光刻裝置和物品制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種光刻裝置和一種物品制造方法。
【背景技術】
[0002]作為用于制造諸如半導體設備這樣的設備的技術，已知一種在基板上形成壓印材料圖形的壓印技術。日本專利申請公開N0.2011-210992介紹了一種集群壓印裝置，該集群壓印裝置在生產率方面是有利的，這是因為多個壓印單元并行地進行壓印處理。日本專利申請公開N0.2011-210992的壓印裝置包括傳送機構，該傳送機構將基板或原版傳送到每個壓印單元。
[0003]當進行壓印處理時，通過旋涂等可以在基板的對其供給壓印材料的表面上形成粘著材料(粘著劑或粘性材料)膜。帶有粘著材料膜的一組基板可以傳送到集群壓印裝置。在壓印裝置中，對所述多個基板的壓印處理并行地進行。
[0004]在日本專利申請公開N0.2011-210992中介紹的壓印裝置中，多個壓印單元布置成列。另外，傳送機構沿所述列布置。如果在具有上述布置的壓印裝置中并行地進行多個壓印處理，從生產率的觀點來看，涉及并行處理的多個基板和多個模具需要高效地傳送。不僅是壓印裝置，使用原版的任何其它集群光刻裝置也具有相同的問題。
【發明內容】
[0005]本發明例如提供了一種在生產率方面很有利的光刻裝置。
[0006]本發明在其第一方面提供了一種光刻裝置，所述光刻裝置包括原版傳送路線、基板傳送路線和多個圖形形成設備，每個圖形形成設備被構造用于使用原版在基板上進行圖形形成，其中，所述多個圖形形成設備布置成兩列，所述基板傳送路線在所述兩列之間并沿所述兩列提供，以及所述原版傳送路線提供在兩列中的每列上，在兩列原版傳送路線之間并沿著兩列原版傳送路線布置兩列所述圖形形成設備。
[0007]本發明在其第二方面提供了一種物品制造方法，該物品制造方法包括:使用根據第一方面的光刻裝置在基板上進行圖形形成；以及處理已經過圖形形成的基板，以制造物品Ο
[0008]參照附圖通過下文對示例性實施例的描述，本發明的其他特征將得以體現。
【附圖說明】
[0009]圖1是示出了壓印單元的布置的視圖；
[0010]圖2是用于解釋分配器的布置的視圖；
[0011]圖3不出了用于解釋壓印處理的順序的視圖；
[0012]圖4不出了用于解釋壓印處理的順序的視圖；
[0013]圖5是用于解釋目標(shot)區域的視圖；
[0014]圖6是用于解釋集群壓印裝置的視圖；
[0015]圖7A至圖7C是用于解釋原版的傳送的視圖；
[0016]圖8A至圖8C是用于解釋原版的傳送的視圖；
[0017]圖9A至圖9C是用于解釋原版的傳送的視圖；
[0018]圖10是用于解釋基板堆垛器(基板儲存裝置)的視圖；
[0019]圖11是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0020]圖12A和圖12B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0021]圖13A和圖13B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0022]圖14A和圖14B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0023]圖15A和圖15B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0024]圖16A到圖16D是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0025]圖17A和圖17B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0026]圖18A和圖18B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0027]圖19A和圖19B是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0028]圖20A和圖20B是用于解釋基板的裝載的視圖；
[0029]圖21是用于解釋基板的裝載的視圖；
[0030]圖22是用于解釋基板的卸載的視圖；
[0031]圖23是用于解釋基板的傳送的視圖；
[0032]圖24是用于解釋根據第一實施例的原版傳送路線的視圖；
[0033]圖25是用于解釋根據第二實施例的原版傳送路線的視圖；以及
[0034]圖26是用于解釋根據第三實施例的原版傳送路線的視圖。
【具體實施方式】
[0035][第一實施例]
[0036]參照圖1和圖2，將對本發明中用作光刻裝置的壓印裝置進行說明。在這里將對使用通過紫外線光(UV光)的照射而使樹脂(也稱為壓印材料或抗蝕劑)固化的UV光固化類壓印裝置的實例進行說明。然而，本發明也可應用到通過在其他波長范圍內的光的照射使樹脂固化的壓印裝置，或通過其他能量(例如熱量)使樹脂固化的壓印裝置。另外，本發明可以推廣至進行在涂覆基板的抗蝕劑上形成圖形的光刻處理的例如曝光裝置的集群光刻裝置。
[0037]根據本實施例的壓印單元(圖形形成設備)100使用原版(模具)通過重復壓印處理對基板(晶片)的多個目標區域進行圖形形成。在一個壓印處理中，原版壓靠樹脂(壓印材料)，樹脂在這種狀態中固化，從而在基板的一個目標區域中形成圖形。
[0038]原版5的圖形轉印到基板1，從而在基板1的表面層(圖形形成層)上形成與原版5的圖形相對應的單元圖形。基板臺2保持基板1，并且使其沿相互垂直的方向運動。基板臺2包括保持基板的細調運動臺2a以及支撐細調運動臺2a的粗調運動臺2b。基部框架4保持和定位基板臺2。三維圖形形成在原版5的表面上。當基板1上的樹脂(抗蝕劑)接觸原版5時，原版5的圖形轉印到基板1上的樹脂。原版臺5a進行沿豎直方向驅動原版并使原版5與基板1上的樹脂接觸的操作。
[0039]UV光產生單元(UV光源)6經由原版5用UV光6a照射樹脂，以使樹脂固化。UV光產生單元6例如包括:產生i射線或g射線的鹵素燈這樣的光源、以及使由光源產生的光集中并成形的光學系統。分配器7以小液滴的形式分配樹脂，從而用預定量的樹脂涂覆基板1的表面。儲罐8儲存未固化的樹脂，并經由管9將其供給至分配器7。
[0040]如圖2所示，運動機構10使分配器7在分配位置和退回位置(維護位置)之間運動。在正常分配操作中，分配器7位于分配位置。當進行維護時，分配器7運動至退回位置(維護位置)，以清潔或更換分配器。對準用顯微鏡11是在分配器7將樹脂供應(分配或施加)到基板1上后對準原版5和基板1上的圖形位置的顯微鏡。對準用顯微鏡11測量提供在原版5上的對準標記與基板1上的對準標記之間的重疊，從而使原版5和基板1相互對準。基部12支承和固定分配器7、UV光產生單元6等。壓印裝置的單元由控制單元C控制。
[0041]下面參照圖3和圖4，對壓印處理的順序進行說明。在步驟3a中，基板1放置于基板臺2上。在步驟3b中，基板臺2開始使基板1運動到分配樹脂的分配器7下方的地點。在步驟3c中，分配器7用預定量的樹脂涂覆基板1的表面。在步驟3d中，原版臺5a使原版5向下運動。在原版5與基板1上的樹脂接觸的狀態中，對準用顯微鏡11使原版側的對準標記和基板側的對準標記重疊，從而調整原版和基板的相對位置。
[0042]在圖4所示的步驟e中，原版臺5a使原版5向下朝基板1運動，并使原版5壓靠基板1上的樹脂，從而轉印圖形。在步驟f中，UV光產生單元6從上方發射UV光6a，并經由原版5用UV光6a照射樹脂。未固化的樹脂在此時固化。在步驟g中，當原版5向上移除和退回時，形成有圖形的樹脂層形成于基板1上，壓印處理結束。進行上述步驟3a至4g，從而對如圖5所示的以目標編號1、2、3……的順序形成于基板1上的多個目標區域重復壓印處理。
[0043]下面將參照圖6至圖24，對根