彩膜基板及其制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法。
【背景技術】
[0002]液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有機身薄、省電、無福射等眾多優點，得到了廣泛的應用。如:液晶電視、移動電話、個人數字助理(PDA)、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等，在平板顯示領域中占主導地位。
[0003]通常液晶顯示面板由一彩膜基板(ColorFilter Substrate，CF Substrate)、一薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)以及一配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構成，并分別在兩基板的相對內側設置像素電極、公共電極，通過施加電壓控制液晶分子改變方向，將背光模組的光線折射出來產生畫面。
[0004]液晶顯示面板生產過程中要經過陣列、成盒兩大工序，而這兩大工序又包含若干個子工序。每一個工序都對環境、設備、材料、工藝、操作等方面有很高的要求，而這些因素的偏離有時會影響像素結構，嚴重的形成缺陷。亮點是一種比較常見的面板缺陷，材料中混入異物、有源層殘留、像素電路溝道異常、像素電極殘留等等原因都可能造成亮點缺陷。組立成盒后液晶顯示屏面板，對于液晶顯示面板產生的亮點的傳統修復方法是通過激光使其變成暗點，通常是利用焊接工藝從TFT側背面將掃描線與像素電極短接，使得該像素永遠呈現暗點化狀態。但針對LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低溫多晶娃)產品，由于需要穿透2.5 μπι平坦層做切割和焊接，修補成功低。因此業界針對LTPS產品一般采用BM(Black Matrix，黑色矩陣)鐳射方式，從CF側背面，將亮點采用BM光阻暗點化。
[0005]為了解決激光焊接修復方法中所存在的問題，提出了一種黑色矩陣修補方法，請參閱圖1至圖4，該方法包括如下步驟:
[0006]步驟1、通過高功率的激光20在亮點缺陷對應的色阻塊30與平坦層40之間形成縫隙50 ;
[0007]步驟2、通過激光20打通色阻塊30兩側的黑色矩陣10，在步驟I形成的縫隙50的基礎上形成連接兩側黑色矩陣10的通道60，在打通通道的60的同時會有部分顆粒狀的黑色矩陣材料噴濺到通道60內；
[0008]步驟3、通過激光20將噴濺到通道60內的黑色矩陣材料推均勻；
[0009]步驟4、擴散所述通道60兩側的黑色矩陣材料進入通道60內，直至填滿整個通道
60 ο
[0010]上述修補方法通過黑色矩陣材料對具有亮點缺陷的像素進行遮擋，使其視覺效果為暗點，以達到修復的目的，然而，采用上述黑色矩陣修補方法進行亮點修復的液晶顯示面板，在修復后會往往出現黑色矩陣膜厚降低而導致漏光和對比度降低的問題，進而導致修復失敗，因此為了提高黑色矩陣修補方法的修復成功率，需要提高黑色矩陣的膜厚和黑色矩陣材料的光密度值。
【發明內容】
[0011]本發明的目的在于提供一種彩膜基板，其黑色矩陣層具有較大的厚度，可在不降低彩膜基板整體開口率的前提下，提高黑色矩陣修補方法的成功率。
[0012]本發明的目的還在于提供一種彩膜基板的制作方法，通過采用黑色矩陣層的光罩結合蝕刻技術在襯底基板的上表面形成數條橫向與縱向排列的溝槽，沿所述溝槽形成黑色矩陣層，所述黑色矩陣層的整體厚度較高，從而在進行暗點化修補后，黑色矩陣層依然保持較大的厚度，避免漏光現象的出現。
[0013]為實現上述目的，本發明提供一種彩膜基板，包括:基板、設于所述基板上的黑色矩陣層與色阻層、設于所述黑色矩陣層與色阻層上的平坦層、及設于所述平坦層上的數個間隔物；
