顯微鏡物鏡的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯微鏡技術，特別涉及一種顯微鏡物鏡。
【背景技術】
[0002] 目前，使用顯微鏡觀察標本時，一般在標本上覆蓋蓋玻片、培養皿或特定液體等介 質，也即是說，在標本與顯微鏡物鏡之間設置介質。如此，標本投射在介質的上表面上后通 過顯微鏡放大成像。由于顯微鏡一般具有固定的焦距，因此，介質的厚度及折射率也需固 定。當然，根據顯微鏡物鏡的倍率及數值孔徑的不同，介質的厚度及折射率可以有微小的變 化。但是，假若介質的厚度及折射率變化過大，將會影響顯微鏡成像的質量。顯微鏡物鏡的 倍率越高，數值孔徑越大，厚度及折射率變化對顯微鏡的成像質量影響越明顯，例如，對于 高倍率高數值孔徑的顯微鏡物鏡，介質〇. 〇2mm的厚度變化便會對顯微鏡的成像質量產生 極大的影響。
【發明內容】
[0003] 本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明需要提供一 種顯微鏡物鏡。
[0004] 本發明實施方式的顯微鏡物鏡從物方起依次包括：
[0005] 具有正光焦度的第一鏡片；
[0006] 具有正光焦度的第一鏡組；
[0007] 具有正光焦度的第二鏡組；
[0008] 具有負光焦度的第三鏡組；
[0009] 具有負光焦度的第四鏡組；及
[0010] 具有負光焦度的第五鏡組；所述第一鏡組用于沿所述顯微鏡物鏡的光軸移動改變 所述顯微鏡物鏡的焦距。
[0011] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0012] 2< I fLl/fobj I <2. 5 ；
[0013] 其中，fLl為所述第一鏡片的焦距，fobj為所述顯微鏡物鏡的焦距。
[0014] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0015] 10< I fGl/fobj I <14 ；
[0016] 其中，fGl為所述第一鏡組的焦距，fobj為所述顯微鏡物鏡的焦距。
[0017] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0018] 10< I fG2/fobj I <25 ；
[0019] 其中，fG2為所述第三鏡組的焦距，fobj為所述顯微鏡物鏡的焦距。
[0020] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0021] I. 6< I fG5/fobj I <4 ；
[0022] fG5為所述第二鏡組G5的焦距，fobj為所述顯微鏡物鏡的焦距。
[0023] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0024] 3mm<D3+D4<5mm ；
[0025] 其中，D3為所述第一鏡片與所述第一鏡組之間的距離，D4為所述第一鏡組與所述 第二鏡組之間的距離。
[0026] 在某些實施方式中，所述顯微鏡物鏡滿足：
[0027] I. 7〈ndl ;及
[0028] 50<Vdl ；
[0029] 其中，ndl為光譜在546. 07nm的光線穿過所述第一鏡片的折射率，Vd為光譜在 546. 07nm的光線在所述第一鏡片的阿貝數。
[0030] 在某些實施方式中，所述第一鏡片具有彎月形狀，且凹面朝向顯微鏡物鏡的物方
[0031] 在某些實施方式中，所述第四鏡組從物方起包括相互膠合的雙凸正光焦度鏡片及 雙凹負光焦度鏡片，所述第五鏡組包括至少一片鏡片，并包括面向第四鏡組的物方凹面。
[0032] 本發明實施方式的顯微鏡物鏡可以通過移動所述第一鏡組改變顯微鏡物鏡的焦 距從而補償覆蓋介質的厚度及折射率變化，獲得清晰的成像。
[0033] 本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變 得明顯，或通過本發明的實踐了解到。
【附圖說明】
[0034] 本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施方式的描述中將 變得明顯和容易理解，其中：
[0035] 圖1是本發明實施例1的顯微鏡物鏡的平面示意圖。
[0036] 圖2是實施例1的顯微鏡物鏡的0視場橫向像差圖。
[0037] 圖3是實施例1的顯微鏡物鏡的1視場橫向像差圖。
[0038] 圖4是實施例1的顯微鏡物鏡的軸向像差圖。
[0039] 圖5是實施例1的顯微鏡物鏡的場曲畸變圖。
[0040] 圖6是本發明實施例2的顯微鏡物鏡的平面示意圖。
[0041] 圖7是實施例2的顯微鏡物鏡的0視場橫向像差圖。
[0042] 圖8是實施例2的顯微鏡物鏡的1視場橫向像差圖。
[0043] 圖9是實施例2的顯微鏡物鏡的軸向像差圖。
[0044] 圖10是實施例2的顯微鏡物鏡的場曲畸變圖。
[0045] 圖11是本發明實施例3的顯微鏡物鏡的平面示意圖。
[0046] 圖12是實施例3的顯微鏡物鏡的0視場橫向像差圖。
[0047] 圖13是實施例3的顯微鏡物鏡的1視場橫向像差圖。
[0048] 圖14是實施例3的顯微鏡物鏡的軸向像差圖。
[0049] 圖15是實施例3的顯微鏡物鏡的場曲畸變圖。
【具體實施方式】
[0050] 下面詳細描述本發明的實施方式，所述實施方式的示例在附圖中示出，其中自始 至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參 考附圖描述的實施方式是示例性的，僅用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。
[0051] 在本發明的描述中，需要理解的是，術語"中心"、"縱向"、"橫向"、"長度"、"寬度"、 "厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"豎直"、"水平"、"頂"、"底"、"內"、"外"、"順時 針"、"逆時針"等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于 描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特 定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。此外，術語"第一"、"第二"僅用于 描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。 由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個所述特征。在 本發明的描述中，"多個"的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。
[0052] 在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語"安裝"、"相 連"、"連接"應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可 以是機械連接，也可以是電連接或可以相互通訊；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間 接相連，可以是兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術 人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
[0053] 在本發明中，除非另有明確的規定和限定，第一特征在第二特征之"上"或之"下" 可以包括第一和第二特征直接接觸，也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它 們之間的另外的特征接觸。而且，第一特征在第二特征"之上"、"上方"和"上面"包括第一 特征在第二特征正上方和斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征 在第二特征"之下"、"下方"和"下面"包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或僅僅表 示第一特征水平高度小于第二特征。
[0054] 下文的公開提供了許多不同的實施方式或例子用來實現本發明的不同結構。為了 簡化本發明的公開，下文中對特定例子的部件和設置進行描述。當然，它們僅僅為示例，并 且目的不在于限制本發明。此外，本發明可以在不同例子中重復參考數字和/或參考字母， 這種重復是為了簡化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實施方式和/或設置之間的 關系。此外，本發明提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但是本領域普通技術人員可以 意識到其他工藝的應用和/或其他材料的使用。
[0055] 實施例1
[0056] 請參閱圖1，本發明實施例1的顯微鏡物鏡從物方起依次包括具有正光焦度的第 一鏡片LU具有正