布機涂布實施例1中使用的 感光性樹脂組合物ULl以使固化后的膜厚成為0. 4 μ m，在90°C進行預烘烤10分鐘，形成了 膜厚y為〇· 5 μ m的涂膜B。對于該疊層涂膜，使用掩模套準器PEM-6M (工二才 >光學（株） 制），隔著光掩模以200mJ/cm2的曝光量曝光紫外線。
[0221] 接下來，用氫氧化四甲銨的0. 5質量％水溶液的堿性顯影液進行顯影，接著進行 純水洗滌，從而獲得了圖案形成基板。將所得的圖案形成基板在熱風爐中在230°C保持30 分鐘進行固化，從而獲得了疊層樹脂BM基板。
[0222] (實施例 18)
[0223] 代替遮光材分散液Bkl而使用遮光材分散液Bk2,除此以外，與實施例1同樣地操 作，獲得了相當于非感光性樹脂組合物A的非感光性樹脂組合物LL8。使用該非感光性樹脂 組合物LL8進行涂布以使固化后的膜厚成為I. 0 μ m，除此以外，與實施例1同樣地操作，獲 得了疊層樹脂BM基板。
[0224] (實施例 19)
[0225] 代替遮光材分散液Bk3而使用遮光材分散液Bk5,除此以外，與實施例18同樣地操 作，獲得了疊層樹脂BM基板。
[0226] (實施例 20)
[0227] 在作為臨時基板的無堿玻璃（AN100 ;旭硝子（株）制）基板上，通過狹縫涂布機涂 布聚酰亞胺樹脂A-4的溶液，利用使室內壁溫度為60°C的減壓干燥機，進行減壓直至40Pa 來使溶劑干燥，在熱風爐中在140°C加熱處理20分鐘，進一步在氧濃度3%的熱風爐中在 300°C加熱處理30分鐘，在臨時基板玻璃上形成了膜厚10 μ m的聚酰亞胺樹脂膜。
[0228] 使所得的聚酰亞胺樹脂膜上作為基板，除此以外，與實施例3同樣地操作，獲得了 疊層樹脂BM基板。然后，將308nm的激光照射于聚酰亞胺樹脂膜與臨時基板的界面，將疊 層樹脂BM基板從臨時基板剝離。各種評價中，代替實施例1~19的厚度0. 7mm的無堿玻 璃而使用聚酰亞胺樹脂膜來進行。
[0229] (實施例 21)
[0230] 將所得的圖案形成基板在熱風爐中在245°C保持，除此以外，與實施例3同樣地操 作，獲得了疊層樹脂BM基板。
[0231] (實施例 22)
[0232] 將所得的圖案形成基板在熱風爐中在260°C保持，除此以外，與實施例3同樣地操 作，獲得了疊層樹脂BM基板。
[0233] (實施例 23)
[0234] 將所得的圖案形成基板在熱風爐中在275°C保持，除此以外，與實施例3同樣地操 作，獲得了疊層樹脂BM基板。
[0235] (實施例 24)
[0236] 將所得的圖案形成基板在熱風爐中在290°C保持，除此以外，與實施例3同樣地操 作，獲得了疊層樹脂BM基板。
[0237] (比較例1)
[0238] 在作為基板的無堿玻璃（1737 ; 3 -二y夕制；厚度0. 7mm)基板上，利用旋轉涂 布機涂布感光性樹脂組合物ULl以使固化后的膜厚成為1. 2 μ m，在90°C進行預烘烤10分 鐘，形成了膜厚1. 5 μ m的涂膜。對于該涂膜，使用掩模套準器PEM-6M(工二才 >光學（株） 制），隔著光掩模以200mJ/cm2的曝光量曝光紫外線。
[0239] 接下來，用氫氧化四甲銨的0. 5質量％水溶液的堿性顯影液進行顯影，接著進行 純水洗滌，從而獲得了圖案形成基板。將所得的圖案形成基板在熱風爐中在230°C保持30 分鐘進行固化，從而獲得了疊層樹脂BM基板。
[0240] (比較例2)
[0241] 作為基板，使用聚酰亞胺樹脂膜，除此以外，與比較例1同樣地操作，獲得了疊層 樹脂BM基板。
[0242] <評價結果>
[0243] 將由實施例1~24以及比較例1和2制作的黑色樹脂組合物的組成和制作的疊 層樹脂BM基板的評價結果示于表1中。
