用于遠紫外光源的視口保護器的制造方法
【技術領域】
[0001]所公開的主題涉及一種用于遠紫外(EUV)光源的視口保護器。
【背景技術】
[0002]例如具有大約50nm或更小波長(有時也被稱作軟x光線)并且包括波長大約為13nm的光的電磁輻射的遠紫外(EUV)光能夠在光刻處理中用來在例如硅晶片的襯底中產生極小的特征。
[0003]用于產生EUV光的方法包括但并非必然局限于將材料轉換為等離子態，后者具有例如氙、鋰或錫的元素，具有EUV范圍內的發射譜線。在一種經常被稱作激光等離子(LPP)的這樣的方法中，所需要的等離子可以通過利用可以被稱作驅動激光的放大光束對目標材料進行照射而產生，上述目標材料例如為材料的微滴、流或群集(cluster)的形式。針對該處理，等離子通常在例如真空腔室的密封容器中產生，并且使用各種類型的計量設備進行監視。
【發明內容】
[0004]在一個總體方面，一種配件包括用于真空腔室的視口的保護器。該保護器包括襯底材料，其吸收具有放大光束的波長的輻射以及具有目標材料的發射光譜中所包括的波長的福射，上述目標材料在被放大光束所離子化時產生EUV光。襯底材料傳送可見光或近紅外光中的一種或多種。保護器還包括形成于襯底材料上的層，并且該層反射具有放大光束的波長的輻射。該配件還包括保持該保護器的安裝件，其中該層面向真空腔室的內部。
[0005]實施方式可以包括以下一個或多個特征。該襯底材料可以為玻璃薄膜。該放大光束可以具有大約10.6μπι的波長。該層能夠透射可見輻射或近紅外輻射中的一種或多種。在一些實施方式中，該層僅透射具有845nm和865nm、800nm和840nm、或者1050nm和1090nm之間的頻帶中的波長的輻射。該安裝件可以包括接收并包圍該保護器的保持器，并且該保持器與該視口所定義的開孔相配合。該安裝件可以進一步包括鎖定部件，其將該保護器固定在該保持器中。該保持器和鎖定部件可以為環形。該鎖定部件和保持器可以具有相對應的螺紋，并且鎖定部件可以被旋入保持器中以將該保護器固定在該保持器中。該視口的至少一部分可以是安裝件的至少一部分。該層可以反射具有目標材料的發射光譜中所包括的波長的輻射，上述目標材料在被該放大光束所離子化時產生EUV光。發射光譜中所包括的波長與放大光束的波長可以有所不同。
[0006]在另一個總體方面，一種遠紫外(EUV)光源包括接收放大光束的真空腔室、耦合至真空腔室的視口、和耦合至該視口并且面向去往真空腔室內部的開口的保護器。該真空腔室包括側壁，其定義了去往真空腔室內部的開口。該保護器包括襯底材料，其吸收具有放大光束的波長以及目標材料的發射光譜中所包括的波長的福射，上述目標材料在被該放大光束所離子化時產生EUV光，并且該襯底材料透射可見光或近紅外光中的一種或多種。該保護器還包括形成于襯底材料上的層。該層反射具有該放大光束的波長的輻射。
[0007]實施方式可以包括以下一個或多個特征。安裝件可以被配置為將保護器耦合至視口。襯底可以是玻璃薄膜。視口可以包括定義開孔的環形盤片，并且保護器可以通過將保護器置于視口中而使得該保護器的該層面向真空腔室的內部并且保護器的中心與開孔的中心相對應而被耦合至該視口。該安裝件可以包括標準銅墊圈，其被配置為放置在視口和真空腔室之間。該層能夠透射可見輻射或近紅外輻射中的一種或多種。
[0008]在另一個總體方面，一種用于保護遠紫外(EUV)光源的視口的方法包括將保護器安裝在視口中，該保護器包括吸收第一光譜帶中的輻射并且透射第二光譜帶中的輻射的襯底，以及處于該襯底上的反射第一光譜帶中的輻射的層，其中該視口包括窗口材料和凸緣。墊圈被放置在視口和耦合至由真空腔室所定義的開口的閥門配件之間，并且在視口和真空腔室的內部形成真空密封。
[0009]實施方式可以包括以下一個或多個特征。該第一光譜帶可以包括10.6 μm。該保護器可以被置于視口中的保持器中，并且將保護器安裝在視口中可以包括將該保持器放置在視口中。
[0010]在另一個總體方面，一種用于遠紫外(EUV)光源的安裝件包括保持器，其接收保護器并且被置于視口之中，該視口被配置為利用標準墊圈密封至真空腔室。該保持器定義了縱向軸線并且包括定義中心位于該縱向軸線上的通道的側壁。該安裝件還包括鎖定部件，其定義開孔并且具有與該保持器的內表面相連接的外表面，其中將鎖定部件連接至保持器以將該保護器固定在該保持器中，其中保護器沿縱向軸線基本上沒有阻擋。
[0011]以上所描述的任意技術的實施方式可以包括一種視口配件、一種視口保護器、一種用于保持視口保護器的安裝件、一種包括具有視口保護器的視口的真空腔室、一種裝置、一種系統、一種用于利用視口保護器改裝現有視口的套件或者一種方法。一種或多種實施方式的細節在以下的附圖和描述中給出。其它特征將由于該描述和附圖以及由于權利要求而是顯而易見的。
