光取向用偏光照射裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種用于光取向處理中的光取向用偏光照射裝置。
【背景技術】
[0002]在使用液晶元件的取向膜和紫外線固化型液晶的光學膜的取向層等、具有使液晶分子進行取向的功能的膜和層(以下，統稱為取向膜)的形成中近年來采用光取向處理。進行光取向處理時，向成為取向膜的感光性樹脂膜以偏光軸進行特定的偏光狀態(例如直線偏光狀態)照射被選擇的波長(例如紫外光)的光。
[0003]光取向處理用偏光照射裝置已知有，為連續形成具有預定寬度的取向膜，沿取向膜的寬度方向配置棒狀光源(長弧燈)，組合該光源和偏振器而沿取向膜的寬度方向照射選擇波長的偏振光，將其掃描在與取向膜的寬度方向交差的方向上之物(參考下述專利文獻I) O
[0004]現有技術文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:日本專利公開2006-133498號公報
【發明內容】
[0007]發明要解決的技術課題
[0008]這種光取向用偏光照射裝置為維持期望的光照射強度和波長特性，在長時間使用時，需定期維護光源。維護光源時，進行燈管的更換和清掃，但由于燈管的下方靠近配置有偏振器等光學部件，所以存在燈管更換等的作業性較差，并且作業中若灰塵和結合部件等落在光學部件上則存在弄臟或損壞高價的光學部件之虞。
[0009]為了避免這種事態，還想到將整個光源引出到與掃描方向較差的方向而進行維護作業。但是隨著液晶面板的大型化等，取向膜的寬度變大，若要將配備在其整個寬度上的光源沿寬度方向引出到掃描區域外側，則在掃描區域外側需要與取向膜的寬度相等的空間，因此存在很難確保光取向處理設施內部的空間的問題。
[0010]本發明以處理這種問題為課題的一例。即，以作業性良好、且節省空間地進行光取向用偏光照射裝置中的光源的維護等為本發明的目的。
[0011]用于解決技術課題的方案
[0012]為達成這種目的，本發明的光取向用偏光照射裝置至少具備如下結構。
[0013]—種光取向用偏光照射裝置，其向被形成有取向膜的基板的寬度方向延設具備光源及包含偏振器的光學部件的光照射部，一邊沿與所述基板的寬度方向交叉的掃描方向掃描所述基板或所述光照射部，一邊在所述基板上照射特定波長的偏振光，其特征在于，所述光照射部具備將所述光源在所述光學部件之上的光照射位置支承的同時，在從所述光學部件向所述掃描方向遠離的維護位置支承的光源支承導桿，所述光源支承導桿使所述光源從所述光照射位置移動至所述維護位置時，使所述光源的朝向以光照射側沿所述掃描方向的方式發生變化。
[0014]發明效果
[0015]本發明通過具備這種特征，能夠使光源移動到光學部件向掃描方向遠離的維護位置，且在該維護位置上能夠使光源的朝向以光照射側沿掃描方向的方式發生變化，因此能夠以作業性良好、且節省空間地進行光取向用偏光照射裝置中的光源的維護。
【附圖說明】
[0016]圖1是表示本發明的一實施方式所涉及的光取向用偏光照射裝置的整體結構的說明圖。
[0017]圖2是表示本發明的實施方式所涉及的光取向用偏光照射裝置中的光源支承導桿的具體結構的說明圖。
[0018]圖3是表示本發明的另一實施方式所涉及的光取向用偏光照射裝置中的光源支承導桿的具體結構的說明圖。
[0019]圖4是表示本發明的實施方式所涉及的光取向用偏光照射裝置中使用的偏振器的說明圖((a)為俯視圖，(b)為側視圖)。
[0020]圖5是表示入射于偏振器的光的波長與消光比的關系的曲線圖。
【具體實施方式】
[0021]以下邊參考附圖邊說明本發明的實施方式。以下附圖中，掃描方向示為Y方向，豎直向上朝向示為Z方向，與掃描方向及豎直向上朝向正交的方向示為X方向。圖1是表示本發明的一實施方式所涉及的光取向用偏光照射裝置的整體結構的說明圖。
[0022]光取向用偏光照射裝置I具備光照射部10和基板臺20。光照射部10具備光源2和包含偏振器的光學部件，向被形成有取向膜的基板W的寬度方向(圖示X方向)延設這些。基板臺20上放置有基板W。光照射部10與基板臺20沿掃描方向S相對移動。由此，光取向用偏光照射裝置I一邊沿著與基板W的寬度方向交差的掃描方向S掃描基板W或光照射部10，一邊在基板W上照射特定波長的偏振光。
[0023]圖1所示的例子中，光照射部10的光源2具備長弧燈2P。長弧燈2P具備被延設在基板W的整個寬度方向上的長度，與長弧燈2P的長邊方向交差的方向設為掃描方向。
[0024]光照射部10具備支承光源2的光源支承導桿11。并且，光照射部10根據需要具備使光源2在光源支承導桿11上移動的移動機構12。移動機構12能夠由電動缸或馬達等構成。具備移動機構12時，在光源2的光源支承導桿11上的移動通過手動而實現。
[0025]圖2是表示光源支承導桿的具體結構的說明圖(圖2(a)為俯視圖，圖2 (b)為顯示光源的移動狀態的側視圖)。光源支承導桿11將光源2在光學部件(波長選擇過濾器3和偏振器4等)之上的光照射位置Pl支承的同時，在從光學部件向掃描方向(圖示Y方向)遠離的維護位置P2支承。圖示的例子中，光源2經由導向輪13被移動自如地支承在光源支承導桿11上，掃描方向后方側的導向輪13A被支承在在水平移動導桿IlA上，掃描方向前方的導向輪13B被支承在傾斜移動導桿IlB上。
[0026]—般使用掃描曝光基板W時，光源2在光照射位置Pl被支承在光源支承導桿11上，在該狀態下從光源2射出的光透過波長選擇過濾器3及偏振器4被照射在基板W上。
[0027]相對于光源2進行更換等維護時，使光源2移動至光源支承導桿11中的維護位置P2。維護位置P2為相對于光照射位置Pl向掃描方向遠離的位置，被設定在遠離波長選擇過濾器3和偏振器4等光學部件的位置上。
[0028]使光源2從光照射位置Pl移動至維護位置P2時，通過掃描方向后方的導向輪13A在水平移動導桿IlA上移動，且掃描方向前方的導向輪13B在傾斜移動導桿IlB上移動，光源2的朝向以光照射側沿掃描方向的方式發生變化。
[0029]圖3是表不形態不同的光照射部的例子。圖3 (a)是俯視圖，圖3 (b)是顯不光源的移動狀態的側視圖。該例子中，光照射部10的光源2被并列配置有多個光源單元2U。每一個光源單元2U的