[0244] 由表1的結果明確了，由實施例1~24制作的疊層樹脂BM基板都具有適度的膜 厚和充分的OD值，并且疊層樹脂BM的錐形寬度小，反射率低，因此適合于抑制外光的影響， 為尚性能的置層樹脂BM基板。
[0245] [表 1-1]
[0246]
[0249] (濾色器基板的制作）
[0250] 將綠顏料（PG36 ;44g)、黃顏料（PY138 ;19g)、聚酰亞胺樹脂A-2 (47g)和γ - 丁內 酯（890g)加入至罐中，利用均質混合機（特殊機化制）攪拌1小時，獲得了 G顏料預分散 液Gl。然后，在填充有0· 40mm Φ氧化鋯珠（卜U七7 Λ珠；東U (株）制）85 %的戴諾磨 KDL (シ> V少工 > 夕一7。歹4七' 只制）中供給預分散液Gl，以旋轉速度I Im/秒進行分散 3小時，獲得了固體成分濃度7質量％、顏料/聚合物（質量比）=90/10的G顏料分散液 G1。將G顏料分散液Gl用聚酰亞胺樹脂A-2和溶劑進行稀釋，獲得了綠色樹脂組合物。
[0251] 代替綠顏料和黃顏料而加入紅顏料（PR254 ;63g)，同樣地操作而獲得了固體成分 濃度7質量％、顏料/聚合物（質量比）=90/10的R顏料分散液Rl。將R顏料分散液Rl 用聚酰亞胺樹脂A-2和溶劑進行稀釋，獲得了紅色樹脂組合物。
[0252] 代替綠顏料和黃顏料而加入藍顏料（PR15 :6 ;63g)，同樣地操作而獲得了固體成 分濃度7質量％，顏料/聚合物（質量比）=90/10的B顏料分散液Bl。將B顏料分散液 Bl用聚酰亞胺樹脂A-2和溶劑進行稀釋，獲得了藍色樹脂組合物。
[0253] 在由實施例1~24以及比較例1和2制作的疊層樹脂BM基板各自之上，涂布紅 色糊料以使干燥后膜厚成為2.0 μπι并進行預烘烤，形成了聚酰亞胺前體紅色著色膜。使用 正型光致抗蝕劑，通過與上述同樣的手段，形成紅色像素，加熱至290Γ來進行熱固化。同樣 地操作來涂布綠色糊料而形成綠像素，加熱至290°C來進行熱固化。同樣地操作來涂布藍色 糊料而形成藍像素，加熱至290°C來進行熱固化。
[0254] (液晶顯示裝置的制作）
[0255] 將由實施例1~19和實施例21~24和比較例1獲得的各個濾色器基板用中性 洗劑進行洗滌后，通過印刷法來涂布包含聚酰亞胺樹脂的取向膜，使用電熱板在250°C加熱 10分鐘。加熱后的膜厚為0.07 μπι。然后，將各個濾色器基板進行摩擦處理，通過分配法來 涂布密封劑，使用電熱板在90°C加熱10分鐘。另一方面，在玻璃基板上形成有TFT陣列的 基板也同樣地用中性洗劑洗滌后，涂布取向膜，加熱。然后，散布直徑5. 5 μπι的球狀隔離 物，與涂布有密封劑的各個濾色器基板重疊，在烘箱中一邊加壓一邊在160°C加熱90分鐘， 使密封劑固化而獲得了單元（cell)。將各個單元在120°C的溫度、13. 3Pa的壓力下放置4 小時，接著，在氮氣中放置〇. 5小時后，再次在真空下填充液晶化合物。液晶化合物的填充 為將單元放入室中，在室溫減壓至13. 3Pa的壓力，然后將液晶注入口浸沒于液晶中，使用 氮氣恢復至常壓來進行。液晶填充后，利用紫外線固化樹脂來將液晶注入口封口。接下來， 將偏振板粘貼于單元的2塊玻璃基板的外側，完成了單元。進一步，將所得的單元模塊化， 完成了液晶顯示裝置。
[0256] 觀察所得的液晶顯示裝置的結果是，在具備由實施例1~19和實施例21~24獲 得的疊層樹脂BM基板的液晶顯示裝置中，疊層樹脂BM的錐形寬度小，反射率也低，因此即 使在照射外光的情況下顯示特性也良好。對于具備由實施例17獲得的疊層樹脂BM基板的 液晶顯示裝置，雖然大致良好，但由于疊層樹脂BM的圖案為倒山形形狀，因此觀察到若干 不均勻那樣的圖案。此外，由實施例24獲得的疊層樹脂BM的密合性略微差。另一方面，在 具備由比較例1獲得的樹脂BM基板的液晶顯示裝置中，成為倒錐形，反射率也高，因此在照 射外光的情況下觀察到如黑顯示浮現那樣，顯示品質顯著地差。
