像素隔離墻、顯示基板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明設及顯示技術領域，具體而言，設及一種像素隔離墻的制作方法、一種顯示 基板的制作方法、一種像素隔離墻和一種顯示基板W及一種顯示裝置。
【背景技術】
[0002] 現有技術中顯示基板的制作工藝如圖1所示，主要包括：
[0003] 在玻璃基底上形成薄膜晶體管；
[0004] 在像素電極上形成像素隔離墻；
[0005] 在像素隔離墻界定的區域中滴入有機發光材料溶液，W形成有機發光層。形成的 顯示基板如圖2所示。
[0006] 在形成有機發光層時，為了避免相鄰像素顯示色彩的串擾，一般會在相鄰像素之 間設置有用于分隔相鄰像素的像素隔離墻。
[0007] 現有技術中制作像素界定層的步驟包括：
[0008] 在像素電極的表層涂布一層光刻膠，采用掩模版對光刻膠進行曝光，其中光刻膠 若是正膠，則見光分解；若是負膠，則光致聚合。W正膠為例，清洗掉掩膜板的透光區域對應 的光刻膠，將剩余的光刻膠作為像素隔離墻。
[0009] 在形成像素隔離墻之后，為了精確控制有機材料溶液或墨水的液滴滴入到給定的 像素區域中，通常要求像素區域的像素隔離墻具有疏液性，運樣即使有少量液滴在制作過 程中落到像素隔離墻的墻體上，也會由于其疏液特性而使得液滴流入到像素槽內。如圖3 所示，現有技術中通過噴墨打印方式形成的有機發光層，雖然可W完全滴入像素槽內，但是 由于像素隔離墻本身具有疏液性，會使得液滴形成凸起，進而導致形成的有機發光層厚度 不均勻。
[0010] 因此在如何控制有機材料溶液或墨水的液滴精確滴入到給定的像素區域，W及同 時保證落入像素內的液滴在干燥后其膜的厚度均一性方面存在難度。
【發明內容】
[0011] 本發明所要解決的技術問題是，如何將功能顯示材料準確地滴入指定區域，同時 保證形成的功能顯示層厚度均勻。
[0012] 為此目的，本發明提出了一種像素隔離墻，包括：
[0013] 親油層，設置在形成有TFT陣列和像素電極陣列的基板之上；
[0014] 疏油層，設置在所述親油層之上，與所述親油層一起界定多個與所述像素電極陣 列對應的凹陷區域。
[0015] 優選地，所述親油層的材料為感光性強于預設值的光刻膠。
[0016] 優選地，所述疏油層的材料為SiNx。
[0017] 優選地，所述疏油層的上表面經歷過親水處理。
[0018] 本發明還提出了一種顯示基板，包括上述任一項所述的像素隔離墻，還包括：所述 TFT陣列和像素電極陣列，W及形成在所述凹陷區域中的親油的功能顯示層。
[0019] 優選地，所述功能顯示層的材料為有機發光材料或電致變色材料。
[0020] 本發明還提出了一種顯示裝置，包括上述顯示基板。
[0021] 本發明還提出了一種像素隔離墻制作方法，包括：
[0022] 在形成有TFT陣列和像素電極陣列的基板之上形成親油層；
[0023] 在所述親油層上形成疏油層；
[0024] 在所述疏油層上形成光刻膠；
[0025] 去除與所述像素電極陣列對應的光刻膠； 陽0%] 蝕刻與所述像素電極陣列對應的疏油層；
[0027] 蝕刻與所述像素電極陣列對應的親油層，W使所述親油層和疏油層一起界定多個 與所述像素電極陣列對應的凹陷區域。
[0028] 優選地，形成親油層的步驟包括：
[0029] 在形成有TFT陣列和像素電極陣列的基板上涂覆親油層的材料；
[0030] 在80°C至100°C溫度下對親油層的材料烘烤3至5分鐘；
[0031] 在90°C至110°C溫度下對親油層的材料烘烤25至35分鐘；
[0032] 在220°C至240°C溫度下對親油層的材料烘烤25至35分鐘。
[0033] 優選地，蝕刻所述與所述像素電極陣列對應的親油層包括：
[0034] 通過氧氣干刻與所述像素電極陣列對應的親油層的材料，W形成像素區域。
[0035] 優選地，所述疏油層的材料為SiNx，
[0036] 在所述親油層上形成疏油層包括：
[0037] 通過等離子體增強化學氣相沉積法沉積900至n〇0惠厚度的SiN,層。