[0014]所述基板的上表面開設有數條橫向與縱向排列的溝槽，所述黑色矩陣層包括沿所述溝槽設置的數條橫向與縱向排列的遮光帶，所述遮光帶包括位于所述溝槽內部的增厚部、及位于所述溝槽上方的遮光部。
[0015]所述遮光部的寬度大于所述增厚部的寬度。
[0016]所述數條遮光帶在所述基板上交叉限定出數個子像素區域，所述色阻層包括分別位于數個子像素區域中的數個色阻塊。
[0017]所述數個色阻塊包括紅色、綠色和藍色光阻塊。
[0018]所述間隔物對應于黑色矩陣層設置。
[0019]本發明還提供一種彩膜基板的制作方法，包括如下步驟:
[0020]步驟1、提供一基板，采用黑色矩陣的光罩對所述基板進行圖案化處理，在所述基板的上表面通過蝕刻形成數條橫向與縱向排列的溝槽；
[0021]步驟2、在所述基板上沿所述溝槽形成數條遮光帶，所述數條橫向與縱向排列的遮光帶構成黑色矩陣層，所述遮光帶包括位于所述溝槽內部的增厚部、及位于所述溝槽上方的遮光部；
[0022]步驟3、在基板上制作色阻層，所述數條遮光帶在所述基板上交叉限定出數個子像素區域，所述色阻層包括分別位于數個子像素區域中的數個色阻塊；
[0023]步驟4、在所述黑色矩陣層和色阻層上制作平坦層；
[0024]步驟5、在所述平坦層上形成數個間隔物。
[0025]所述步驟I中，所述基板為玻璃基板，以氫氟酸為蝕刻液對所述基板進行蝕刻。
[0026]所述遮光部的寬度大于所述增厚部的寬度。
[0027]所述數個色阻塊包括紅色、綠色和藍色光阻塊。
[0028]所述間隔物對應于黑色矩陣層設置。
[0029]本發明的有益效果:本發明提供一種彩膜基板及其制作方法，本發明的彩膜基板，其黑色矩陣層的厚度較大，可避免對液晶顯示面板進行暗點化修補后漏光現象的出現，提高修補成功率。本發明的彩膜基板的制作方法，通過采用黑色矩陣層的光罩結合蝕刻技術在襯底基板的上表面形成數條橫向與縱向排列的溝槽，沿所述溝槽形成數條橫向與縱向排列的遮光帶，所述數條橫向與縱向排列的遮光帶構成黑色矩陣層，所述遮光帶包括位于所述溝槽內部的增厚部及位于所述溝槽上方的遮光部，由于增厚部的設置，使得黑色矩陣層的整體厚度提高，使得在進行暗點化修補后，黑色矩陣層依然保持較大的厚度，避免漏光現象的出現。
[0030]為了能更進一步了解本發明的特征以及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發明加以限制。
【附圖說明】
[0031]下面結合附圖，通過對本發明的【具體實施方式】詳細描述，將使本發明的技術方案及其它有益效果顯而易見。
[0032]附圖中，
[0033]圖1為現有的黑色矩陣修補方法的步驟I的示意圖；
[0034]圖2為現有的黑色矩陣修補方法的步驟2的示意圖；
[0035]圖3為現有的黑色矩陣修補方法的步驟3的示意圖；
[0036]圖4為現有的黑色矩陣修補方法的步驟4的示意圖；
[0037]圖5為本發明的彩膜基板的制作方法的流程圖；
[0038]圖6為本發明的彩膜基板的制作方法的步驟I的示意圖；
[0039]圖7為本發明的彩膜基板的制作方法的步驟2的示意圖；
[0040]圖8為本發明的彩膜基板的制作方法的步驟3的示意圖；
[0041]圖9為本發明的彩膜基板的制作方法的步驟4的示意圖；
[0042]圖10為本發明的彩膜基板的制作方法的步驟5的示意圖暨本發明的彩膜基板的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0043]為更進一步闡述本發明所采取的技術手段及其效果，以下結合本發明的優選實施例及其附圖進行詳細描述。
[0044]請參閱圖10，本發明首先提供一種彩膜基板，包括:基板1、設于所述基板I上的黑色矩陣層3與色阻層2、設于所述黑色矩陣層3與色阻層2上的平坦層4、及設于所述平坦層4上的數個間隔物5;
[0045]所述基板I的上表面開設有數條橫向與縱向排列的溝槽11，所述黑色矩陣層3包括沿所述溝槽11設置的數條橫向與縱向排列的遮光帶3，所述遮光帶