[0257] (發光器件的制作）
[0258] 與實施例20同樣地操作，在臨時基板上形成了聚酰亞胺樹脂膜。在該聚酰亞胺樹 脂膜上，使用感光性聚酰亞胺樹脂，通過光刻法形成了絕緣膜。在絕緣膜上，將鋁濺射而成 膜鋁薄膜之后，通過利用光刻法進行的圖案形成，在沒有絕緣膜的開口部形成了背面電極 層。在背面電極層上，通過真空蒸鍍法，成膜三（8-羥基喹啉）鋁（以下，" Alq3"）的層，形 成了電子輸送層。在電子輸送層上，通過真空蒸鍍法，成膜在Alq3中摻雜有二氰基亞甲基 吡喃、喹吖啶酮和4,4'_雙（2, 2-二苯基乙烯基）聯苯的物質的層，形成了發光層。在發光 層上，通過真空蒸鍍法，成膜Ν，Ν' -二苯基-N，Ν' -雙（α -萘基）-1，1 ' -聯苯-4, 4' -二 胺的層，形成了空穴輸送層。最后，將作為透明電極的ITO用濺射法在整面成膜ITO薄膜， 制作出有機EL元件。
[0259] 在具備由實施例20獲得的疊層樹脂BM基板的濾色器基板和具備由比較例2獲得 的疊層樹脂BM基板的濾色器基板各個之上，使上述有機EL元件對置，通過封止劑來貼合 后，對各個臨時基板照射308nm的激光并剝離，完成了發光器件。
[0260] 具備實施例20的疊層樹脂BM基板的發光器件輕量并且為柔性，并且疊層樹脂BM 的錐形寬度小，反射率也低，因此即使在照射外光的情況下顯示特性也良好。另一方面，具 備比較例2的疊層樹脂BM基板的發光器件輕量并且柔性，并且疊層BM為倒錐形，反射率 高，因此在照射外光的情況下觀察到如黑顯示浮現那樣，顯示品質顯著地差。
[0261] 符號的說明
[0262] 1:非感光性樹脂組合物A
[0263] 2:涂膜 A
[0264] 3 :樹脂組合物B
[0265] 4:涂膜 B
[0266] 5 :光掩模
[0267] 10 :基板
[0268] 11:疊層樹脂BM
[0269] 20 :濾色器基板
[0270] 21 :低光密度層
[0271] 22:高光密度層
[0272] 23 :像素
[0273] 24 :像素
[0274] 25 :像素
[0275] 26 :外涂膜
[0276] 28:透明電極
[0277] 29:有機 EL 層
[0278] 30:背面電極層
[0279] 31 :絕緣膜
[0280] 32 :基板
[0281] 33:取出電極
[0282] 40 :有機EL元件
[0283] 產業可利用性
[0284] 通過本發明的制造方法制造的樹脂BM基板可以在使用了冷陰極管或LED等光源 的顯示裝置或液晶顯示裝置用濾色器基板或液晶顯示裝置中利用。
【主權項】
1. 一種疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，其包括下述工序： 將基板上的、含有遮光材的非感光性樹脂組合物A的涂膜A與含有遮光材的樹脂組合 物B的涂膜B的疊層進行一并曝光的工序， 將曝光后的所述疊層進行顯影的工序。2. 根據權利要求1所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述涂膜B中的遮光材的 含有率Μ相對于所述涂膜A中的遮光材的含有率L的比率M/L為1. 1以上。3. 根據權利要求1或2所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述樹脂組合物B為 感光性的樹脂組合物。4. 根據權利要求1~3的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述非感光 性樹脂組合物A含有聚酰亞胺樹脂。5. 