數據修正裝置、繪圖裝置、數據修正方法和繪圖方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及基于基板上的記號位置信息，對基板上所繪制圖像的繪圖數據進行修正的技術。
【背景技術】
[0002]歷來，半導體基板和印刷基板，或等離子顯示器和液晶顯示器中的玻璃基板(以下簡稱“基板”)上的感光材料經過光的照射，來進行繪圖(描畫圖案)。近年來，隨著圖案(pattern)的高度精細化，開始利用在感光材料上通過光束掃描直接繪制圖案的繪圖裝置。
[0003]就所述繪圖裝置，在基板發生反拱、歪斜、翹曲等變形時，會結合變形程度修正繪圖數據。按如下方式修正繪圖數據:通常先測定設在基板上的定位標記等記號位置，根據測定結果計算出基板上各位置的位移，然后把各位置的繪圖數據調節至與該位移相適應。
[0004]例如，在JP特開2008-3441號公報(文獻I)中，根據用于構成包圍繪圖數據的矩形的四個目標信息位置，計算出繪圖數據的修正值。通過這樣，可對繪圖數據附近局部的基板變形所對應的繪圖數據進行修正。在JP特開2012-79739號公報(文獻2)中，基于基板上以格子狀分布的多個基準點的位移使基板的變形近似曲線化，進而修正繪圖數據。通過這樣，可把握基板的大范圍變形(如基板整體彎曲)，準確修正繪圖數據。
[0005]然而，在JP特開2012-198313號公報(文獻3)中的繪圖裝置中，修正繪圖數據的手段包括基于三個修正觀點的三種修正算法。繪圖裝置的操作人員，結合基板種類和變形程度等選擇修正算法，運用所選修正算法修正繪圖數據。
[0006]另外，在文獻3中的繪圖裝置中，操作人員結合提前所獲知的基板變形等情況選擇修正算法。但所選修正算法是否比其他修正算法更合適尚不明確。
【發明內容】
[0007]本發明面向數據修正裝置，基于基板上的記號位置信息，對基板上繪制的圖像的繪圖數據進行修正。本發明的目的是自動選擇合適的修正方式。
[0008]本發明的數據修正裝置，包括:設計位置存儲部，其存儲記號集合的設計位置，所述記號集合是指，位于基板上并且用于修正繪圖數據的多個記號；測定位置取得部，其取得所述記號集合的測定位置；記號評估值計算部，其基于除了從所述記號集合中選出的關注記號群之外的剩余記號群的測定位置和設計位置，通過算法相異的多個修正方式，分別對所述關注記號群的設計位置進行修正，來獲取修正位置，針對各修正方式求出目標評估值，所述目標評估值表示所述關注記號群的所述修正位置和測定位置之間的偏差；修正方式評估值計算部，其以與所述各修正方式相關的方式，基于通過所述記號評估值計算部針對至少一種關注記號群求出的記號評估值，求出表示所述各修正方式的修正精度的修正方式評估值；修正方式選擇部，其對多個所述修正方式的修正方式評估值進行比較，選擇修正精度最高的修正方式；繪圖數據修正部，其利用由所述修正方式選擇部選擇的所述修正方式，來修正所述繪圖數據。通過該數據修正裝置可自動選擇合適的修正方式。
[0009]本發明的一個優選實施方式是，所述關注記號群是一個記號。
[0010]在本發明的其他優選實施方式中，
[0011]所述記號評估值計算部，針對所述各修正方式，求出將所述記號集合所含的全部記號分別作為關注記號群時的記號評估值；所述修正方式評估值計算部，針對所述各修正方式，基于所述全部記號的記號評估值來求出修正方式評估值。
[0012]在本發明的其他優選實施方式中，所述記號評估值，是所述關注記號群的所述修正位置和所述測定位置之間的距離；所述修正方式評估值，是所述至少一種關注記號群的記號評估值的總和；所述修正方式選擇部，選擇所述修正方式評估值最小的修正方式。
[0013]在本發明的其他優選實施方式中，所述記號評估值，是所述關注記號群的所述修正位置和所述測定位置之間的距離；所述修正方式評估值，是所述至少一種關注記號群的記號評估值的最大值；所述修正方式選擇部，選擇所述修正方式評估值最小的修正方式。
[0014]在本發明的其他優選實施方式中，所述測定位置取得部包括:攝像部，其拍攝所述記號集合；測定位置計算部，其根據通過所述攝像部獲取的圖像，求出所述記號集合的所述測定位置。
[0015]本發明還提供在基板上繪圖的繪圖裝置。本發明相關的繪圖裝置包括:
[0016]光源；上述數據修正裝置；光調制部，其基于由所述數據修正裝置修正的繪圖數據，對來自所述光源的光進行調制；掃描機構，其使由所述光調制部調制的光在基板上掃描。
[0017]本發明還提供數據修正方法以及在基板上繪圖的繪圖方法，基于基板上的記號位置信息，修正基板上所繪制的圖像的繪圖數據。
[0018]通過參照附圖及下述關于該發明的詳細說明，可以明確所述目的及其他目的、特征、方式和優點。
【附圖說明】
[0019]圖1是表示繪圖裝置的結構的圖。
[0020]圖2是表示數據處理裝置功能的框圖。
[0021]圖3A是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0022]圖3B是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0023]圖3C是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0024]圖3D是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0025]圖3E是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0026]圖3F是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0027]圖3G是用于對繪圖數據修正處理的基本概念進行說明的圖。
[0028]圖4是表不基板上記號集合的俯視圖。
[0029]圖5是表示繪圖數據的修正流程的圖。
[0030]圖6是表示繪圖數據修正流程的一部分的圖。
[0031]圖7是表示繪圖數據修正流程的一部分的圖。
[0032]附圖標記說明
[0033]I繪圖裝置
[0034]2數據處理裝置
[0035]3曝光裝置
[0036]9 基板
[0037]34攝像部
[0038]35掃描機構
[0039]80記號集合
[0040]81 記號
[0041]221設計位置存儲部
[0042]222測定位置取得部
[0043]223記號評估值計算部
[0044]224修正方式評估值計算部
[0045]225修正方式選擇部
[0046]226繪圖數據修正部
[0047]228測定位置計算部
[0048]331 光源
[0049]332光調制部
[0050]Sll ?S18，S121，S122，S131 ?S135 步驟
【具體實施方式】
[0051]圖1是表示本發明一個實施方式的繪圖裝置I的結構的圖。繪圖裝置I是直描裝置，其對設在印刷基板、半導體基板、液晶基板等(以下總稱“基板”)的表面上的感光材料照射光，從而在基板上直接繪制電路圖案等圖像。
[0052]繪圖裝置I包括數據處理裝置2和曝光裝置3。數據處理裝置2生成并修正繪圖數據。數據處理2是普通的計算機系統，包括處理各種計算的CPU、存儲基本程序的ROM和存儲各種信息的RAM等。曝光裝置3在基板9上繪制(即曝光)從數據處理裝置2傳送來的繪圖數據。若能夠在數據處理裝置2和曝光裝置3之間交接數據，則兩者可不必設在一起，在物理位置上可分離。
[0053]圖2是表示數據處理裝置功能的框圖。數據處理裝置2包括數據修正部21和數據修正部22。將由圖案設計裝置4生成的圖案數據作為要在基板9上繪制圖像的繪圖數據，而輸入至數據轉換部21。圖案數據指電路圖案等圖像的設計數據。圖案數據通常指多邊形等向量數據。數據轉換部21將圖案數據轉換為光柵數據。