光學膜的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明設及一種光學膜的制造方法。
【背景技術】
[0002] 在液晶顯示裝置中使用各種光學膜。其中，通過實施摩擦處理對液晶層賦予取向 性的光學膜已為人所知。該光學膜例如是通過W下方式制造；使具有取向層形成層的支撐 體連續移動，對取向層形成層實施摩擦處理而形成取向層，在取向層上涂布含有交聯性液 晶性化合物的涂布液，接著加W干燥，然后使之硬化而形成液晶層。
[0003] 在制造該種光學膜時的摩擦處理中，由取向不良所引起的表面缺陷成問題。已提 出了用來減少該缺陷的方法。例如專利文獻1公開了W下方法：在摩擦處理時從支撐體的 背面側施加流體壓力，將支撐體按壓在摩擦漉上，由此減少由取向不良引起的表面缺陷。
[0004][現有技術文獻]
[0005][專利文獻]
[0006][專利文獻1]日本專利特開2006-267919號公報
【發明內容】
[0007][發明所欲解決的問題]
[0008] 但是近年來，對光學膜的表面缺陷的品質要求不斷提高。已判明特別是在相對于 支撐體的搬送方向而傾斜配置摩擦漉的情況下，有時光學膜中產生由取向不良所引起的表 面缺陷。
[0009] 本發明是鑒于該種情況而成，其目的在于提供一種光學膜的制造方法，所述光學 膜的制造方法在制造光學膜時的摩擦處理中，可減少由取向不良所引起的表面缺陷。
[0010] [解決問題的手段]
[0011] 第一實施形態的光學膜的制造方法至少包括W下工序：將在第一面上具有取向層 形成層的連續的支撐體加W搬送；為了形成取向層而進行摩擦處理，所述摩擦處理在相對 于與搬送方向正交的寬度方向而W摩擦角a配置的摩擦漉上，W包繞角0卷繞支撐體并 賦予第一按壓力F1，且對支撐體的第二面噴附氣體而賦予第二按壓力F2,由此將支撐體按 壓在摩擦漉上，在此狀態下使取向層形成層與經旋轉驅動的摩擦漉接觸，并且第二按壓力 巧在支撐體的中央部高于支撐體的各端部；W及在經摩擦處理的取向層上涂布含有交聯 性液晶性化合物的涂布液。
[0012] 第二實施形態的光學膜的制造方法優選的是摩擦角a為5°~60°的范圍。
[0013] 第=實施形態的光學膜的制造方法優選的是支撐體的中屯、處的包繞角0為 3°~15。的范圍。
[0014] 第四實施形態的光學膜的制造方法優選的是僅對中央部賦予第二按壓力巧。
[001引[發明的效果]
[0016] 根據本發明的光學膜的制造方法，可減少摩擦處理中的由取向不良所引起的光學 膜的表面缺陷。
【附圖說明】
[0017]圖1為表示光學膜的制造流水線的概略構成圖。
[0018] 圖2為用來說明摩擦角a的說明圖。
[0019] 圖3為用來說明包繞角的說明圖。
[0020] 圖4(A)至圖4炬）為表示加工量的算出方法的說明圖。
[0021] 圖5為表示摩擦處理工序的裝置構成的概略構成圖。
[0022] 圖6為說明摩擦角a與包繞角0的關系的說明圖。
[0023] 圖7為說明摩擦角a與包繞角0的關系的說明圖。
[0024] 圖8為表示第一按壓力F1與支撐體的寬度方向的位置的關系的圖。
[0025] 圖9為表示合計按壓力F與支撐體的寬度方向的位置的關系的圖。
[0026] 圖10為說明支撐體的中央部與端部的說明圖。
[0027] 圖11 (A)至圖11似為表示第二按壓力巧的分布（profile)的圖。
[0028] 符號的說明
[002引20;制造流水線
[0030] 21A、21B;椿式涂布裝置
[0031] 25A、25B;除塵機
[0032] 26;網
[0033] 50;噴嘴
[0034] 50A;開口 [00巧]66 ;送出機
[0036]68 ;導漉
[0037] 72;摩擦漉
[0038] 76A、76B;干燥區
[003引 78A、78B;加熱區
[0040] 80;紫外線燈
[0041] 82;卷取機
[004引 86、88 ;支承漉
[004引90;檢查裝置
[0044] 92;層壓機
[0045] 94;保護膜
[0046]CL;中屯、線
[0047]F;合計按壓力
[004引F1;第一按壓力
[004引F2;第二按壓力
[0050]X1、Y1、Y2、Y、Z;距離
[0051]a;摩擦角
[0052] 0、0 1、0 2;包繞角
[00閲 y;動摩擦系數
【具體實施方式】
[0054] W下，根據附圖對本發明的優選實施形態加W說明。本發明是通過W下的優選實 施形態來進行說明。可在不偏離本發明的范圍的情況下，通過多種方法進行變更，且可利用 本實施形態W外的其他實施形態。因此，本發明的范圍內的所有變更包括在權利要求的范 圍內。