[003引優選地，蝕刻與所述像素電極陣列對應的疏油層包括：通過SFe和C12干刻與所述 像素電極陣列對應的SiNy。
[0039] 優選地，在所述親油層上形成疏油層之后還包括：
[0040] 對所述疏油層的上表面做親水處理。
[0041] 本發明還提出了一種顯示基板制作方法，包括上述像素隔離墻制作方法，還包 括：
[0042] 向所述凹陷區域滴入親油的功能顯示材料，W在所述凹陷區域內形成功能顯示 層。
[0043] 根據上述技術方案，通過在親油層上設置疏油層形成像素隔離墻，當向像素區域 滴入親油的功能顯示材料時，由于親油的功能顯示材料是親油的，即使滴在了疏油層上，也 會被疏油層排斥而落入親油層所界定的像素區域，從而保證了親油的功能顯示材料滴入像 素區域的準確度。并且由于親油層內壁是親油的，當親油的功能顯示材料滴入像素區域后， 內壁可W對親油的功能顯示材料的兩側產生較強的拉力，使得親油的功能顯示材料在像素 區域中更為平整，不會在中屯、區域聚集較厚的材料，從而形成厚度均勻的功能顯示層。
【附圖說明】
[0044] 通過參考附圖會更加清楚的理解本發明的特征和優點，附圖是示意性的而不應理 解為對本發明進行任何限制，在附圖中：
[0045] 圖1示出了現有技術中顯示基板制作方法的示意流程圖；
[0046] 圖2示出了現有技術中顯示基板的結構示意圖；
[0047] 圖3示出了現有技術中形成的有機發光層或電致變色層的示意圖；
[0048] 圖4示出了根據本發明一個實施例的像素隔離墻的結構示意圖；
[0049] 圖5示出了根據本發明一個實施例的顯示基板的結構示意圖；
[0050]圖6示出了根據本發明一個實施例的像素隔離墻制作方法的示意流程圖；
[0051] 圖7至圖11示出了根據本發明一個實施例的像素隔離墻制作方法的具體示意流 程圖。
【具體實施方式】
[0052] 為了能夠更清楚地理解本發明的上述目的、特征和優點，下面結合附圖和具體實 施方式對本發明進行進一步的詳細描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施 例及實施例中的特征可W相互組合。
[0053] 在下面的描述中闡述了很多具體細節W便于充分理解本發明，但是，本發明還可 W采用其他不同于在此描述的其他方式來實施，因此，本發明的保護范圍并不受下面公開 的具體實施例的限制。
[0054] 如圖4所示，根據本發明一個實施例的像素隔離墻，包括： 陽化5] 親油層2,設置在形成有TFT陣列和像素電極陣列1的基板之上；
[0056] 疏油層3,設置在萊油層2之上，與萊油層2-起界走多個與像素電極陣列對應的 凹陷區域。
[0057] 通過在親油層2上設置疏油層3形成像素隔離墻，當向像素區域滴入親油的功能 顯示材料形成親油的功能顯示層5時，由于親油的功能顯示材料是親油的，即使滴在了疏 油層3上，也會被疏油層3排斥而落入親油層2所界定的像素區域，從而保證了親油的功能 顯示材料準確地滴入凹陷區域。
[0058] 并且由于親油層2是親油的，也即形成的像素隔離墻內壁是親油的，當親油的功 能顯示材料滴入像素區域后，內壁可W對親油的功能顯示材料的兩側產生較強的拉力，使 得親油的功能顯示材料在像素區域中更為平整，不會在中屯、區域聚集較厚的材料，從而形 成厚度均勻的親油的功能顯示層5,如圖5所示。
[0059] 優選地，親油層2的材料為感光性強于預設值的光刻膠4。
[0060] 感光性強于預設值的光刻膠4,例如富±薄膜公司的一種高感度的正性光刻膠 FMES-TF20,易于形成較厚的親油層2,可W更好地作為像素隔離墻來界定像素區域。
[0061] 優選地，疏油層3的材料為SiNx。
[0062] 本實施例中的SiNx為疏油（親水）性材料，當親油的功能顯示材料滴在SiNX材料 上時，會被SiNy材料排斥而不會在其上停留，從而更容易進入親油層2界定的像素區域。
[0063] 優選地，疏油層3的上表面經歷過親水處理。 W64] 如果工藝需要疏油層3的疏油性較強，可W進一步對疏油層3進行親水處理，使得 滴在其上的親油的功能顯示材料更快地流入像素區域。 陽0化]本發明還提出了一種顯示基板，包括上述任一項的像素隔離墻，還包括：TF