使用多圓筒處理器熱處理成像材料的裝置和方法
【技術領域】
[0001] 本發明一般涉及一種用于處理成像材料的裝置和方法，且更明確的是一種使用多 圓筒熱處理器來熱顯影成像材料的裝置和方法。
[0002] 發明背景
[0003] 光熱圖形膜通常包括薄基礎材料，諸如聚合物，其與感光和熱敏材料的乳劑一起 被涂覆在至少一側上。在所述膜已經經受光刺激而在乳劑中形成隱藏圖像之后，諸如通過 激光成像器，舉例來說，使用熱處理器來通過對膜加熱而從隱藏圖像顯影圖像。通常，熱處 理器將基礎材料和乳劑上升到最佳顯影溫度，在所述溫度下乳劑以最佳速率發生化學反 應。熱處理器接著使膜維持在最佳顯影溫度達所需顯影持續時間來從隱藏圖像顯影圖像。
[0004] 一種類型的熱處理器是圓筒處理器。圓筒處理器通常使用旋轉加熱圓筒，其具有 繞著圓筒表面的區段定位的一組滾筒。這些滾筒有時被稱為"壓力滾筒"且抵靠圓筒偏壓。 在顯影期間，圓筒的旋轉拖動壓力滾筒與圓筒之間的光熱圖形膜，其中壓力滾筒抵靠圓筒 固定光圖形膜使得熱量有效且均勻地從圓筒轉移到光熱圖形膜。
[0005] 為了改進介質產量（即，可在給定時間段內處理的成像介質的量），熱處理器通常 將光熱圖形膜的溫度盡可能快速地上升到顯影溫度。一些類型的熱處理器還將溫度快速上 升到顯影溫度來確保乳劑的化學反應正確地進行（例如，確保均勻的顯影和全范圍的光學 密度）。圓筒的尺寸（即直徑）取決于膜如何快速地達到顯影溫度、光熱圖形膜的顯影持續 時間和熱處理器的所需產量。實現具有給定顯影溫度和給定顯影持續時間的給定類型的光 熱圖形膜的產量增加通常需要增大圓筒直徑。
[0006] 然而，對于一些類型的光熱圖形膜，當加熱膜時，接觸圓筒的膜部分的基礎材料通 常在橫向纖網方向上（即，在垂直于膜繞著圓筒傳輸的方向的方向上）快速膨脹，而不接觸 圓筒的膜的剩余部分的基礎材料不膨脹。膜的加熱部分與未加熱部分之間的膨脹率差造成 膜加熱部分的基礎材料起皺，且在膜的橫向纖網方向上產生峰谷。峰谷從圓筒吸收不同熱 量，造成其顯影到不同密度，接著產生視覺產物。
[0007] 需要一種改進型熱處理器，其消除光熱圖形膜的起皺而不犧牲膜產量。 發明概要
[0008] -個實施方案提供了一種從記錄在光熱圖形成像介質的圖像形成層中的隱藏圖 像熱顯影圖像的方法。所述方法包括當成像介質沿著第一加熱圓筒的表面傳輸時，將成像 介質加熱到顯影溫度，第一加熱圓筒具有的直徑為成像介質提供的曲率半徑為成像介質提 供了橫向纖網硬度，其足以在被加熱到顯影溫度時防止成像介質起皺。
[0009] 所述方法還包括：當成像介質沿著第一加熱圓筒的表面傳輸時，使成像介質保持 在顯影溫度達成像介質的顯影持續時間的第一部分；將處于顯影溫度下的成像介質轉移到 至少一個第二加熱圓筒；和當成像介質沿著至少一個第二加熱圓筒的表面傳輸時，使成像 介質維持在顯影溫度達顯影持續時間的剩余部分。
[0010] -個實施方案提供了一種用于使成像介質中的圖像顯影的熱處理器，成像介質具 有處于顯影溫度下的顯影持續時間用于使圖像顯影。所述熱處理器包括旋轉第一圓筒，其 在當成像介質沿著第一圓筒的表面傳輸時，將成像介質加熱到顯影溫度且使成像介質維持 在顯影溫度達顯影持續時間的一部分。旋轉第二圓桶從第一圓筒接收成像介質且在當成 像介質沿著第二圓筒的表面傳輸時，使成像介質維持在顯影溫度達顯影持續時間的剩余部 分。第一圓筒具有的直徑為成像介質提供的曲率半徑為成像介質提供了橫向纖網硬度，其 足以在被加熱到所述顯影溫度時防止成像介質起皺。
