一；
[0037]圖3為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖二；
[0038]圖4為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖三；
[0039]圖5為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖四；
[0040]圖6為本發明實施例提供的承載臺結構示意圖；
[0041]圖7為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖五；
[0042]圖8為本發明實施例提供的曝光機結構示意圖六；
[0043]圖9為本發明實施例提供的曝光方法流程示意圖。
【具體實施方式】
[0044]為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例的附圖，對本發明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本發明的實施例，本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0045]除非另作定義，此處使用的技術術語或者科學術語應當為本發明所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本發明專利申請說明書以及權利要求書中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。同樣，“一個”或者“一”等類似詞語也不表示數量限制，而是表示存在至少一個。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也相應地改變。
[0046]本發明實施例提供了一種曝光機，如圖2所示，包括:
[0047]用于傳送及固定待曝光基板1的承載臺2;
[0048]用于固定掩模板3的固定結構4，被固定結構4固定的掩模板3與水平面之間呈現一角度，以用于實現待曝光基板1的曝光處理。
[0049]本發明實施例所提供的曝光機，將用于曝光工藝的掩模板3與水平面呈一角度即傾斜放置，可使污染物例如微粒(Particle)落在掩模板上時，污染物可自行脫落而不會留在掩模板3上，從而可避免掩模板被污染，確保曝光工藝的精度和準確性。
[0050]上述本發明實施例所涉及的掩模板3與水平面之間的角度，可基于實際生產需要設定，只要能夠確保污染物由于自身重力等原因實現自行脫落即可。在一具體實施例中，該角度具體可為90°，即本發明實施例中掩模板3可豎直設置。豎直設置的掩模板3，即可避免其表面出現污染物殘留的情況，還可以避免掩模板3本身發生形變，從而可進一步確保曝光工藝的精度和準確性。
[0051]本發明實施例所涉及的掩模板3，在非工作狀態時，可與現有技術相同，即呈水平狀態放置，并可以被一保護裝置遮擋保護。當需要使用掩模板3時，可通過人工手動或者在一可動器件的帶動下，使掩模板3處于傾斜或豎直狀態，并被固定結構4固定。另外，掩模板3也可在固定結構4的帶動下，在水平與豎直狀態之間切換狀態。
[0052]為了實現曝光處理，曝光光源5是比不可少的器件，因此，本發明實施例所提供的曝光機中，如圖3、4所示，還可以包括:
[0053]用于向掩模板3發送光線以實現對待曝光基板1進行曝光處理的曝光光源5。
[0054]該曝光光源5能夠提供平行均勻的光線，且其所照射的光線可垂直于掩模板3，從而可確保曝光處理的精度。本發明實施例中，并不限定該曝光光源5的類型。
[0055]為了使經過掩模板3的光學照射在待曝光基板1上，本發明實施例中，被承載臺2承載的待曝光基板1具體可與掩模板3平行設置。這種平行，可基于承載臺2或者待曝光基板1與水平面之間的角度，與掩模板3與水平面之間的角度相同來實現。
[0056]如圖2、3所示，當掩模板3被固定結構4固定后為豎直狀態(S卩90°設置)時，承載臺2(承載有待曝光基板1)也為豎直設置。這樣，通過使承載臺2在縱向上移動，可使承載臺2承載的待曝光基板1移動至掩模板3對應范圍之內，以利用經過掩模板3的光線實現曝光處理。
[0057]圖2、3所示實施例可證明，本發明所提供的曝光機具體可為直立式曝光機。
[0058]圖2、3所示實施例可存在一種衍生變形，如圖4所示，即承載臺2本身為水平設置，但待曝光基板1為豎直設置，這樣也可以實現待曝光基板1與掩模板3之間為平行設置。
[0059]在本發明的另一具體實施例中，如圖5所示，掩模板3仍可為豎直設置，