[00巧]該里，圖中W同一記號表示的部分為具有相同功能的相同要素。另外，本說明書 中，在使用"~"表示數值范圍的情況下，視為"~"所表示的上限、下限的數值也包括在數 值范圍內。
[0056] 參照圖1的制造流水線20來對本實施形態的光學膜的制造方法進行說明。在光學 膜的制造流水線20中，將卷形狀的連續的支撐體26設置在送出機66中。從送出機66中 送出支撐體26,向下游的工序搬送。所送出的支撐體26是由導漉68所引導，向除塵機25A 搬送。通過除塵機25A將附著在支撐體26的表面上的灰塵除去。
[0057] 例如，支撐體26是從送出機66中WIm/min~50m/min的搬送速度送出。但是， 不限定于該搬送速度。另外，在送出時，例如對支撐體26施加25N/m~500N/m的張力。從 防止皺權和防止由膜滑動所致的傷痕的觀點來看，優選為50N/m~300N/m。
[0058] 連續的支撐體26具有相向的第一面與第二面，且具有長條的形狀。支撐體26的 第一面與第二面的距離、即厚度優選為10ym~100ym。從所應用的產品的減小厚度的要 求和防止皺權的觀點來看，支撐體26更優選的是具有15ym~60ym的厚度。另外，支撐 體26例如具有300mm~1500mm的寬度，且具有100m~5000m的長度。支撐體26的厚度 及寬度是根據所應用的產品而適當選擇。支撐體26有時被稱為網（web)、膜、片（sheet)。
[0059] 支撐體26優選的是含有選自酷化纖維素（celluloseacylate)、環狀締姪、丙締 酸系樹脂、聚對苯二甲酸己二醋樹脂及聚碳酸醋樹脂中的至少一種作為主成分。另外，支撐 體26中，除了所述主成分的樹脂W外，例如可含有塑化劑、紫外線吸收劑等。
[0060] 將支撐體26搬送到設置在除塵機25A下游的椿式涂布裝置21A中。通過椿式涂 布裝置21A將含有取向層形成用樹脂的涂布液涂布在支撐體26上，在支撐體26的第一面 上形成含有取向層形成用樹脂的涂膜。另外，也可W采用其他涂布機構代替椿式涂布裝置 21A。其他涂布機構可W應用；凹版涂布機（gravurecoater)、漉式涂布機（轉送漉式涂布 機（transferrollcoater)、逆轉漉式涂布機（reverserollcoater)等）、模式涂布機 (diecoater)、擠壓式涂布機（extrusioncoater)、噴注式涂布機（fountaincoater)、簾 幕式涂布機（州rtaincoater)、浸潰涂布機（dipcoater)、噴霧涂布機（spraycoater)或 滑動料斗（slidehopper)等。
[0061] 用于取向層形成用樹脂的聚合物可使用其本身可交聯的聚合物或通過交聯劑而 交聯的聚合物的任一種。另外，也可使用多種該些聚合物的組合。聚合物的例子中，可W舉 出；聚甲基丙締酸甲醋、丙締酸/甲基丙締酸共聚物、苯己締/馬來酷亞胺共聚物、聚己締醇 及改性聚己締醇、聚（N-哲甲基丙締酷胺）、苯己締/7締基甲苯共聚物、氯橫化聚己締、硝基 纖維素、聚氯己締、氯化聚締姪、聚醋、聚酷亞胺、己酸己締醋/氯己締共聚物、己締/己酸己 締醋共聚物、駿甲基纖維素、明膠（gelatin)、聚己締、聚丙締及聚碳酸醋等聚合物及硅烷偶 合劑等化合物。優選聚合物的例子為聚（N-哲甲基丙締酷胺）、駿甲基纖維素、明膠、聚己締 醇及改性聚己締醇等水溶性聚合物，進而優選明膠、聚己締醇及改性聚己締醇，特別優選聚 己締醇及改性聚己締醇，尤其優選將聚合度不同的2種聚己締醇或改性聚己締醇并用。
[0062] 在第一面上形成有涂膜的支撐體26.被依次搬送到干燥區76A、加熱區78A中。通 過使含有取向層形成用樹脂的涂膜干燥，而在支撐體26的第一面上形成取向層形成層。在 第一面上形成有取向層形成層的支撐體26是由導漉68所引導，向摩擦處理的工序搬送。
[0063] 所謂摩擦處理，是指使用紙或紗布（gauze)、毛拉（felt)、橡膠或巧龍、聚醋纖維 等將取向層形成層的表面朝一定方向摩擦的處理。通常通過W下方式來實施：將平均地植 毛有長度及粗細度均勻的纖維的布等貼附在漉上，摩擦幾次左右。
[0064] 在摩擦處理的工序中，為了對取向層形成層實施摩擦處理而配置著摩擦漉72。摩 擦漉72是由圓筒狀的漉、及貼附在漉的外周面上的摩擦布所構成。摩擦布例如是由基布及 織入到基布中的絨頭紗線（pileyarn)所構成。例如，基布及絨頭紗線例如可W使用選自 W下材料中的一