應的速度比，在與投影光學系統PO的物體面平行的方向上(例如，圖7中的X方向)掃描掩膜臺MS和基板臺WS。通過這樣做，能夠將掩膜55上形成的圖案轉印到基板56上。
[0049]例如，如圖7所示，投影光學系統PO包括平面鏡52、凹面鏡53以及凸面鏡54。從照明光學系統IL射出的并且通過掩膜55的曝光光的光路被平面鏡52的第一面52a彎曲，并且入射在凹面鏡53的第一面53a上。由凹面鏡53的第一面53a反射的曝光光被凸面鏡54反射，并且入射在凹面鏡53的第二面53b上。由凹面鏡53的第二面53b反射的曝光光的光路被平面鏡52的第二面52b彎曲，并且在基板上形成圖像。在如上所述構造的投影光學系統PO中，凸面鏡54的表面用作光瞳。
[0050]在上述曝光裝置50的結構中，上述實施例的光學裝置可以被用作例如使用作鏡I的凹面鏡53的反射面變形的裝置。通過在曝光裝置50中使用上述實施例的光學裝置，能夠以高速度且高精度來使凹面鏡53的反射面(第一面53a和第二面53b)變形，并且能夠實時且高精度校正投影光學系統PO中的光學像差。曝光裝置50中的控制單元51可以包括用于控制根據上述實施例的光學裝置中的各致動器2的控制單元8。在根據上述實施例的光學裝置用作使凹面鏡53的反射面變形的裝置的情況下，圖7中的X方向、Y方向和Z方向分別對應于圖1和圖5中的-Z方向、Y方向和X方向。
[0051]物品的制造方法的實施例
[0052]根據本發明的實施例的物品的制造方法適合于制造物品(例如，諸如半導體設備的微設備或具有微結構的元件)。本實施例的物品的制造方法包括:通過使用上述曝光裝置來將潛像圖案形成在涂布了感光劑的基板上的步驟(利用光對基板進行曝光的步驟)；以及對在上述步驟中形成有潛像圖案的基板進行顯影的步驟。該制造方法還包括其他公知步驟(氧化、成膜、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、光刻膠去除、切割、粘合和封裝等)。與傳統方法相比，根據本實施例的物品的制造方法的優勢在于物品的性能、質量、生產率以及生產成本中的至少一者。
[0053]雖然參照示例性實施例對本發明進行了描述，但是應當理解，本發明不限于所公開的示例性實施例。應當對所附權利要求的范圍給予最寬的解釋，以使其涵蓋所有這些變型例以及等同的結構和功能。
【主權項】
1.一種使鏡的反射面變形的光學裝置，所述光學裝置包括: 底板； 多個致動器，其被布置在所述底板與所述鏡之間，并且被構造為對所述鏡施加力； 檢測單元，其被構造為檢測所述底板中產生的振動；以及 控制單元，其被構造為基于所述檢測單元進行的檢測的結果來控制各致動器，使得作為所述底板中產生的振動的結果而引起的所述鏡的變形在可接受的范圍之內。2.根據權利要求1所述的光學裝置， 其中，所述控制單元包括補償器，所述補償器被構造為基于所述檢測單元進行的檢測的結果，來確定用于控制各致動器的命令值，并且 所述控制單元通過將第一傳遞函數的倒數乘以第二傳遞函數來確定所述補償器的傳遞函數，所述第一傳遞函數接收所述命令值的輸入并輸出所述鏡的變形，所述第二傳遞函數接收所述底板的振動的輸入并輸出所述鏡的變形。3.根據權利要求2所述的光學裝置， 其中，所述控制單元通過針對各致動器獲得在一個致動器對所述鏡施加單位量的力的情況下的所述鏡中的多個點中的各點移位的位移量，來確定所述第一傳遞函數。4.根據權利要求3所述的光學裝置，所述光學裝置還包括測量單元，所述測量單元被配設到所述鏡，并且被構造為測量所述鏡中的各點的位置， 其中，所述控制單元基于所述測量單元進行的測量的結果，來獲得所述鏡中的各點的位移量。5.根據權利要求2所述的光學裝置，所述光學裝置還包括振動單元，所述振動單元被構造為對所述底板施加振動， 其中，所述控制單元在所述振動單元對所述底板施加振動的情況下，通過獲得所述鏡中的多個點中的各點的位移量，來確定所述第二傳遞函數。6.根據權利要求5所述的光學裝置，所述光學裝置還包括測量單元，所述測量單元被配設到所述底板，并且被構造為測量所述鏡中的各點的位置， 其中，所述控制單元基于所述測量單元進行的測量的結果，來獲得所述鏡中的各點的位移量。7.根據權利要求1所述的光學裝置， 其中，所述檢測單元被配設到所述底板，并且檢測所述底板的加速度作為所述底板中產生的振動。8.根據權利要求3所述的光學裝置，所述光學裝置還包括: 基準對象；以及 測量單元，其被配設到所述基準對象，并且被構造為測量所述鏡中的各點的位置， 其中，所述控制單元基于所述測量單元進行的測量的結果，來獲得所述鏡中的各點的位移量。9.根據權利要求8所述的光學裝置， 其中，所述檢測單元被配設到所述基準對象，并且檢測所述基準對象的加速度作為所述底板中產生的振動。10.根據權利要求1所述的光學裝置， 其中，所述控制單元包括第二補償器，所述第二補償器被構造為基于所述鏡的形狀與目標形狀之間的偏差，來確定用于控制各致動器的第二命令值。11.根據權利要求1所述的光學裝置，所述光學裝置還包括固定部件，所述固定部件被構造為將包括所述鏡的中心的所述鏡的一部分固定到所述底板。12.一種投影光學系統，其將掩膜圖案投影到基板上，所述投影光學系統包括根據權利要求I所述的光學裝置。13.—種曝光裝置，其利用光對基板進行曝光，所述曝光裝置包括根據權利要求12所述的投影光學系統。14.一種物品的制造方法，所述制造方法包括: 曝光步驟，使用曝光裝置對基板進行曝光； 顯影步驟，對所曝光的基板進行顯影；以及 處理步驟，對所顯影的基板進行處理以制造所述物品， 其中，所述曝光裝置對所述基板進行曝光并且包括投影光學系統，所述投影光學系統將掩膜圖案投影到所述基板上并且包括光學裝置， 其中，所述光學裝置使鏡的反射面變形，所述光學裝置包括: 底板； 多個致動器，其被布置在所述底板與所述鏡之間，并且被構造為對所述鏡施加力； 檢測單元，其被構造為檢測所述底板中產生的振動；以及 控制單元，其被構造為基于所述檢測單元進行的檢測的結果來控制各致動器，使得作為所述底板中產生的振動的結果引起的所述鏡的變形在可接受的范圍之內。
【專利摘要】本發明提供了光學裝置、投影光學系統、曝光裝置及物品的制造方法。所述光學裝置使鏡的反射面變形，所述光學裝置包括：底板；多個致動器，其被布置在所述底板與所述鏡之間，并且被構造為對所述鏡施加力；檢測單元，其被構造為檢測所述底板中產生的振動；以及控制單元，其被構造為基于所述檢測單元進行的檢測的結果來控制各致動器，使得作為所述底板中產生的振動的結果引起的所述鏡的變形在可接受的范圍之內。
【IPC分類】G02B27/00, G02B26/08, G03F7/20
【公開號】CN105045044
【申請號】CN201510216833
【發明人】淺田克己
【申請人】佳能株式會社
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年4月30日
【公告號】US20150316852