根據權利要求1~4的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，其進一步包 括下述工序： 在基板上，涂布非感光性樹脂組合物A，獲得涂膜A的工序， 在涂膜A上，涂布樹脂組合物B，獲得涂膜B的工序。6. 根據權利要求1~5的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，其進一步包 括下述工序： 將所述涂膜A進行干燥或加熱的工序， 將所述涂膜B進行干燥或加熱的工序。7. 根據權利要求1~6的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，其進一步包 括下述工序： 將所述疊層樹脂黑矩陣進行加熱的工序。8. 根據權利要求7所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，將所述疊層樹脂黑矩陣進 行加熱的工序中的加熱溫度為230°C~275°C。9. 根據權利要求1~8的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述涂膜A 的膜厚X與所述涂膜B的膜厚y的比率x/y為1. 5~5. 0。10. 根據權利要求1~9的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述涂膜A 的膜厚X與所述涂膜B的膜厚y之和x+y為1. 2~2. 0μm。11. 根據權利要求1~10的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述L為 20~50質量％。12. 根據權利要求1~11的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，所述Μ為 45~65質量％。13. 根據權利要求1~12的任一項所述的疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法，在所述的 將曝光后的所述疊層進行顯影而獲得疊層樹脂黑矩陣的工序中，未殘留圖案的區域的涂膜 Α的溶解時間與未殘留圖案的區域的涂膜Β的溶解時間之差為±15秒以內。14. 一種濾色器基板，其在通過權利要求1~13的任一項所述的制造方法制造的疊層 樹脂黑矩陣基板的開口部形成有紅、綠或藍的像素。15. 根據權利要求1~14的任一項所述的濾色器基板，所述基板為聚酰亞胺樹脂膜。16. -種液晶顯示裝置，其在權利要求15所述的濾色器基板與對置基板之間填充有液 晶化合物。17. -種發光器件，其中，使權利要求15所述的濾色器基板與發光元件貼合。18. 根據權利要求17所述的發光器件，所述發光元件為有機EL元件。
【專利摘要】本發明公開了具備充分的光密度，并且反射率低，進一步能夠高精細的疊層樹脂黑矩陣的制造方法，以及包含通過該方法制造的疊層樹脂黑矩陣基板的濾色器基板。疊層樹脂黑矩陣基板的制造方法包括下述工序：將基板上的、含有遮光材的非感光性樹脂組合物A的涂膜A與含有遮光材的樹脂組合物B的涂膜B的疊層進行一并曝光的工序，將曝光后的上述疊層進行顯影的工序。濾色器基板在通過該制造方法制造的疊層樹脂黑矩陣基板的開口部形成有紅、綠或藍的像素。
【IPC分類】H05B33/12, G02F1/1335, G02B5/20, H01L51/50, G03F7/11, G03F7/004
【公開號】CN105308484
【申請號】CN201480034083
【發明人】西山雅仁, 的羽良典, 野中晴支
【申請人】東麗株式會社
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2014年6月12日
【公告號】WO2014203794A1