【附圖說明】
[0012]圖1是激光誘導的等離子遠紫外(EUV)光源的框圖。
[0013]圖2A是用于EUV光源的示例真空腔室的側視圖。
[0014]圖2B是隨圖2A的真空腔室所使用的示例觀察配件的側視圖。
[0015]圖2C是示例視口保護器的透視圖。
[0016]圖2D是沿直線2D-2D所取的圖2B的觀察配件的截面圖。
[0017]圖2E是沿直線2E-2E所取的圖2A的真空腔室的截面圖。
[0018]圖3A是示例視口配件的分解透視圖。
[0019]圖3B是圖3A的視口配件的透視圖。
[0020]圖3C是隨真空腔室的圖3A和3B的視口配件的側視圖。
[0021]圖3D是圖3A的視口配件的頂部視圖。
[0022]圖3E是沿直線3D-3D所取的圖3D的視口配件的側方截面圖。
[0023]圖4A是另一個示例視口配件的分解透視圖。
[0024]圖4B是圖4A的視口配件的透視圖。
[0025]圖4C是隨真空腔室使用的圖4A和4B的視口配件的側視圖。
[0026]圖5是用于保護視口的示例處理。
【具體實施方式】
[0027]公開了一種用于防止遠紫外(EUV)光源的視口(viewport)的輻射發熱或者使其最小化的保護器。視口是相對于真空容器的壁所定義的開口而定位的觀察機制，并且視口包括能夠通過其看到該真空容器內部的窗口材料。在光源工作期間，該窗口材料能夠被處于真空容器內的光所輻射加熱。例如，窗口材料能夠通過吸收真空容器內的一些光而被加熱。加熱該窗口材料能夠使得該窗口破裂和/或發生熱透鏡效應。
[0028]該保護器相對于真空腔室的內部進行定位而使得該保護器將能夠加熱窗口材料的光反射回該真空腔室之中。可替換地或除此之外，該保護器能夠吸收一些或全部的能夠加熱窗口材料的光以防止或減少窗口材料的發熱。能夠加熱窗口材料的光可以包括具有被該窗口材料所吸收的波長的光。通過將能夠加熱窗口材料的光反射到真空腔室內部，和/或通過在能夠加熱窗口材料的光到達窗口材料之前對其進行吸收，該保護器防止或實質性地減少了窗口材料的輻射發熱。該保護器可以是玻璃薄膜，其具有能夠對窗口材料和該玻璃薄膜進行輻射加熱的光進行反射的涂層。
[0029]EUV光能夠通過將諸如錫的具有EUV范圍中的發射譜線的目標材料轉換為等離子態而產生。在一種示例技術中，通過利用真空腔室中的放大光束對目標材料進行照射而將該目標材料轉換為等離子態。轉換為等離子態在目標材料的發射光譜中釋放輻射。除了EUV光之外，該發射光譜可以包括深紫外(DUV)光、可見光、近紅外(NIR)光和中波長紅外(MWIR)光。另外，該放大光束與目標材料之間的相互作用散射和反射該放大光束。經散射和反射的放大光束被稱作入射光。該入射光還包括從經轉換的等離子所發射的光。
[0030]在沒有保護器的情況下，一些入射光一特別是被反射的放大光束以及從等離子發射所生成的紅外光一能夠被窗口材料所吸收，并且因此對視口的窗口材料進行加熱。該加熱會導致窗口材料上的熱梯度并且會導致破裂和/或熱透鏡效應。窗口材料的破裂會導致通過損毀真空密封而導致系統故障。熱透鏡效應會使得通過視口對真空腔室內部進行成像的計量模塊所收集的圖像發生失真。由于來自計量模塊的圖像被用于系統診斷、諸如對目標材料微滴的流的操控，所以失真圖像會降低系統性能。
[0031]如以下更為詳細討論的，該保護器減少或消除了視口的窗口材料的發熱，因此提高了 EUV光源的性能。此外，該保護器還通過允許放大光束以更高占空比進行操作而有助于增加所產生的EUV光的數量。提高的占空比產生更多的EUV光，但是也產生更多的入射光，這會導致視口的窗口材料的發熱有所增加。因此，該保護器還可以允許光源在產生更多EUV光的同時還減少系統故障或性能下降的機會。
[0032]在提供對視口保護器更為詳細的描述之前，首先將對LPP EUV光源的組件進行描述。
[0033]參考圖1，LPP EUV光源100通過利用放大光束110對位于目標位置105的目標混合物114進行照射而形成，上述放大光束110沿光束路徑去往目標位置105。也被稱作照射點的目標位置105處于真空腔室130的內部107。當放大光束110撞擊到目標混合物114時，目標混合物114內的目標材料被轉換為具有其發射譜線處于EUV范圍內的元素的等離子態。所形成的等離子具有取決于目標混合物114內的目標材料的構成的某些特性。這些特性可以包括等離子所產生的EUV光的波長以及從等離子所釋放的碎肩(debris)的類型及數量。
[0034]光源100還包括目標材料輸送系統125，其對液滴、液體流、固態顆粒或群集形式的目標混合物114進行輸送、控制和引導，固態顆粒包含在液滴內或固體顆粒包含在液體流內。目標混合物114包括目標材料，例如水、錫、鋰、氣或者在被轉換為等離子態時具