[0011] -個實施方案提供了一種熱顯影成像介質的方法。所述方法包括彎曲成像介質使 其具有的曲率半徑為成像介質提供橫向纖網硬度，其足以在當成像介質沿著熱顯影路徑的 第一部分傳輸且被加熱到顯影溫度時防止成像介質起皺，其中橫向纖網是在橫向于成像介 質沿著傳輸路徑移動的方向上。所述方法還包括當成像介質沿著熱顯影路徑的第一部分傳 輸時，使成像介質維持在顯影溫度達顯影持續時間的第一部分，且當成像介質沿著熱顯影 路徑的剩余部分傳輸時，使成像介質維持在顯影溫度達顯影持續時間的剩余部分。
[0012] 根據一個實施方案，通過用第一加熱圓筒提供具曲率半徑的成像介質來提供具橫 向纖網硬度的成像介質，其足以在當加熱到顯影溫度時消除起皺，其提供至少一個第二加 熱圓筒來使成像介質維持在顯影溫度達顯影持續時間的任何剩余部分，本公開實現了在不 起皺的情況下熱顯影成像介質而不會增加處理時間。
[0013] 附圖簡述
[0014] 參考附圖更好地理解本發明的實施方案。附圖的元件不一定相對于彼此按規定比 例繪制。相同的元件符號指示對應的類似部分。
[0015] 圖1是圖示了根據一個實施方案的熱處理器的部分的截面圖。
[0016] 圖2是圖示了根據一個實施方案的光熱圖形成像介質的實例的截面圖。
[0017] 圖3是圖示了根據一個實施方案的圖1的熱處理器的部分的截面圖。
[0018] 圖4是大體圖示了在由圖1的熱處理器進行處理期間光熱圖形成像介質的溫度對 時間曲線的圖表。
[0019] 圖5是描述了根據一個實施方案的熱顯影成像介質的方法的流程圖。
[0020] 圖6是描述了根據一個實施方案的熱顯影成像介質的方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0021] 已經特別參考本發明的某些優選實施方案詳細描述本發明，但將了解在本發明的 精神和范圍內可實現變更和修改。
[0022] 圖1是圖示了根據本公開的一個實施方案的多圓筒熱處理器30的部分的截面圖， 其用于熱顯影光熱圖形成像介質中的隱藏圖像，諸如成像介質32,其由于成像介質的基層 的非同時加熱而消除了起皺。
[0023] 熱處理器30包括圓筒類型的熱顯影區段34和冷卻區段36。在一個實施方案中， 如圖所示，冷卻區段36是滾筒型冷卻區段。熱顯影區段34包括第一圓筒38和第二圓筒 40,其中第一圓筒38在一個方向上旋轉，如方向箭頭42指示（S卩，圖1中的順時針方向）， 且第二圓筒40在相反方向上旋轉，如方向箭頭44指示（S卩，圖1中的逆時針方向）。根據 一個實施方案，第一圓筒38包括圓周加熱器46,諸如腐蝕鋁箱電阻加熱器（有時被稱為"毯 覆式加熱器")，舉例來說，其連續地布置在第一圓筒38的內表面周圍。根據一個實施方案， 第二圓筒40包括輻射加熱器47,諸如紅外燈加熱器，其布置在第二圓筒40的內部。雖然描 述成分別包括毯覆式加熱器和輻射加熱器，但其它類型的加熱器可用于第一圓筒38和第 二圓筒40。
[0024] 第一多個壓力滾筒48圓周地排列在第一圓筒38的區段周圍，且第二多個壓力滾 筒50圓周地排列在第二圓筒40的區段周圍，其中第一圓筒38和第一多個壓力滾筒48 - 起形成第一拱形熱顯影路徑52,且第二圓筒40和第二多個壓力滾筒50 -起形成第